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[发明专利]选择性钝化和选择性沉积-CN201910938338.4在审
发明人： J·W·梅斯;M·吉文斯;S·豪卡;V·帕鲁丘里;I·拉伊梅克斯;S·邓;A·伊利贝里;E·托伊斯;D·朗格里 -专利权人： ASMIP控股有限公司
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的发明名称为选择性钝化和选择性沉积。提供了用于选择性沉积的方法。材料相对于不同材料组成的第二表面被选择性沉积在衬底的第一表面上。将抑制剂(如聚酰亚胺层)相对于第二表面由气相反应物选择性地形成在第一表面上。将目标层相对于第一表面由气相反应物选择性地沉积在第二表面上。第一表面可以是金属的，而第二表面是介电的。因此，可利用本文所述技术将材料(如介电过渡金属氧化物和氮化物)相对于电介质表面选择性地沉积在金属表面上。
选择性钝化沉积

[发明专利]选择性钝化和选择性沉积-CN202210891880.0在审
发明人： J.W.梅斯;M.E.吉文斯;S.P.霍卡;V.帕鲁丘里;I.J.拉伊杰马克斯;邓少任;A.伊利贝里;E.E.托伊斯;D.朗格里;C.德泽拉;M.图米恩 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：提供了选择性沉积的方法。材料相对于不同材料成分的第二表面选择性地沉积在基板的第一表面上。相对于第二表面，在第一表面上由气相反应物选择性地形成抑制剂，例如聚酰亚胺层。相对于第一表面，感兴趣的层从气相反应物选择性地沉积在第二表面上。第一表面可以是金属的，而第二表面是介电的。因此，诸如介电过渡金属氧化物和氮化物的材料可以使用这里描述的技术相对于介电表面选择性地沉积在金属表面上。
选择性钝化沉积

[发明专利]具有选择性保护组件的选择性开关-CN200410089077.7有效
发明人：丁其零;陈颖;陈黎俊;周积刚;龚骏昌 -专利权人：上海电器科学研究所（集团）有限公司
申请日： 2004-12-03 - 公布日： 2005-05-18 - 主分类号： H02H3/093 文献下载
摘要：本发明揭示了一种具有选择性保护组件的选择性开关，包括一断路器组件和一选择性保护组件，断路器组件和选择性保护组件通过进/出线端实现电气连接，还通过机械连动装置实现机械连接，选择性保护组件中包括一电子延时脱扣装置电子延时脱扣装置包括：检测单元，检测电流并输出检测信号；电子控制单元，与检测单元相连，接收、分析检测单元输出的检测信号并产生控制信号；脱扣器，与电子控制单元相连，接收电子控制单元产生的控制信号，脱扣器连接到选择性保护组件中的操作机构本发明的有益效果是，其中的电子延时脱扣装置工作稳定，能精确地检测到短路电流、并作出快速判断和动作，借此提高了产品的测量精度，达到可靠的选择性保护作用。
具有选择性保护组件开关

[发明专利]选择性印刷-CN201680077448.0有效
发明人： I.佐米克;H.朗;G.罗曼特科夫;F.科甘;S.布兰德里斯 -专利权人：惠普印迪戈股份公司
申请日： 2016-03-02 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本公开涉及将图像选择性印刷到基材上的方法。该方法包括将第一墨水组合物电子照相印刷到基材的所选区域上。该方法还包括在该基材的至少未印刷区域上施加底漆。
选择性印刷

[发明专利]选择性反射-CN200510052124.5有效
发明人：巴雷特·利佩;马克·尼芬;斯蒂芬·R·奥迪娅 -专利权人：伯斯有限公司
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03B21/56 文献下载
摘要：一种投影屏及其制造方法，该投影屏包括一多层、多波段、单堆叠装置，该装置选择性地反射波长在多个窄波长段内的光。该多层、多波段、单堆叠装置可以是一种标准具装置。该多层可以淀积在漫射衬底上。
选择性反射

[发明专利]选择性充电-CN95115697.7无效
发明人： I·W·沃 -专利权人：国威发展有限公司
申请日： 1995-10-10 - 公布日： 1997-04-16 - 主分类号： B60K1/04 文献下载
摘要：开关指令交流发电机根据辅助蓄电池的充电状态选择脉冲式、浮置式或充满式冲电电压。开关采用微处理器控制。三轴线曲线将放电电流和电压与充电状态联系起来。
选择性充电

[发明专利]选择性氧化-CN201380029487.X有效
发明人： P.伦德斯特罗姆;P-A.伦德斯特罗姆 -专利权人：尤万控股股份公司
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： C21C1/04 文献下载
摘要：本发明是用于选择性氧化来自铁熔体的一种或多种金属的方法，包括如下步骤：在转炉中提供铁熔体，并且将易还原的氧化物添加到铁熔体中，由此以便于氧化所述一种或多种金属，其特征在于所述转炉设置有用于感应加热的装置
选择性氧化

