专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于铁顶栅的及其制备方法与调控方法-CN202210392593.5在审
  • 韩素婷;吕子玉;周晔;高展;王燕;罗明涛;张宇琦 - 深圳大学
  • 2022-04-14 - 2022-07-29 - H01L45/00
  • 本发明公开一种基于铁顶栅的及其制备方法与调控方法。所述包括:衬底、间隔设置于所述衬底上的第一电极和第二电极、设置于所述第一电极和第二电极之间的变层、设置于所述变层上的铁层、设置于所述铁层上的顶栅极。本发明利用铁效应调控的存储效应,可实现行为的双向、非易性调控;铁效应也可在调控过程中,优化器件的存储性能,如降低器件操作电压,多比特存储和快速写入/擦除操作。铁层的引入也使得器件可在两种模式下完成编程:其一,铁层处于未极化翻转状态下,是单独的电场作用下完成电阻切换;其二,铁层处于极化翻转状态,铁电场和电场的共同作用完成电阻切换。
  • 一种基于铁电顶栅忆阻器及其制备方法调控
  • [发明专利]具有dropout功能的器件、器件阵列及制造方法-CN202211295383.0在审
  • 张亦舒;凡雪蒙 - 浙江大学杭州国际科创中心
  • 2022-10-21 - 2022-12-13 - H01L45/00
  • 本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种具有dropout功能的器件、器件阵列及制造方法。本发明的具有dropout功能的器件包括逐层依次设置的第一电极、铁材料层、二维石墨烯材料层、易性器件电介质层和银电极所形成的垂直异质结构,其中二维石墨烯材料层充当银离子的阻挡层,在二维石墨烯材料层的帮助下,本发明实施例的器件实现易性和非易性动态行为的结合。易性的银导电丝在易性器件电介质层中的随机动态生长过程能够抑制潜行电流的同时实现dropout功能,而非易性的铁材料层通过铁电极化翻转能够实现高性能的突触可塑性行为。
  • 具有dropout功能器件阵列制造方法
  • [发明专利]基于a-SiOx-CN201810893394.6有效
  • 李伟;宋宇浩;次会聚;董湘;袁余涵;李东阳;蒋向东 - 电子科技大学
  • 2018-08-07 - 2020-04-14 - H01L45/00
  • 基于a‑SiOxNy效应的SPR神经突触器件及其制备方法,属于仿生器件技术领域。本发明将晶体硅棱镜与“顶电极/a‑SiOxNy∶金属纳米颗粒双变层/底电极”结构耦合,使得调制下光信号经晶体硅棱镜射入至双变层,并运用表面等离子体共振(SPR)效应,使得器件工作过程中变层的介电常数变化信息以光信号进行读取,进而实现器件突触权重的光读取。本发明所提出的“调制,光读取”神经突触器件具有传统“调制,读取”神经突触器件无法比拟的优势,因其不仅具有传统低能耗、非易性等特性,而且还具有光作为信息载体进行信号处理带宽大、抗电磁干扰能力强的优势
  • 基于siobasesub
  • [发明专利]基于a-SiOx-CN201810893390.8有效
  • 李伟;宋宇浩;次会聚;董湘;袁余涵;李东阳;蒋向东 - 电子科技大学
  • 2018-08-07 - 2020-04-14 - H01L45/00
  • 基于a‑SiOx效应的SPR神经突触器件及其制备方法,属于仿生器件技术领域。本发明将K9玻璃棱镜与“顶电极/a‑SiOx∶金属纳米颗粒双变层/底电极”结构耦合,使得调制下光信号经K9玻璃棱镜射入至双变层,并运用表面等离子体共振(SPR)效应,使得器件工作过程中变层的介电常数变化信息以光信号进行读取,进而实现器件突触权重的光读取。本发明所提出的“调制,光读取”神经突触器件具有传统“调制,读取”神经突触器件无法比拟的优势,因其不仅具有传统低能耗、非易性等特性,而且还具有光作为信息载体进行信号处理带宽大、抗电磁干扰能力强的优势
  • 基于siobasesub
  • [发明专利]基于a-SiNx-CN201810893392.7有效
  • 李东阳;次会聚;宋宇浩;陈奕丞;袁余涵;李伟;蒋向东 - 电子科技大学
  • 2018-08-07 - 2020-07-31 - H01L45/00
  • 基于a‑SiNx效应的SPR神经突触器件及其制备方法,属于仿生器件技术领域。本发明将晶体硅棱镜与“顶电极/a‑SiNx∶金属纳米颗粒双变层/底电极”结构耦合,使得调制下光信号经晶体硅棱镜射入至双变层,并运用表面等离子体共振(SPR)效应,使得器件工作过程中变层的介电常数变化信息以光信号进行读取,进而实现器件突触权重的光读取。本发明所提出的“调制,光读取”神经突触器件具有传统“调制,读取”神经突触器件无法比拟的优势,因其不仅具有传统低能耗、非易性等特性,而且还具有光作为信息载体进行信号处理带宽大、抗电磁干扰能力强的优势
  • 基于sinbasesub
  • [发明专利]高集成度选通及其制备方法-CN202211509885.9在审
  • 段瑞斌;邱晨光;孟德欢 - 湘潭大学;北京大学
  • 2022-11-29 - 2023-03-03 - H10B51/30
  • 本发明涉及一种高集成度选通及其制备方法,属于微电子器件技术领域,该选通包括一MOSFET晶体管和一铁隧道结,MOSFET晶体管和铁隧道结均包括第一共用电极、第二共用电极、共用半导体层、第一石墨烯层和第二石墨烯层本申请提供的高集成度选通及其制备方法,将MOSFET晶体管和铁隧道结结合,具有抑制交叉开关矩阵阵列的旁路电流的能力;同时,将MOSFET和铁隧道结混合,具有高开关速度、非易性、低功耗、高可扩展性以及与CMOS工艺相兼容等特点;此外,高集成度选通及其制备方法省略MOSFET晶体管的源金属电极,直接将MOSFET晶体管的半导体源端扩展部分作为铁隧道结的一端,能够充分实现1T1R存储功能,大大提高了器件的集成度
  • 集成度选通忆阻器及其制备方法

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