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- [发明专利]成膜装置和成膜处理方法-CN201911364275.2有效
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神尾卓史;齐藤哲也;盐野海
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东京毅力科创株式会社
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2019-12-26
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2022-10-14
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C23C16/455
- 本发明提供一种成膜装置和成膜处理方法。提供一种能够使基板处理的面内均匀性提高并且抑制微粒的技术。提供一种成膜装置，该成膜装置具备：处理容器，其在内部形成真空气氛；载置台，其用于载置基板，具有设置到所述处理容器内的加热部件；气体喷出机构，其设置到与所述载置台相对的位置；以及排气部件，其从所述处理容器内排气，所述气体喷出机构包括：气体导入口，其用于向所述处理容器内导入处理气体；第1板状构件，其在比所述气体导入口靠外侧的位置具有第1开口部；以及喷淋板，其设置于所述第1板状构件与所述载置台之间，从所述第1开口部经由多个气孔向工艺空间供给所述处理气体。
- 装置处理方法
- [发明专利]基板处理装置和基板的交接方法-CN202010600872.7在审
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我妻雄一郎;朝仓贤太朗;齐藤哲也;渡边将久
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东京毅力科创株式会社
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2020-06-28
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2021-01-05
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H01L21/687
- 本发明提供基板处理装置和基板的交接方法。在将基板利用载置台加热、冷却的情况下，改善基板的温度的面内均匀性，防止基板支承销折断。基板处理装置包括：具有沿上下方向贯通载置台的贯通孔的载置台，其在上表面载置基板，并对基板进行加热和/或冷却；设有贯穿贯通孔且能够自载置台的上表面突出的贯穿部的基板支承销；能够支承基板支承销的销支承构件，基板支承销设有位于比载置台的下表面靠下侧的凸缘部，销支承构件利用与凸缘部的卡合来支承基板支承销，载置台的贯通孔比基板支承销的凸缘部细，基板支承销具有包含凸缘部的第1构件和与第1构件独立且包含贯穿部的第2构件，第1构件具有载置第2构件且将其支承为滑动自如的滑动面。
- 处理装置交接方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202010275474.2在审
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齐藤哲也;我妻雄一郎
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东京毅力科创株式会社
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2020-04-09
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2020-10-27
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H01L21/687
- 本发明提供一种基板处理装置。在利用载置台加热或冷却被载置到该载置台的基板的情况下，改善基板的温度的面内均匀性。一种基板处理装置，其是对基板进行处理的基板处理装置，其具备：载置台，其具有在上下方向上贯通的贯通孔，在上表面载置基板并进行所载置的该基板的加热和冷却中的至少任一者；升降销，其构成为，贯穿所述贯通孔，并且能够经由所述贯通孔从所述载置台的上表面突出；以及支承构件，其构成为能够支承所述升降销，所述升降销具有位于比所述载置台的下表面靠下侧的位置的凸缘部，所述支承构件通过与所述凸缘部卡合来支承所述升降销，所述载置台的所述贯通孔比所述升降销的所述凸缘部细。
- 处理装置
- [发明专利]打印设备、打印设备的控制方法和存储介质-CN201811229638.7有效
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谷口央;齐藤哲也;国广俊一
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佳能株式会社
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2015-06-04
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2020-06-30
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B41J13/00
- 本发明涉及一种打印设备、打印设备的控制方法和存储介质。打印设备包括：进给单元，进给打印薄片；输送单元，输送进给单元进给的打印薄片；打印单元，能够基于打印数据对输送单元所输送的打印薄片的第一面和第二面进行打印；反转单元，使打印薄片从第一面反转为第二面；以及控制单元，进行对多个打印薄片的第一面连续打印而不对第二面打印的第一打印序列、对打印薄片的第一面和第二面双面打印的第二打印序列，在第一打印序列的情况下，控制单元使进给单元以后一薄片的前端与前一薄片的后端分开预定间距的方式进给前一薄片和后一薄片，然后形成后一薄片的前端与前一薄片相重叠的重叠状态，在第二打印序列的情况下，控制单元不形成重叠状态。
- 打印设备控制方法存储介质
- [发明专利]打印设备和打印设备的控制方法-CN201510303367.5有效
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谷口央;齐藤哲也;国广俊一
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佳能株式会社
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2015-06-04
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2018-10-30
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B41J11/00
- 本发明涉及一种打印设备和打印设备的控制方法。所述打印设备包括：进给单元，用于进给堆叠单元上所堆叠的打印薄片；输送单元，用于输送所述进给单元所进给的打印薄片；打印单元，用于对所述输送单元所输送的打印薄片进行打印；以及控制单元，用于控制所述进给单元和所述输送单元。在对多个打印薄片的第一面进行连续打印的情况下，所述进给单元形成前一薄片的后端和后一薄片的前端彼此重叠的重叠状态，并且所述输送单元在保持所述重叠状态的同时输送打印薄片。在对打印薄片的第一面和第二面进行双面打印的情况下，所述进给单元不形成所述重叠状态。
- 打印设备控制方法
- [发明专利]载置台构造和处理装置-CN201080055569.8无效
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川崎裕雄;齐藤哲也;长冈秀树;村冈贵志;山本弘彦
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东京毅力科创株式会社
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2010-12-20
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2012-09-12
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H01L21/683
- 本发明涉及设置于能够进行排气的处理容器内并用于载置应处理的被处理体的载置台构造。本发明的载置台构造包括：载置台，在板状的载置台主体上支承用于载置所述被处理体的热扩散板，并且在所述载置台主体与所述热扩散板的交界部分设置气体扩散室；设置于所述载置台的加热单元；一个或者多个支柱管，用于支承所述载置台，从所述处理容器的底部立起设置，其上端部与所述载置台的下表面连接，并且与所述气体扩散室连通，流过吹扫气体；载置台罩部件，其以覆盖所述载置台主体的侧面和下表面的方式设置；和支柱管罩部件，其包围所述支柱管的周围，并且上端部与所述载置台罩部件连结，从所述气体扩散室向下方引导流过所述载置台主体与所述载置台罩部件之间的间隙的所述吹扫气体，使所述吹扫气体从气体出口排出。
- 载置台构造处理装置
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