[发明专利]选择性差速器-CN201480078560.7有效
发明人： H-P·内特;S·赫贝尔;T·韦克林 -专利权人：吉凯恩汽车有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： B60K17/16 文献下载
摘要：在作为选择性地可断开或可连接的次传动系的一部分的差速器中，离合器装置允许差速器的输入构件与驱动动力以分支的方式被转送至的输出构件解除耦接以便能够在断开状态下完全切断部分的次传动系，驱动动力经由所述输入构件被引入到差速器中
选择性差速器

[发明专利]选择性标记-CN98805642.9无效
发明人： B·达姆 -专利权人：辛根塔默根有限公司
申请日： 1998-04-17 - 公布日： 2004-04-21 - 主分类号： C12N15/60 文献下载
摘要：本发明涉及氨基氰水合酶作为一种选择性标记在植物转化中的应用。氨基氰作为一种除草剂，用编码氨基氰水合酶基因转化的植物能够将氨基氰转变成尿素，这使通过氨基氰压力下的存活能够对转化植物进行选择。
选择性标记

[发明专利]选择性环肽-CN01815028.4无效
发明人：陈立;A·W·H·张;崔信洁;W·丹霍;J·斯威斯托克;王跃;K·A·亚安洛夫 -专利权人：霍夫曼－拉罗奇有限公司
申请日： 2001-08-21 - 公布日： 2003-10-22 - 主分类号： C07K14/68 文献下载
摘要：本发明涉及通过二硫键或内酰胺桥环合的肽，所述肽具有黑皮质素－4受体(MC4－R)激动剂活性，可用于治疗肥胖。
选择性环肽

[发明专利]选择性沉积-CN200780009125.9无效
发明人： D·K·卡尔森;S·库普里奥;E·A·C·桑切斯;H·贝克福德;Y·金 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-03-15 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：一种在基板表面上外延形成含硅材料的方法，通过调整处理反应室温度及压力来将含卤素气体用作蚀刻气体以及载气。将氯化氢用作该含卤素气体是有利的，因为可藉由调整该反应室压力轻易地将氯化氢从载气转换为蚀刻气体。
选择性沉积

[实用新型]高选择性频率选择表面-CN201721130925.3有效
发明人：赵鹏;孙荣荣;王高峰 -专利权人：杭州泛利科技有限公司
申请日： 2017-09-05 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： H01Q15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高选择性频率选择表面，属于电磁场与微波的技术领域。所述频率选择表面的金属层包含周期排列的多个金属单元，可作为天线罩、金属反射面等用于军事和民用领域；所述频率选择表面包括上下两层相同结构的频率选择表面金属层和中间的介质层；所述频率选择表面金属单元包括金属方环和四个金属等腰直角三角形本实用新型实现频率带通滤波特性，使用两层金属结构在通带两侧各引入一个传输零点，减少了通带与阻带之间的过渡带，实现带通两侧的陡降，实现了频率选择表面的高选择性。
选择性频率选择表面

[发明专利]铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液-CN201610046399.6在审
发明人：江月华 -专利权人：熙腾电子科技（上海）有限公司
申请日： 2016-01-25 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜选择性蚀刻液，其由铜氧化液和铜螯合液组成，所述铜氧化液包括氧化剂和/或水，所述铜螯合液包括草酸盐、氨基羧酸和水，所述铜选择性蚀刻液pH值为6.0～8.5。所述铜选择性蚀刻液可对铜进行选择性和均匀性地蚀刻。本发明还公开了一种钛选择性蚀刻液，其由钛氧化液和钛螯合液组成，所述钛氧化液包括过氧化氢和/或水，所述钛螯合液包括亚磷酸螯合剂、铜防腐蚀剂、无机碱和水，所述钛选择性蚀刻液pH值为7～10。所述钛选择性蚀刻液可对钛进行选择性和均匀性地蚀刻。在无铅焊料凸块的制作过程中使用所述铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液进行蚀刻可在半导体基板上方便快捷地制造出尺寸重现性好的无铅焊料凸块。
选择性蚀刻

[发明专利]选择性催化还原方法及选择性催化还原系统-CN202080068794.9在审
发明人：蔡昊廷;金泰完;金英敏;金井郞;裵永圭 -专利权人：韩国化学研究院
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B01D53/94 文献下载
摘要：本发明涉及选择性催化还原方法及选择性还原系统，向包含一氧化氮(NO)的处理气体中注入氨还原剂和硝酸供应源并供应给选择性催化反应器，不仅可以极大提高脱氮效率，而且减小SO2
选择性催化还原方法系统

[发明专利]利用醇选择性还原和保护的选择性沉积-CN201580043803.8有效
发明人：刘风全;马伯方;艾华;吕疆;张镁;戴维·汤普森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：一种选择性沉积方法，其相对于电介质表面来将金属选择性地沉积在金属表面。所述方法包括下述步骤：将金属氧化物表面还原成金属表面；和保护电介质表面以最小化所述电介质表面上的沉积。
利用选择性还原保护沉积

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