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[发明专利]离心浇铸自动化连续生产工艺-CN201611062379.4有效
发明人：周引春;薛良安;袁翔飞 -专利权人：浙江双飞无油轴承股份有限公司
申请日： 2016-11-23 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： B22D13/02 文献下载
摘要：它利用已装有被浇铸材料的封闭基底金属筒来实现连续离心浇铸，这些前后排列的封闭基底金属筒被连续挨个地自动送进或推进加温炉，当达到离心浇铸温度，出加温炉后靠自身重力借斜坡滑到旋转轮组上；经旋转产生离心浇铸效果后，立即冷却至设定温度，完成淬火，顶出后靠自身重力借斜坡滑或机械手夹到活动小车或传送带上，去产品加工；同时，后一个出了加温炉的基底金属筒正好又到旋转轮组上，开始旋转离心浇铸；打开基底金属筒两端封盖，粗精加工，如此连续加工。本发明实现了自动化的连续离心浇铸生产流水加工，提高了生产效率，节省人力和材料，降低生产成本，保证了产品的质量。
离心浇铸自动化连续生产工艺

[发明专利]一种在三维任意曲面上复制微纳结构的方法-CN201010189589.6无效
发明人：鱼卫星;张登英;卢振武;孙强 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2010-06-02 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种在三维任意曲面上复制微纳结构的方法，涉及微纳加工领域，它解决了现有获得微纳结构的方法步骤繁多，且加工过程费时，不适合大口径大批量加工的问题，本发明的方法为：将柔性模板紧密贴到涂覆有高分子薄膜的三维曲面基底表面，然后对所述三维曲面基底表面在140℃的温度下加热30分钟后，所述高分子薄膜在毛细力的作用下流向柔性模板的空腔；然后将三维曲面基底表面的温度下降至室温，获得采用毛细力光刻的固定的微纳结构形状；所述的柔性模板和三维曲面基底表面分离本发明适用于微细加工、微纳制造领域等。
一种三维任意曲面复制结构方法

[实用新型]高速车客室墙板内嵌滑道一体成型模具-CN201921016465.0有效
发明人：姜明月;朱玲;孙超 -专利权人：长春路通轨道车辆配套装备有限公司
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： B29C70/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了高速车客室墙板内嵌滑道一体成型模具，包括基底模盘、所述基底模盘有凹陷区，凹陷区内固定有金属块，所述金属块开有螺纹孔，所述金属块呈阶梯状，所述上阶梯面固定有镶嵌活块，所述镶嵌活块上开有螺纹孔，所述镶嵌活块与金属块通过螺栓固定，所述基底模盘带有L型台面，所述金属块下阶梯面上放置有PET泡沫，所述PET泡沫与下阶梯面之间为滑道加工件，所述PET泡沫与镶嵌活块之间为滑道加工件，所述基底模盘、镶嵌活块和PET泡沫外轮廓均随型布置有滑道加工件，通过对模具的改进，极大的降低了产品后续处理、加工的难度，避免了产品正表面可能出现的开裂、漆面裂痕等问题，实际有效的解决了卷帘在墙板滑道中滑动时出现的卡滞现象。
高速客室墙板内嵌滑道一体成型模具

[发明专利]一种熔石英微纳光学器件加工方法-CN202211496906.8有效
发明人：张健;朱德星;金会良;耿锋;卓瑾;汪圣飞 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明提供一种熔石英微纳光学器件加工方法，在3D打印固化后的基底模型上通过飞秒激光加工实验平台加工微纳结构，能够减少基底结构的加工时间，在保证微纳结构加工精度的同时，能大幅缩短加工时间，并能得到远高于单独使用3D打印获取的微纳结构的加工精度；由此可见，本发明结合了3D打印自由成型和飞秒激光加工精度的优势，能实现熔石英元件更加广阔的应用范围。
一种石英光学器件加工方法

[发明专利]柔性调光膜组及加工方法、调光装置及加工方法-CN202011271681.7在审
发明人：梁鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司
申请日： 2020-11-13 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明公开了一种柔性调光膜组及加工方法、调光装置及加工方法，柔性调光膜组包括：柔性调光器件和水氧阻隔层，柔性调光器件包括：相对设置的第一柔性基底和第二柔性基底、设置在第一柔性基底的朝向第二柔性基底一侧的第一电极层、设置在第二柔性基底的朝向第一柔性基底一侧的第二电极层、以及设置在第一电极层和第二电极层之间的液晶盒，水氧阻隔层设于第一柔性基底和/或第二柔性基底。
柔性调光加工方法装置

