专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种的制备方法-CN202210703529.4有效
  • 逄金波;李玉芬;孙德辉;周伟家;刘宏 - 济南大学
  • 2022-06-21 - 2023-06-30 - C23C14/16
  • 本发明公开了一种的制备方法,包括以下步骤:(1)在基底表面进行钯金属镀膜,得到基底/薄膜;(2)在基底/薄膜的表面旋涂含分散液,干燥后在保护气氛中,利用等离子体辅助热退火制备得到薄膜所述制备方法还包括:将步骤(2)得到的薄膜转移至目标基底的步骤。本发明利用薄膜蒸镀‑分子涂覆‑加热反应制备薄膜的方法,不但钯金属膜与分子膜固相反应制备方法简单直接、生长速率快,而且利用了薄膜前驱体的完整涂覆特点,可以得到完整的薄膜,可获取晶圆级的规模化生产
  • 一种二硒化钯制备方法
  • [发明专利]一种石墨烯//硅异质结自驱动光电探测器-CN202010164766.9有效
  • 李永俊;何天应;兰长勇;李春 - 电子科技大学
  • 2020-03-11 - 2022-04-01 - H01L31/109
  • 本发明公开一种石墨烯//硅异质结自驱动光电探测器,应用于光电探测技术领域,针对现有的光电探测器受限于石墨烯的弱吸光性能,响应度低的问题,本发明首先在n型氧化硅/硅基底上干法刻蚀暴露出n型硅窗口;然后在硅窗口附近镀上金/铟电极,其次采用机械剥离制备微晶片,并利用定位干法转移于硅窗口;最后采用湿法转移的方式转移石墨烯,覆盖于与电极表面,其中作为石墨烯与硅之间的界面修饰层,单个硅窗口对应的石墨烯层、层、n型硅基底形成石墨烯//硅异质结;本发明的器件制备工艺简单,且器件具有自驱动性,在可见‑近红外光波段具有较高的响应度等优良的性能。
  • 一种石墨二硒化钯硅异质结驱动光电探测器
  • [发明专利]一种基于SnSe/SnO2-CN202110258297.1在审
  • 凌翠翠;冯冰心;侯志栋;曹敏;张拓 - 中国石油大学(华东)
  • 2021-03-10 - 2021-06-29 - H01L31/18
  • 本发明属于光探测技术领域,具体涉及一种自驱动光电探测器,该自驱动光电探测器,由上至下依次包括导电银胶点电极、金属前电极、锡纳米薄膜层、氧化锡多层球壳结构薄膜层、硅单晶基底和金属铟背电极。氧化锡多层球壳结构薄膜层通过水热法、煅烧法、丝网印刷技术等方法制备,锡薄膜层由直流磁控溅射技术制备,器件表现出良好的自驱动光探测性能,稳定性好,从紫外到近红外区域都具有响应特性。
  • 一种基于snsesnobasesub

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