专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种柱形零件加工专用工装-CN201921429346.8有效
  • 肖争光;张磊;谭康康;高获优 - 河南乾和机电设备有限公司
  • 2019-08-30 - 2020-04-21 - B23Q3/06
  • 本实用新型提供一种柱形零件加工专用工装,包括基底基底上设置有用于连接机床的连接结构以及至少一个用于放置待加工零件的定位孔,并且各安装孔分别设置有相应的固定结构;所述固定结构包括定位螺栓和定位板,所述定位板上设置有通孔,所述定位螺栓穿过定位板的通孔后连接在基底上,所述定位螺栓、定位板和定位孔配合,用于固定待加工零件。本实用新型所提供的技术方案,可在加工柱形零件时将其固定,能够解决现有技术中在对柱形零件进行加工时固定不方便的问题。
  • 一种零件加工专用工装
  • [发明专利]一种高密度纳米电极阵列及其制备方法-CN201210489470.X有效
  • 张海霞;张晓升;苏宗明;金柏宏;朱福运 - 北京大学
  • 2012-11-27 - 2013-02-13 - B81C1/00
  • 一种高密度纳米电极阵列制备方法,在导电性好的金属或半导体基底上,将纳米金属颗粒均匀紧密单层排布,通过高温退火工艺使纳米金属颗粒与基底紧密结合,再利用等离子体处理工艺刻蚀基底,制备实现高密度高深宽比纳米电极阵列结构本发明可利用常规微加工设备,实现纳米尺度电极阵列结构,无需特殊昂贵的纳米加工设备,降低成本,且工艺兼容性好,可实现大面积晶片级加工。且RIE与DRIE工艺均为产业成熟可靠生产工艺,通过参数调控,可控制基底刻蚀深度,即纳米阵列高度可控,可适用于不同需求下纳米电极阵列的制备。
  • 一种高密度纳米电极阵列及其制备方法
  • [发明专利]一种基于二硫化钼薄膜的加速度传感器芯片及其加工方法-CN201811244522.0有效
  • 赵玉龙;同笑珊;张琪;马鑫 - 西安交通大学
  • 2018-10-24 - 2020-08-14 - G01P15/12
  • 一种基于二硫化钼薄膜的加速度传感器芯片及其加工方法,芯片包括和硼玻璃键合的硅基底,硅基底包括质量块以及与质量块相连的四个悬臂梁,在悬臂梁靠近质量块的一端沉积有二硫化钼薄膜电阻,金属引线将四个二硫化钼薄膜电阻连接成惠斯通全桥电路并与焊盘连接;加工方法是先在硅基底上进行第一道光刻,射频溅射二硫化钼薄膜,剥离得到二硫化钼薄膜电阻;然后在硅基底上进行第二道光刻,蒸镀金属Cr和Au,剥离得到金属引线和焊盘;再在硅基底上下蒸镀Al,进行正反面套刻,剥离得到Al掩蔽;干法刻蚀,释放质量块和四个悬臂梁;最后将硅基底与硼玻璃进行键合;本发明决了传感器灵敏度与固有频率的制约问题,简化加工工艺,提高传感器的综合性能。
  • 一种基于二硫化钼薄膜加速度传感器芯片及其加工方法
  • [发明专利]由乳突阵列结构与基底多孔结构复合的加工工艺及成品-CN202310487991.X在审
  • 陆龙生;唐彪;李凯凯;寇金维;谢颖熙 - 华南理工大学
  • 2023-04-28 - 2023-08-04 - B81C1/00
  • 本发明公开了由乳突阵列结构与基底多孔结构复合的加工工艺及成品,涉及微纳制造技术领域,其中,由乳突阵列结构与基底多孔结构复合的加工工艺,包括以下步骤:将待加工的钢片的表面进行研磨抛光处理,清洗并干燥,将待加工的钢片放置于皮秒激光器的加工平台上;通过与皮秒激光器相连的工业计算机,采用定位光标进行对焦操作;圈画出加工区域并在一矩形框内进行平面阵列,并设置填充方式以及加工工艺参数,然后皮秒激光器对待加工的钢片进行加工加工完成后,进行清洗,获得具有微钠结构的加工成品本发明所得加工零件表面具有两层结构即乳突阵列结构与基底多孔结构复合形成的分级表面,并且由一次加工完成,极大提高了制造效率。
  • 阵列结构基底多孔复合加工工艺成品
  • [实用新型]一种导电布的浸液装置-CN202320329050.9有效
  • 胡小万;程呼盈 - 苏州巨奇光电科技有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-08-29 - D06B3/12
  • 本实用新型提供一种导电布的浸液装置,涉及浸液加工领域。该导电布的浸液装置,包括浸泡箱、推送装置、推送板、三个安装板、多个导向装置和基底布料卷,所述浸泡箱内部固定连接有加工台,所述加工台顶部开设有三个储液凹槽,三个所述储液凹槽内部均设置有过滤网。该导电布的浸液装置,基底布料进入储液凹槽内部进行浸泡加工时,当基底布料携带的和外界的杂质进入储液凹槽内部溶液内后,杂质被储液凹槽内部的过滤网截留而不会沉淀到溶液底部,只需要将通过铁板和磁铁板安装的过滤网取出浸泡箱内部,即可对杂质进行收集处理,避免需要将溶液抽出才能够将杂质清理的情况,减缓溶液更换的频率,降低对基底布料进行浸泡加工的成本投入。
  • 一种导电浸液装置

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