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[发明专利]基于同轴结构和终端压缩的等离子体射流发生器-CN201810480326.7在审
发明人：吴丽;黄卡玛;周艳萍;陈倩;杨阳;朱铧丞 -专利权人：四川大学
申请日： 2018-05-18 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明涉及等离子技术领域。本发明公开了一种基于同轴结构和终端压缩的等离子体射流发生器，以解决现有技术中等离子体发生器装置笨重、应用受限的问题。本发明的等离子体射流发生器，包括外导体和内导体，所述外导体和内导体同轴构成同轴传输线；所述同轴传输线一端内导体和外导体收缩为锥形，锥形尖端内导体和外导体之间的缝隙形成放点间隙，所述锥形部分外导体的锥度大于内导体的锥度本发明能够在常温常压下产生连续的等离子流。装置轻巧便携，具有安全高效的特点，特别适合用于生物和医学技术领域。
内导体外导体同轴传输线锥度等离子体射流发生器特征阻抗同轴结构终端医学技术领域等离子技术发生器装置中等离子体常温常压等离子流一端连接锥形尖端压缩激励源便携受限同轴匹配收缩应用安全保证

[发明专利]用于处理市政设施恶臭气体的装置和方法-CN200710173290.X无效
发明人：王国华;张仁熙;侯惠奇;孙晓 -专利权人：上海市政工程设计研究总院;复旦大学
申请日： 2007-12-27 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： A61L9/22 文献下载
摘要：本发明装置由过滤网、等离子反应器、蜂窝活性炭床和风机依次连接组成。其中等离子反应器采用双介质阻挡放电等离子体结构形式，由若干个等离子体反应管组合构成，蜂窝活性炭床是一种吸附－催化氧化床，采用蜂窝活性炭为填充层。废气经过过滤网，滤去气体中的灰尘等微粒，然后进入等离子体反应器，在高能电子轰击下，使恶臭物质反应一系列反应，少量未反应恶臭物质等经过蜂窝活性炭床，得到进一步处理。
用于处理市政设施恶臭气体装置方法

[发明专利]等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质-CN202210998253.7有效
发明人：常华梅;方志;金珊珊;刘诗筠;赵亚军;时贞平 -专利权人：江苏容正医药科技有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本说明书实施例提供一种等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质，包括电源装置、等离子体生成装置、等离子体阵列装置，以及控制器；电源装置用于对创面处置系统进行供电；等离子体生成装置用于生成等离子体；等离子体阵列装置用于传递等离子体；控制器用于基于患者的创面特征，确定等离子体生成装置生成的等离子体的等离子体生成参数；创面特征包括受伤时间、创面周边温度、创面类型中的至少一种；等离子体生成参数包括所述等离子体的强度、所述等离子体的温度中的至少一种
等离子体创面处置系统方法装置存储介质

[发明专利]一种硅片表面研磨装置-CN201911199415.5在审
发明人：蒋永锋;易恬安;包晔峰;陈秉岩 -专利权人：河海大学常州校区
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片表面研磨装置，属于表面处理技术领域，包括等离子体喷枪、伺服电机和激光测距组件；所述伺服电机与等离子体喷枪连接；所述等离子体喷枪包括喷嘴和位于等离子体喷枪内的等离子体喷枪控制系统、等离子体发生器和等离子体通道；所述等离子体喷枪控制系统与等离子体发生器和伺服电机通信连接；所述等离子体发生器依次与等离子通道和喷嘴连接；所述激光测距组件与等离子体喷枪连接；所述喷嘴与等离子体通道的连接处，设置有等离子体通道出口。
一种硅片表面研磨装置

[发明专利]一种基于石墨烯玻璃的光热转化器件的制备方法、石墨烯玻璃和光热转化器件-CN201710389433.4在审
发明人：刘忠范;慈海娜;张艳锋 -专利权人：北京大学
申请日： 2017-05-27 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： C03C17/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于在普通钠钙玻璃基底上生长垂直结构的石墨烯用于光热转化的方法，所述技术方法包括以下步骤制备石墨烯玻璃，所述石墨烯玻璃中石墨烯层高度为1‑100nm；所述石墨烯玻璃的制备方法包括提供玻璃基底，将玻璃基底置于等离子体反应腔内，碳源被裂解产生等离子体，等离子体在所述玻璃基底上沉积得到石墨烯玻璃，沉积过程中等离子腔体的温度为500‑600摄氏度。
一种基于石墨玻璃光热转化器件制备方法

[发明专利]计算纳米线场效应晶体管沟道中等离子体波速度的方法-CN201810671172.X有效
发明人：马光金;胡国庆;刘京京;李春来;潘俊;马小娟;何进 -专利权人：深港产学研基地;北京大学深圳研究院
申请日： 2018-06-26 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G06F30/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种计算纳米线场效应晶体管沟道中等离子体波速度的方法，该方法包括以下步骤：利用纳米线半径，纳米线长度，氧化物厚度，材料参数和沟道掺杂浓度，计算纳米线场效应晶体管的亚阈斜率因子α和阈值电压Vth；计算出纳米线场效应晶体管沟道中沟道反型电荷密度Q；通过沟道反型电荷密度Q，求解出沟道中等离子体波平均速度。相比于现有技术，本发明从纳米线场效应晶体管的物理模型出发，提出一种新的计算技术，利用沟道掺杂浓度、工作温度和几何参数等，可以在不需要拟合参数的情形下快速计算出栅‑源电压从亚阈值到过阈值连续变化时沟道中的等离子体波速度大小
计算纳米场效应晶体管沟道等离子体波速方法