[发明专利]光纤布拉格光栅传感器及其在线测量微生物膜厚度的方法-CN200710078266.8无效
发明人：赵明富;廖强;罗彬彬;刘江华;陈艳 -专利权人：重庆工学院
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2007-08-22 - 主分类号： G02B6/124 文献下载
摘要：一种光纤布拉格光栅传感器，其特征在于：采用如下步骤制得：(1)光纤布拉格光栅的制作；(2)光纤布拉格光栅的D型截面的制作；(3)选取长方形的陶瓷基底，陶瓷基底的宽度尺寸大于2cm，在陶瓷基底的两端分别开两个半圆槽，其功能是用来固定光敏单模光纤在陶瓷基底中的两个端点，再在陶瓷基底的中央位置，使用激光加工技术，加工一个用于装载D型光纤布拉格光栅的光纤槽，光纤槽的直径比光纤直径略大；(4)D型光纤布拉格光栅的安装；①将制作好了的D型光纤布拉格光栅放置于陶瓷基底的光纤槽，并使布拉格光栅位于陶瓷基底正中间的位置，同时在高倍率的显微镜的监控下，保证D型光纤布拉格光栅的平的一面与陶瓷基底的上端面基本水平。
光纤布拉格光栅传感器及其在线测量微生物厚度方法

[发明专利]用于将来自基底的热量传递给卡盘的方法和设备-CN02805084.3无效
发明人：安德列·米特罗维克;柳连俊 -专利权人：东京电子株式会社
申请日： 2002-02-04 - 公布日： 2004-04-21 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：一种用于在对基底加工期间支撑基底(W)的方法和卡盘设备(50，150，300)，其中所述基底具有以下表面(W_L)。所述设备有利于在基底的加工期间从基底中传递出热量。该基底如此设置粗糙表面附近，从而基底下表面和粗糙上表面在它们之间形成间隙(100)。该设备氦包括穿过所述卡盘本体的中心气体管道(80)。表面粗糙度、基底下表面和较重气体在间隙中的流量如此限定了适应系数α和平均自由行程λ，从而比值α/λ高于现有技术设备。
用于来自基底热量传递卡盘方法设备

[发明专利]外刃切割砂轮及其制造方法-CN200810107465.1有效
发明人：笠嶋匡树;美浓轮武久;山口隆治;佐藤孝治 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： B24D5/12 文献下载
摘要：外刃切割砂轮，包含硬质合金的环形薄圆片基底，该环形薄圆片基底的外径为80-200mm，内径为30-80mm，厚度为0.1-1.0mm，及位于该基底的外周缘的刃部，刃部包含与杨氏模量为0.7-4.0×10¹¹Pa的金属结合材料结合的金刚石磨粒和/或CBN磨粒，并且刃部的厚度比基底的厚度至少大0.01mm。所述外刃切割砂轮能够以高精度和低公差切割工件，改善了机加工成品率，并减少了机加工成本。
切割砂轮及其制造方法

[发明专利]带有部分密封壳体的半导体器件及其制造方法-CN201110194994.1有效
发明人：张挺;张艳红;杨海波;马清杰;谢志峰;邵凯 -专利权人：上海先进半导体制造股份有限公司
申请日： 2011-07-12 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种带有部分密封壳体的半导体器件的制造方法，包括步骤：提供覆盖基底，在覆盖基底的正面形成正面凹坑；在覆盖基底的正面淀积停止材料，形成刻蚀停止层；刻蚀覆盖基底上部分正面凹坑的正对背面，直至露出刻蚀停止层，在覆盖基底的背面形成背面凹坑；提供器件基底，其上形成有半导体器件；将覆盖基底与器件基底正面对接并固定，在器件基底上方形成部分密封壳体。本发明的制造方法属正面加工工艺，与CMOS制造工艺兼容。在器件基底的对接覆盖时，采用的工艺温度低于400度，并且形成部分密封壳体后基底的总厚度显著减薄。
带有部分密封壳体半导体器件及其制造方法

[发明专利]平板显示设备及其制造方法-CN200610006842.3无效
发明人：朴铉基;张东植;林翼喆;崔龟锡;朱圭楠;车准圭;文东建;沈勉基;林明德 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2006-02-05 - 公布日： 2006-08-09 - 主分类号： H01J17/49 文献下载
摘要：一种平板显示设备，包括：基底；由金属构成的电极；和插在基底和电极之间的粘合层。平板显示设备的电极具有优异的导电性。制造平板显示设备的方法，包括：制备金属基底；通过在金属基底上形成镀覆掩模层形成镀金属基底；在镀金属基底上形成电极；使用粘结层将形成在镀金属基底上的电极与镀金属基底分离；使用粘合剂组合物将分离的电极放在另一基底上；从电极上分离粘结层；和热处理粘合剂组合物形成粘合层，粘合层将电极附着到另一基底上。该方法降低了产生不正常工作电极的可能性，并导致降低的制造成本和加工时间。
平板显示设备及其制造方法

