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- [发明专利]分析用于光刻的掩膜板的方法-CN200980113449.6有效
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乌尔里克·斯特罗斯纳;托马斯·谢鲁布尔
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卡尔蔡司SMS有限责任公司
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2009-04-09
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2011-04-06
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G03F7/20
- 在此方法中,用于第一焦点设置的掩膜板的空间图像被产生并存储在空间图像数据记录中。空间图像数据记录被转移到基于此数据模拟光刻晶片曝光的算法。在此情况下,对多个互不相同的能量剂量执行模拟。然后,在离晶片表面的预定高度处,分别确定将具有光刻胶的区域与不具有光刻胶的区域分开的轮廓线。分别对于每个能量剂量,将结果(即,轮廓线)存储在具有能量剂量作为参数的轮廓线数据记录中。最后,组合轮廓线数据记录以形成具有能量剂量的倒数作为第三维的三维多轮廓线数据记录,并且,基于轮廓线中从零到非零值的转变,产生依赖于掩膜板上的位置的能量剂量的倒数的三维形貌。输出或存储或自动的评价此形貌(所谓的有效空间图像)。也可对穿过所述形貌的截面进行相同的处理。
- 分析用于光刻掩膜板方法
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