专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]内部沉积工艺-CN201110092907.1有效
  • I·米莉瑟维克;M·J·N·范·斯特劳伦;J·A·哈特苏克;E·阿尔迪 - 德拉克通信科技公司
  • 2011-04-13 - 2011-10-19 - C03B37/018
  • 本发明涉及一种内部沉积工艺。本发明涉及使用内部沉积工艺制造光纤用初级预制品的方法,所述方法包括以下步骤:i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管,ii)由加热炉包围至少部分的中空玻璃基管,iii)将掺杂或未掺杂的玻璃形成气体经由中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部,iv)创建反应区,在所述反应区中创建条件以使玻璃沉积发生在中空玻璃基管的内部,和v)使反应区在位于中空玻璃基管的供给侧附近的换向点和位于中空玻璃基管的排出侧附近的换向点之间沿着中空玻璃基管的长度往复移动
  • 内部沉积工艺
  • [发明专利]化学沉积设备-CN201611188878.8有效
  • 左敏 - 江苏微导纳米装备科技有限公司
  • 2016-12-21 - 2019-02-19 - C23C16/455
  • 本发明公开的化学沉积设备包括进装置,所述进装置包括:第一反应气体出气口,其用于向所述待处理衬底输送第一反应气体,和第二反应气体出气口用于向所述待处理衬底输送第二反应气体;隔离装置分布在第一反应气体出气口周围隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化;两种气体出气口与分布在第一反应气体出气口周围的隔离装置一起组成最小周期结构单元,本设备包括一个周期结构单元或一个以上周期结构单元;驱动装置,其用于驱动所述待处理衬底或者驱动进装置本发明通过隔离装置设计将两种反应气体的混合反应在空间上实现局域化,通过进装置与衬底载具之间的相对运动,对衬底进行沉积处理。
  • 化学沉积设备
  • [发明专利]沉积腔室-CN202010631367.9有效
  • 周志文 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2020-07-03 - 2022-02-22 - C30B25/08
  • 本申请公开了一种沉积腔室,包括:上外壁、反应基座、支撑环、下外壁、第一导流环,支撑环设置在所述上外壁和下外壁之间且与上外壁和下外壁连接,第一导流环和反应基座依次设置在所述支撑环的内侧,且第一导流环承载在下外壁,下外壁、第一导流环和反应基座形成第一子腔,在上外壁和反应基座之间形成第二子腔;第一导流环上构造有径向贯穿的进通孔和偏离进通孔的径向非贯穿的进切槽,进通孔与所述第一子腔连通以向第一子腔的内部引入清洗气体,进切槽与所述第二子腔连通以向第二子腔的内部引入工艺气体。根据本申请的沉积腔室,可方便地对其进行清洁。
  • 沉积
  • [发明专利]化学沉积方法-CN202010342032.5有效
  • 周云;宋维聪 - 上海陛通半导体能源科技股份有限公司
  • 2020-04-27 - 2020-08-07 - C23C16/40
  • 本发明提供一种化学沉积方法,包括步骤:1)提供键合片并放置于腔室内;2)于第一温度及第一压强下对键合片进行第一时长的第一阶段预热;3)于第二温度及第二压强下进行第二时长的第二阶段预热;4)于第三温度及第三压强下对进行第三时长的第三阶段预热;5)于第四温度下进行等离子体处理以对键合片进行清洁;6)于第四温度下进行化学沉积以于键合片的表面形成薄膜;其中,第一压强<第二压强≤第三压强,第一温度<第二温度≤第三温度,第一时长和第二时长均小于第三时长
  • 化学沉积方法
  • [发明专利]化学沉积设备-CN202110874025.4有效
  • 张保龙 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-30 - 2023-06-23 - C23C16/54
  • 本公开提供了一种化学沉积设备,属于半导体技术领域。该化学沉积设备包括反应腔体、供气组件、气体分配盘、气体控制组件。其中,反应腔体具有多个用于承载晶圆的承载台。供气组件,用于提供反应气体。这样能够通过气体控制组件调节反应气体的流量或者通气时间,以控制对应的气体分配盘的气体流量或者通气时间,减小在不同晶圆表面沉积薄膜膜厚的差异,从而可以提高在晶圆上所沉积薄膜的质量,进而降低成本。
  • 化学沉积设备
  • [发明专利]化学沉积-CN201710767019.2有效
  • 于金凤;朱刘 - 安徽光智科技有限公司
  • 2017-08-31 - 2023-09-01 - C23C16/30
  • 本发明涉及一种化学沉积炉,其包括自下而上组装的用于盛放原料的一坩埚、配合坩埚使用的一坩埚盖、一沉积室、一收料盒、一导气管;所述坩埚盖上开设了连通坩埚和沉积室的若干第一通孔,所述收料盒上开设有连通沉积室和收料盒的一第二通孔,所述化学沉积炉还包括给坩埚加热的一第一加热器,所述收料盒内置一集尘室和盖设在集尘室上方的一集尘室盖板,所述集尘室盖板上开设连通集尘室和收料盒的一第三通孔。本发明化学沉积炉,结构合理,多级收集硫化锌产品,所制得的硫化锌不产生雾斑、雾层、花纹等缺陷,且硫化锌产品的整体厚度偏差小,产品转化率高。
  • 化学沉积

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