[发明专利]利用激光直写技术制造整体式薄膜铂电阻传感器的方法-CN201510965273.4在审
发明人：王丹;陈星;卢洪波;林键 -专利权人：中国航天空气动力技术研究院
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： G01M9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用激光直写技术制造整体式薄膜铂电阻传感器的方法，包括：按照传统的方法加工玻璃基底，对所述玻璃基底的镀膜面进行抛光；将得到的抛光的玻璃基底的镀膜面进行镀铂膜，并进行热处理；将得到的镀铂膜的玻璃基底卡设在可转动卡具上，利用激光直写技术扫描镀铂膜面的玻璃基底以得到具有预设图案以及特定宽度的铂电阻；对所述铂电阻进行银浆描涂引线操作，并经过热处理使银浆浆料烘干和固结。本发明方法制造整体式薄膜铂电阻传感器加工周期短、成品率高、大幅度提高了产品的生产效率和质量。
利用激光技术制造整体薄膜铂电阻传感器方法

[发明专利]网栅异质结太阳能电池及其工艺-CN201610932728.7在审
发明人：杨瑞鹏;周永谋 -专利权人：杨瑞鹏
申请日： 2016-10-24 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01L31/072 文献下载
摘要：本发明公开了网栅异质结太阳能电池及其工艺，包括太阳能电池的基座和基底，所述基座和基底之间设有带图形的基座网栅，所述基底的表面选择性沉积有与所述基座网栅形状图形大小一致的薄膜型金属网栅，其工艺步骤依次包括：使用PVD加工工艺，在基座上加工出有图形的基座网栅；在基座和基座网栅的顶部设置或印刷基底；在基底表面沉积金属网栅；解决现有技术的太阳能电池无法进一步提高透光率，减少遮光面积，无法进一步提高太阳能电池的转换效率
网栅异质结太阳能电池及其工艺

[发明专利]基于扫描曝光技术的光栅基底面形误差补偿方法、装置-CN202311055791.3在审
发明人：巴音贺希格;姜珊;李昱伯;刘兆武;王玮;李文昊;李烁;姜岩秀 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2023-08-22 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及光栅研制技术领域，具体涉及基于扫描曝光技术的光栅基底面形误差补偿方法、装置，具体地，本申请采用基于扫描干涉场曝光系统干涉条纹相位调制的光栅基底面形误差补偿技术，解决了在全息光栅研制领域基底面形加工误差使光栅衍射波前变差的问题，实现了光栅全口径衍射波前质量的提高，通过二维工作台位移测量系统的反馈和干涉条纹相位控制系统调制间的配合，达到光栅基底面形误差的全口径补偿，不仅降低了对光栅基底的加工精度要求，同时还能够提高光栅全口径的衍射波前质量
基于扫描曝光技术光栅基底误差补偿方法装置

[发明专利]一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法-CN201910029332.5有效
发明人：张登英;赵风周;张立春;张孟龙;黄玉鹏 -专利权人：鲁东大学
申请日： 2019-01-13 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法，涉及微细加工领域，包括：固定支架、固定悬梁、主腔体、主腔体高度调节部、气压表、充气接头。使用时，将PDMS软模板有微纳结构的一面朝外固定好，通过控制主腔体内气压的大小和主腔体的固定高度，使PDMS软模板与涂有固化胶的球面基底实现紧密接触，然后通过加热板固化胶体，待胶体固化后将球面基底与PDMS软模板分离，此时便在球面基底上制得微纳结构。本发明装置易于加工，操作方便，使用方法简单，能够满足在不同口径、不同曲率半径球面基底上实施软光刻技术的要求。
一种球面基底实施光刻技术装置及其使用方法

[发明专利]一种基于金属钛的MEMS机械继电器的制备方法-CN200810240592.9有效
发明人：陈兢;舒琼 -专利权人：北京大学
申请日： 2008-12-25 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： H01H49/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于金属钛的MEMS机械继电器的制备方法，属于微电子机械系统(MEMS)微加工技术领域。该方法包括：对钛基底光刻图形化，刻蚀形成浅槽；选择热膨胀系数与金属钛匹配的玻璃，在玻璃的表面制备金属连线；将钛基底和玻璃基底进行阳极键合；对钛基底进行背面减薄，光刻图形化，并进行深刻蚀，穿通钛基底，形成本发明通过阳极键合、化学机械抛光和深刻蚀等工艺，在玻璃衬底上实现低成本、高精度、高深宽比的金属钛三维可动结构的加工，从而实现了基于金属钛的MEMS机械继电器。
一种基于金属 mems 机械继电器制备方法