专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种面内超高密度铁电存储器阵列及其制备方法-CN202310475822.4在审
  • 江安全;孙杰;李一鸣;胡笛 - 复旦大学
  • 2023-04-28 - 2023-07-21 - H10B69/00
  • 本发明属于存储技术领域,具体为一种面内超高密度铁电存储器阵列及其制备方法。本发明的面内密排读写铁电存储单元和电极呈周期性排列,电极通过三维互联导电柱引出,包括面外第一、二字线层的三维互联字线分别与第一、三导电柱阵列相连;包括面外第一、二位线层的三维互联位线分别与第二、四导电柱阵列相连;字线层和位线层内分布着平行电极,且相互垂直,形成交叉棒阵列,面内交点为铁电存储单元,位于面内相邻电极的间隙区域,可以进行高密度数据的读写。本发明的面内密排铁电存储器阵列能够提高存储密度,最高可达2F2,F为半导体制造的特征工艺尺寸,适用于制造超高密度存储器件,且制备简单、成本低。
  • 一种超高密度存储器阵列及其制备方法
  • [发明专利]一种铁电存储器及电子设备-CN202080104665.0在审
  • 江安全;杨喜超;张岩;江钧;汪超;魏侠;秦健鹰 - 华为技术有限公司;复旦大学
  • 2020-11-20 - 2023-07-21 - G11C11/22
  • 一种铁电存储器及电子设备,涉及铁电存储技术领域,用于对铁电存储元件(20)的开启电压进行调节。该铁电存储器包括基底(200)以及设置在基底(200)上的第一电压线、第二电压线以及铁电存储元件(20);铁电存储元件(20)包括设置在基底(200)上的铁电薄膜层(201);铁电薄膜层(201)包括向远离基底(200)一侧凸起的铁电存储单元(2011);铁电存储元件(20)还包括相对设置于铁电存储单元(2011)两侧的第一电极(202)和第二电极(203);第一电极(202)与铁电存储单元(2011)的第一表面和侧面均接触,第二电极(203)与铁电存储单元(2011)的第一表面和/或侧面接触;第一表面为铁电存储单元(2011)的与基底(200)平行且远离基底(200)的表面;其中,第一电极(202)与第一电压线电连接;第二电极(203)与第二电压线电连接。
  • 一种存储器电子设备
  • [发明专利]一种剥离铁电单晶薄膜的方法-CN201910690097.6有效
  • 江安全;陈一凡;张岩;江钧;柴晓杰 - 复旦大学
  • 2019-07-29 - 2023-07-04 - H01L21/683
  • 本发明涉及一种剥离铁电单晶薄膜的方法,包括以下步骤:使用质子交换法在铁电单晶材料表面形成厚度可控的贫Li离子的第二相单晶层;采用离子注入法剥离出铁电单晶材料表面发生质子交换的所述第二相单晶层,获得薄膜层;使用反质子交换法补充所述薄膜层中缺失的Li离子,将薄膜层还原至原先铁电单晶材料的晶体结构和化学配比。与现有技术相比,本发明将质子交换法和离子束剥离技术相结合,降低使用离子束剥离制造大面积铁电单晶薄膜的难度,使离子束剥离铁电单晶薄膜更加有效快捷,可应用于铁电存储器和铁电晶体管制造等领域,降低铁电存储材料的制造成本,提高制造效率。
  • 一种剥离铁电单晶薄膜方法
  • [发明专利]具有超高介电常数和/或铁电剩余极化强度的介质薄膜和器件的制备方法及器件-CN202211209910.1在审
  • 江安全;张文笛;江钧 - 复旦大学
  • 2022-09-30 - 2022-12-20 - H01L23/64
  • 本发明公开了一种具有超高介电常数和/或铁电剩余极化强度的介质薄膜和器件的制备方法及器件。该方法包含:步骤a,在衬底上或附有第二电极的衬底上形成介质薄膜;该介质薄膜包含Hf1‑xZrxO2薄膜,其为晶体或非晶态薄膜;0≤x≤1;步骤b,在所述介质薄膜上形成第一电极;步骤c,将第一电极分割为若干离散的微结构,每个微结构的横向尺寸为1nm~50μm;步骤d,退火处理,使得所述介质薄膜中低介电常数相减少,高介电常数相增加。采用本发明的方法提供的超高介电常数和/或铁电剩余极化强度的介质薄膜和器件,最高介电常数和铁电剩余极化强度分别可大于921和404μC/cm2,信息存储密度高,能够有效地降低器件的操作电压和漏电流,且与CMOS集成工艺兼容性良好,应用前景良好。