[发明专利]形成共形金属硅化物膜的方法-CN201380006555.0有效
发明人：长谷川敏夫;多田国弘;山崎英亮;大卫·L·奥梅亚拉;格利特·J·莱乌辛克 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-01-25 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： C23C16/42 文献下载
摘要：根据一个实施方案，该方法包括：将衬底设置在处理室中；以第一衬底温度将衬底暴露于由包含金属前体的沉积气体生成的等离子体，其中等离子体暴露以自限性过程在衬底上形成共形的含金属层。该方法还包括：以第二衬底温度将含金属层在不存在等离子体的条件下暴露于还原气体，其中将上述暴露步骤交替地进行至少一次以形成金属硅化物层，并且沉积气体不包含还原气体。
形成金属硅化物膜方法

[发明专利]等离子体液产生装置-CN201710417063.0在审
发明人：卢仁杰;萧咏棱;卢盈霖 -专利权人：拜普生医科技股份有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2017-12-12 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明的题目是等离子体液产生装置。本发明公开一种等离子体液产生装置。等离子体液产生装置包括等离子体产生模块、驱动电路、调控模块以及混合机构。驱动电路与等离子体产生模块耦接，并驱动等离子体产生模块产生第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子。调控模块与驱动电路耦接，调控模块控制驱动电路，进而调控等离子体产生模块产生的第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子的比例。混合机构连接等离子体产生模块并混合第一种等离子体粒子、第二种等离子体粒子及液体，以产生等离子体液。
等离子体液产生装置

[实用新型]等离子体液产生装置-CN201720646493.5有效
发明人：卢仁杰;萧咏棱;卢盈霖 -专利权人：拜普生医科技股份有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型的题目是等离子体液产生装置。本实用新型公开一种等离子体液产生装置。等离子体液产生装置包括等离子体产生模块、驱动电路、调控模块以及混合机构。驱动电路与等离子体产生模块耦接，并驱动等离子体产生模块产生第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子。调控模块与驱动电路耦接，调控模块控制驱动电路，进而调控等离子体产生模块产生的第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子的比例。混合机构连接等离子体产生模块并混合第一种等离子体粒子、第二种等离子体粒子及液体，以产生等离子体液。
等离子体液产生装置

[发明专利]一种等离子体处理装置-CN202011278984.1在审
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置

[实用新型]一种等离子体处理装置-CN202022643438.5有效
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置

[发明专利]等离子体发生装置-CN201380081635.2有效
发明人：朴宰范 -专利权人：应用等离子体株式会社
申请日： 2013-12-11 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明公开等离子体发生装置。根据本发明一实施例的等离子体发生装置包括：等离子体发生模块，用于发生等离子体；以及旋转体，具有至少一个等离子体喷嘴，上述至少一个等离子体喷嘴用于将通过上述等离子体发生模块发生的等离子体吹向外部，上述旋转体与上述等离子体发生模块分开设置，且以能够旋转的方式配置于上述等离子体发生模块的外侧。
等离子体发生装置

[发明专利]确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法-CN202210144478.6在审
发明人：陈光明;曹建峰;李勰;陈略;张晓芳;满海钧;高红;刘舒莳;谭永政;高峰 -专利权人：北京航天飞行控制中心
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本公开提供一种确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法，确定行星际等离子体密度总含量的方法包括：获取行星际等离子体在观测点处的等离子体密度和等离子体速度；根据等离子体速度，确定对行星际等离子体的初始观测时刻；根据等离子体密度，确定行星际等离子体密度总含量。根据本公开的确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法解决了无法准确确定行星际等离子体所引起的电波折射的问题，可以基于实测等离子体密度和速度，计算观测点与深空探测器间的等离子体密度总含量，从而确定等离子体引起的电波路径延迟
确定行星等离子体密度含量电波路径延迟方法

[发明专利]大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置-CN201610712284.6有效
发明人：陈选章;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体清洗设备，具体为一种大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置，包括低温等离子体激励部分和低温等离子体发生装置；所述低温等离子体激励部分包括低温等离子体电源发生器，低温等离子体变压器；低温等离子体发生装置包括两只电极，所述低温等离子体电源发生器通过等离子体变压器与两只等离子体电极相连；低温等离子体发生装置还包括低温等离子体电极间隙调整装置、等离子体电极固定端板、整体金属方形支架，和散热排风的接口
大气常压输出激励低温等离子体玻璃清洗装置

[发明专利]智能化等离子体刷系统及其实现方法、装置、存储介质-CN202210998359.7有效
发明人：常华梅;方志;金珊珊;刘诗筠;赵亚军;时贞平 -专利权人：江苏容正医药科技有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本说明书实施例提供一种智能化等离子体刷系统及其实现方法、装置、存储介质，该系统包括输入装置、电源装置、等离子体生成装置、等离子体刷、移动装置、摄像装置，以及控制器；电源装置用于对智能化等离子体刷系统进行供电；等离子体生成装置用于生成等离子体；等离子体刷用于发射等离子体；移动装置连接等离子体刷，移动装置用于接收等离子体刷的移动指令，并带动等离子体刷移动至目标区域；控制器用于从输入装置获取目标区域，并控制等离子体刷在移动装置的带动下移动至目标区域；从摄像装置获取第一图像，基于第一图像确定等离子体刷的等离子体参数以及治疗时间。
智能化等离子体系统及其实现方法装置存储介质