专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]PECVD沉积-CN201220157527.1有效
  • 孙双庆;杜颖涛;齐海洋 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2012-04-13 - 2012-11-21 - C23C16/44
  • 本实用新型提供了一种PECVD沉积,包括:PECVD沉积本体(1),覆盖于PECVD沉积本体(1)顶面的喷砂层(2),和覆盖于喷砂层(2)顶面的镀铝层(3)。本实用新型提供的PECVD沉积,与现有技术相比,通过喷砂层(2)提高了该PECVD沉积顶面的粗糙度,镀铝层(3)增强了PECVD沉积顶面的吸附能力,使得沉积在PECVD沉积顶面的氮化硅较难脱离PECVD沉积顶面,减少了脱离PECVD沉积的氮化硅量,即减少了落在硅电池片上的氮化硅量,进而减小了氮化硅对硅电池片镀膜质量的影响,提高了硅电池片将光能转换为电能的转换效率。
  • pecvd沉积
  • [实用新型]水浴沉积镀膜-CN201020554680.9有效
  • 施成营;李沅民;林光沂 - 福建钧石能源有限公司
  • 2010-10-11 - 2011-04-20 - C23C18/00
  • 本实用新型公开了一种化学水浴沉积镀膜,应用于太阳能电池薄膜的制备工艺中;以制备CdS、ZnS或Zn(OH)等薄膜。该镀膜包括,由长方形底壁及沿所述底壁边缘围置的侧壁形成的凹槽,以及设置于所述凹槽中的搅拌装置,所述搅拌装置对所述凹槽中的盛放物进行搅拌。本实用新型的水浴沉积镀膜结构简单,易于操作,制造成本低。
  • 水浴沉积镀膜
  • [实用新型]新型V字型沉积-CN201520031813.7有效
  • 雷晓宏;曹海涛 - 北京通嘉宏盛科技有限公司
  • 2015-01-16 - 2015-08-05 - C23C16/44
  • 本实用新型提供一种新型V字型沉积,包括沉积本体、以及覆盖在其顶部表面上的喷砂层与电镀层,在沉积本体与喷砂层之间还设有防腐层,防腐层由环氧富锌涂层、聚脲弹性材料层与密封胶泥层复合构成;沉积本体的底部表面为平面结构本实用新型通过在其顶部表面增加防腐层,从而使其具有良好的防腐效果,以避免污染物对沉积进行腐蚀;由于将沉积本体的形状由现有的U型结构优化为底部为平面的V字型结构,因此,具有便于安装、且通用性强的特点。
  • 新型字型沉积
  • [实用新型]带有废渣沉积地漏-CN94237304.9无效
  • 任华国 - 任华国
  • 1994-05-07 - 1995-04-19 - E03C1/282
  • 带有废渣沉积地漏是一种立体式地漏,地漏的面板(3)上设有可开启的滤板(4),滤板内装有导流罩(7),面板下有一个圆筒体(11),圆筒体中设有排水管(1),排水管(1)的一端伸出圆筒体底部与排水管道连接,另一端在圆筒体内与园筒体内壁形成一个沉积(2)。废水由滤板流入地漏筒体时先滤除一部较大的废物,再由导流板导向沉积,进一步沉淀细小废渣后,以溢流的方式经排水管(1)进入地下排水管道。
  • 带有废渣沉积地漏
  • [实用新型]一种新型排水沟-CN201921151537.2有效
  • 韩光 - 江苏驰隆环境科技有限公司
  • 2019-07-22 - 2020-04-21 - E03F5/04
  • 本实用新型公开了一种新型排水沟,包括排水沟本体,排水沟本体侧壁外部还设有上端开口的沉积沉积小于排水沟本体的长度,沉积与排水沟本体平行设置,排水沟本体和沉积的横截面均为U型结构,沉积的两端均设有端挡板,沉积的侧壁上端和端挡板的上端均与排水沟本体的侧壁上端齐平,与排水沟本体相邻的沉积侧壁与排水沟本体的侧壁固定连接,排水沟本体底部与沉积相邻的一侧还设有沿排水沟本体长度方向的开口,开口沉积的长度相等,沉积通过开口与排水沟本体相通,排水沟本体底部上端面高于沉积底部上端面的高度。该排水沟可以将雨水中的尘土等小颗粒杂质隔离至沉积底部并形成淤泥,保证了排水沟本体的排水通畅性。
  • 一种新型排水沟
  • [实用新型]一种沉积-CN201922487737.1有效
  • 李洋洋;张秀全;薛海蛟;李真宇;张涛 - 济南晶正电子科技有限公司
  • 2019-12-30 - 2020-09-25 - C23C16/458
  • 本申请公开一种沉积盘,所述沉积盘适用于晶圆衬底CVD沉积,所述晶圆衬底具有直线形切边,在所述沉积盘上开设有沉积(1),所述沉积(1)为柱形槽,所述沉积(1)的截面为优弧弓形,所述优弧弓形的弦长等于晶圆衬底切边的边长,所述沉积(1)的半径等于晶圆衬底的半径,所述沉积(1)的深度等于晶圆衬底的厚度,使得晶圆衬底能够无缝契合于沉积中,从而在热处理过程中晶圆衬底各处受热均匀,从而提高CVD膜的均匀性。
  • 一种沉积
  • [实用新型]挖掘机油箱底座-CN201220114435.5有效
  • 李振 - 山东亚泰机械有限公司
  • 2012-03-23 - 2012-10-31 - E02F9/00
  • 本实用新型公开了一种挖掘机油箱底座,包括底座本体,所述底座本体中部设有沉积,所述沉积上设有底座固定孔,所述沉积的外沿上设有漏酸槽,所述漏酸槽连通沉积,由于在沉积上设有漏酸槽,酸洗后,通过底座固定孔进入沉积的残留磷化液,再由沉积的漏酸槽排出,使残留的磷化液容易排出,从而防止油箱表面生锈、漆膜脱落等现象,影响油箱质量。
  • 挖掘机油箱底座

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