  • 具有超高介电常数剩余极化强度介质薄膜器件制备方法
  • [发明专利]通过金属扩散调节铁电存储器表面层有效厚度的方法-CN202110577778.9有效
  • 江安全;庄晓;柴晓杰;江钧;孙杰;张文笛 - 复旦大学
  • 2021-05-26 - 2022-08-19 - H01L27/11507
  • 本发明属于铁电存储器件技术领域,具体为一种通过金属扩散调节铁电存储器表面层有效厚度的方法。本发明是在铁电存储单元表面层与电极接触部位间增加金属扩散层,使金属原子扩散进入部分或全部铁电表面层区域,从而调减表面层有效厚度,实现对表面层选择管开启电压大小的连续调节。本发明在金属扩散层制备完成后,采用高温保温或后热退火的方法调控扩散层金属向铁电材料内部的扩散深度。本发明实现了开启电压连续可调,甚至可降低至接近零;同时,开态电流增大,存储器读写操作电压减小,可提高器件可缩微性或存储密度,实现功耗的大幅度降低,开关比可达105,存储器性能获得大幅度提升。本发明为深化高密度铁电存储器的商业化开拓了思路。
  • 通过金属扩散调节存储器表面有效厚度方法
  • [发明专利]一种密排结构的面内读写铁电存储器阵列及其制备方法-CN202011234815.8有效
  • 江安全;汪超;江钧;柴晓杰;张伟 - 复旦大学
  • 2020-11-08 - 2022-07-22 - H01L27/11504
  • 本发明属于存储技术领域,具体为一种密排结构的面内读写铁电存储器阵列及其制备方法。本发明的面内读写铁电存储器阵列,其中字线集成于铁电存储单元层面内,位线包括第一位线和第二位线层,布局于铁电存储单元层面外,各位线层具有沿第一方向排列的多条位线及多个间隙,间隙包括交替排列的第一间隙群与第二间隙群。第一导电柱阵列连接字线层和第一位线层,第二导电柱阵列连接字线层和第二位线层,二者错开排列。各导电柱与邻接的字线交叉点间隙区域配置有存储器构件。本发明的铁电存储结构具有不破坏存储层器件的存储功能,能够提高存储单元的存储能力,N层字线层存储单元尺寸为4F2/N,F为特征尺寸,适用于高密度器件,且制备简单、成本低。
  • 一种结构读写存储器阵列及其制备方法
  • [发明专利]一种铌酸锂纳米器件的刻蚀方法-CN202210080620.5在审
  • 江安全;敖孟寒 - 复旦大学
  • 2022-01-24 - 2022-05-13 - H01L21/461
  • 本发明属于光电器件制备技术领域,具体为一种铌酸锂材料的刻蚀方法。本发明方法包括:在铌酸锂表面制备金属钝化层,用来提高纳米图形的保形性以及侧壁刻蚀倾斜角;沉积硬掩膜,并采用微电子光刻技术进行图形化处理;在待刻蚀的铌酸锂区域沉积活性金属薄膜,以提高刻蚀深度;将覆盖有活性金属层的铌酸锂晶体在还原气氛中进行退火;然后采用相应的酸溶液和碱溶液去掉铌酸锂表面的金属及其与铌酸锂的反应物,得到具有一定刻蚀深度的铌酸锂纳米图形。所制备的大规模铌酸锂纳米器件阵列尺寸可控,保形性和重复性好,侧壁倾斜角大于80°,图形凸块表面光滑。铌酸锂纳米器件制备步骤简单,难度低,可降低大规模生产成本。
  • 一种铌酸锂纳米器件刻蚀方法
  • [发明专利]一种非易失性铁电存储器及其制备方法-CN201910701759.5有效
  • 江安全;柴晓杰;江钧;连建伟;敖孟寒 - 复旦大学
  • 2019-07-31 - 2021-09-24 - H01L29/78
  • 本发明涉及一种非易失性铁电存储器及其制备方法,所述铁电存储器包括铁电存储层、第一电极和第二电极,所述铁电存储层中的电畴的极化方向基本不平行所述铁电存储层的法线方向;所述第一电极和第二电极结构相同,均包括在所述铁电存储层的表层中构图形成的埋入式导电层以及形成在所述埋入式导电层上的电极层;在所述第一电极和第二电极之间施加在某一方向上的写信号时使能位于一对埋入式导电层之间的部分铁电存储层的电畴反转,以至于能够建立连接第一电极和第二电极的畴壁导电通道。与现有技术相比,本发明能够避免刻蚀过程容易对铁电材料产生的破坏,提高铁电存储器的存储性能,在数据保持性能、开态读电流等方面表现优异。
  • 一种非易失性铁电存储器及其制备方法

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