专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]臭气减少系统及臭气减少方法-CN202180035404.2在审
  • 小泽功治;富樫真央;森木怜;神谷和彦 - 株式会社卡鲁摩爱
  • 2021-05-28 - 2023-01-13 - G01W1/00
  • 提供即使在风向等发生了变化的情况下也能够迅速且简易地减少臭气的臭气减少系统及臭气减少方法。在对从臭气产生源排出的废气进行除臭而使臭气浓度降低的臭气减少系统及臭气减少方法中,臭气减少系统具备:臭气传感器;传感器组,其测定至少包含风向在内的环境信息;臭气减少设备;以及控制部,其针对通过规定的扩散模拟求出的对象地点的臭气浓度,使基于第1风向的对象地点的臭气浓度为M1,使基于第2风向的对象地点的臭气浓度为M2,在M1比M2大的情况下,基于M1来驱动臭气减少设备。
  • 臭气减少系统方法
  • [发明专利]斑纹减少装置和斑纹减少掩模-CN201110054854.4有效
  • 仝召民;高文宏;陈旭远;穆罕默德·纳迪姆·阿克拉姆;欧阳光敏;王开鹰 - 西福尔德高等学院
  • 2011-03-07 - 2011-09-21 - G02B27/48
  • 公开了一种斑纹减少装置和斑纹减少掩模。斑纹减少装置(1)包括:辐射路径;以及布置在辐射路径内的掩模(7),掩模(7)包括被配置成在掩模上形成随时间变化的图案的电可控单元的阵列。斑纹减少掩模(7)包括:第一线性阵列,其包括被布置成改变入射辐射的相位的第一平行线;以及包括第二平行线的第二线性阵列,第二平行线被布置成改变入射辐射的相位并且还被布置成使得在第一平行线和第二平行线的相交处形成单元斑纹减少掩模(7)包括:根据公式ATA=βδk,l形成的N1×N2单元阵列A,其中,AT是A的转置,β是正实常数,δk,l是克罗内克符号,N1≠N2。
  • 斑纹减少装置

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