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- [发明专利]等离子体处理装置-CN200710153570.4有效
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釜石贵之;岛村明典;森嶋雅人
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东京毅力科创株式会社
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2004-04-28
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2008-02-13
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H01L21/00
- 本发明提供一种等离子体处理装置,对被处理基板进行等离子体处理,该等离子体处理装置具备:收容被处理体的腔室;具有以与腔室连通的方式设置在所述腔室上方的由电介质构成的钟罩和线圈状地卷绕在所述钟罩的外侧周围并在所述钟罩内形成感应电场的天线,向着所述钟罩的内侧使等离子体产生的等离子体发生部;设置在所述等离子体发生部和所述腔室之间,将等离子体形成用的气体导入由所述等离子体发生部和所述腔室划成的处理空间的气体导入机构;设置在所述腔室内的支撑被处理体的载置台;和由电介质构成的覆盖所述载置台并且载置所述被处理体的掩模,所述掩模形成载置所述被处理体的第一区域和所述第一区域的周围的第二区域具有相同高度的构成。
- 等离子体处理装置
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