专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]串扰抑制电路、桥臂驱动电路及电子设备-CN202310723234.8在审
  • 杨明;徐东林 - 哈尔滨西恩科技有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-10-10 - H02M1/00
  • 本申请涉及电子电路技术领域,公开一种串扰抑制电路,该串扰抑制电路包括负压产生电路,负压产生电路设置于驱动芯片和场效应之间,负压产生电路被配置为在场效应关断的情况下,为场效应提供负电压,以在场效应接收到干扰电压时维持场效应的关断状态在场效应关断的情况下,通过负压产生电路在场效应的栅极产生负电压,进而保持场效应的关断状态,从而抑制了场效应之间的串扰现象,避免了场效应的受到串扰影响而开通的现象。
  • 抑制电路驱动电子设备
  • [实用新型]一种基于场效应的电子开关模块-CN201921500560.8有效
  • 郑阿东;王大丽;贾锋涛;樊启蒙 - 奇瑞汽车股份有限公司
  • 2019-09-10 - 2020-05-08 - H03K17/567
  • 本实用新型的目的是提出一种基于场效应的电子开关模块,该电子开关模块具有寿命长、静音的优点,可以替代传统的继电器来实现负载电路的通断控制。本实用新型的基于场效应的电子开关模块包括电路板及安装于电路板上的PNP三极和P场效应,所述三极的基极通过第一电阻与电子开关模块的控制端子相连,三极的发射极通过第二电阻与三极的基极相连,三极的集电极接地;所述场效应的源极与电子开关模块的电源输入端子相连,场效应的栅极通过第三电阻与三极的发射极相连,场效应的漏极与电子开关模块的电源输出端子相连。
  • 一种基于场效应电子开关模块
  • [实用新型]屏蔽栅沟槽场效应-CN202320362120.0有效
  • 梁嘉进;伍震威;单建安 - 安建科技有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-10-03 - H01L29/78
  • 屏蔽栅沟槽场效应及其制造方法,本发明涉及于功率半导体器件,为改善现有屏蔽栅沟槽场效应器件的可靠性,UIS性能,反向导通性能,并减少硅面积的浪费。本发明提供一种屏蔽栅沟槽场效应,所述的场效应利用集成的高电阻场板沟槽,改善器件开关过程中元胞不均匀开通导致的击穿问题,所述的高电阻场板沟槽还可以作为缓冲器,改善器件开关和反向恢复时的过冲电流。
  • 屏蔽沟槽场效应
  • [实用新型]一种过流自动断电保护电路-CN201320076681.0有效
  • 林锦毅 - 厦门菲斯科电子有限公司
  • 2013-02-02 - 2014-02-05 - H02H3/08
  • 本实用新型公开一种过流自动断电保护电路,其关键点在于利用PNP三极管及P沟道增强场效应自身的开关特性,能够在电路中过流的情况下及时对电子元器件进行保护。将取样电阻两端的压降作为PNP三极的Vbe,通过取样电阻设定需要保护的电流值,当电路中的电流超过设定的保护电流值时,PNP三极的发射集和集电极被导通,此时P沟道增强功率场效应的栅极处于高电平状态,使得P沟道增强场效应为高阻抗,电路中的电流被截止,P沟道增强场效应起到开关的作用。当故障被排除后,PNP三极处于截止状态,此时输入P沟道增强功率场效应栅极的电压为低电平,P沟道增强场效应处于导通状态,电路自动恢复到正常工作状态,无需人工更换器件。
  • 一种自动断电保护电路
  • [实用新型]基于场效应的短路保护电路-CN201620406483.X有效
  • 徐克飞 - 厦门奥马科技有限公司
  • 2016-05-06 - 2016-11-02 - H02H3/08
  • 本实用新型属于电路安全技术领域,具体涉及一种基于场效应的短路保护电路。它包括电阻R1、场效应Q1、电阻R4、场效应Q2、稳压二极Z1、场效应Q3和电阻R3,电源正极经电阻R3分别接场效应Q3的源极和稳压二极Z1的负极,稳压二极Z1的正极接场效应Q2的栅极,场效应Q2的源极接地,场效应Q2的漏极接场效应Q1的栅极,场效应Q1的栅极和漏极之间串接电阻R1,场效应Q1的漏极接电源正极,场效应Q1的源极经电阻R4接地,场效应Q1的源极与场效应Q3的栅极连接,场效应Q3的漏极接电压输出端。
  • 基于场效应短路保护电路
  • [发明专利]集成增强和耗尽垂直双扩散金属氧化物场效应-CN200710134474.5有效
  • 易扬波;刘侠;李海松 - 无锡博创微电子有限公司
  • 2007-10-30 - 2008-04-09 - H01L27/088
  • 本发明公开了一种集成增强和耗尽垂直双扩散金属氧化物场效应,包括重掺杂N衬底,在N衬底上设置有N外延,在N外延上设置有增强垂直双扩散金属氧化物场效应和耗尽垂直双扩散金属氧化物场效应,在所述的增强垂直双扩散金属氧化物场效应和耗尽垂直双扩散金属氧化物场效应之间设有一隔离结构,该隔离结构包括浮置P阱、二氧化硅介质层以及多晶硅场板,所述的浮置P阱设置在N外延上,所述的二氧化硅介质层设置在浮置P阱的上端,所述的多晶硅场板设置在二氧化硅介质层中。与现有技术相比,本发明采用隔离机构将增强和耗尽两种垂直双扩散金属氧化物场效应集成在一块芯片内,更有利系统的集成和小型化。
  • 集成增强耗尽垂直扩散金属氧化物场效应
  • [实用新型]一种电压换相电路-CN202122256476.X有效
  • 彭博;刘祥彪;刘健;李春雷;钟颖 - 恒天九五重工有限公司
  • 2021-09-17 - 2022-02-15 - H02P7/03
  • 一种电压换相电路,包括电源正极、电源负极、第一行程开关、第二行程开关、第一MOS场效应、第二MOS场效应、第三MOS场效应、第四MOS场效应和泵的电磁阀;电源正极与第一行程开关、第二行程开关、第一场效应和第四场效应的漏极相连,第一行程开关另一端与第一场效应和第三场效应的栅极相连,第二行程开关另一端与第二场效应和第四场效应的栅极相连,第一场效应的源极及第二场效应的漏极与泵的电磁阀的第一接口相连,第三场效应的漏极及第四场效应的源极与泵的电磁阀的第二接口相连,第二场效应和第三场效应的源极均与电源负极相连。
  • 一种电压电路
  • [发明专利]一种电源管理芯片的使能电路-CN202010436018.1在审
  • 刘玉山;刘玉龙;张梁堂 - 厦门易创芯诚微电子有限公司
  • 2020-05-21 - 2021-11-30 - H02M1/00
  • 一种电源管理芯片的使能电路包括N场效应MN0、MN1、MN2、MN3、MN4、MN5,二极D1、D2、电阻R1、R2、R3,N场效应MNE1……MNEn‑1,MNEn和电源芯片功能电路;所述N场效应MNE1……MNEn‑1,MNEn的源极接地,漏极连接电源芯片功能电路后接电源,栅极相连后接于N场效应MN0的栅极。本发明采用常规的CMOS工艺设计,使能电路直接从芯片电源取电,快速决定电源芯片功能电路是否需正常工作;使能控制可采用低压架构的场效应,栅极电容较小,可以快速响应芯片的输入控制状态,并且在生产时可减少掩模成本和节省芯片面积
  • 一种电源管理芯片电路
  • [发明专利]一种MOS场效应及其制造方法-CN200510110711.5无效
  • 伍宏 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2005-11-24 - 2007-05-30 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种MOS场效应及其制造方法。本发明一种MOS场效应,其介于源/漏-衬底PN和栅边缘的某个位置到源漏硅化物边缘的栅氧厚度大于介于源/漏-衬底PN和栅边缘的位置之间的栅氧厚度。本发明一种制造MOS场效应的方法,包括以下步骤:第一步,阱离子注入,阱离子注入退火,和牺牲氧化层剥离;第二步,生长或淀积一层厚栅氧化层;第三步,完全刻蚀中间区域的厚栅氧;第四步,生长薄栅氧;第五步,已有工艺方法的正常后续步骤本发明适用于半导体工艺中的MOS场效应制造工艺。
  • 一种mos场效应及其制造方法

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