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[发明专利]一种用于金属有机物化学气相沉积设备的冷却水板-CN201710883638.8有效
发明人：张虎威;管长乐 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： C30B25/10 文献下载
摘要：本发明涉及金属有机物化学气相沉积设备技术领域，公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的冷却水板，包括形成冷却水板框架的水冷板，所述水冷板的上表面包括热导层支撑部和设置在所述热导层支撑部周边的支撑框支撑部本发明用于金属有机物化学气相沉积设备的冷却水板能在满足晶片冷却均匀性的前提下，最大限度的提高对晶片温度的冷却效率，相应的提高了金属有机物化学气相沉积设备的产能。
一种用于金属有机物化学沉积设备冷却水

[发明专利]沉积方法-CN200880023588.5无效
发明人： S·J·赫斯特;G·贝尼托古铁雷斯;T·D·曼宁;K·D·桑德森 -专利权人：皮尔金顿集团有限公司
申请日： 2008-07-04 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： C23C16/453 文献下载
摘要：使用火焰热解(其优选是燃烧化学气相沉积法)在浮法玻璃或轧制玻璃生产过程期间所产生的玻璃带上沉积防反射二氧化硅涂层。所述玻璃带的温度大于200℃。该方法可在浮法浴槽或轧辊和退火窑之间的间隙进行。在另外实施方案中，将另外的氧引入到该气相沉积法中以产生具有较低有效折射率的涂层。
沉积方法

[发明专利]一种锌镓氧紫外探测器及其制备方法-CN201911267465.2在审
发明人：刘可为;韩冬阳;申德振;陈星;张振中;李炳辉 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： H01L31/032 文献下载
摘要：2O4薄膜以及金属叉指电极；所述ZnGa2O4薄膜以有机锌化合物作为锌源，有机镓化合物作为镓源，以高纯氧气为氧源，利用金属有机化合物化学气相沉积法在衬底表面沉积得到。本发明使用金属有机化合物化学气相沉积法制备ZnGa2O4薄膜，通过增加氧气流量，增加氧分压，减少氧缺陷，使制备得到的ZnGa
一种锌镓氧紫外探测器及其制备方法

[发明专利]原位腔室处理与沉积工艺-CN200980134897.4有效
发明人：保罗·F·马;约瑟夫·F·奥布赫恩;梅·张;史蒂文·H·金;吴典晔;诺曼·M·纳卡西玛;马克·约翰逊;罗亚·帕拉科德迪 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2009-08-19 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的实施例提供一种用于在例如原子层沉积(ALD)或化学气相沉积(CVD)的气相沉积工艺期间，处理工艺腔室的内表面和在其上沉积材料的方法。该氢化配体化合物可为与自后续沉积工艺期间使用的金属有机前驱物所形成的自由配体相同的配体。该自由配体通常在沉积工艺期间通过氢化或热解来形成。在一范例中，于实施气相沉积工艺前，该工艺腔室和基板在预处理工艺期间暴露至烷基胺化合物(例如，二甲胺)；该气相沉积工艺使用金属有机化学前驱物，其具有烷胺配体，例如，五(二甲胺)钽(PDMAT)。
原位处理沉积工艺

[实用新型]碳纳米管结合低维材料克服激子效应的高响应红外探测器-CN201921494807.X有效
发明人：胡伟达;吴培松;王芳;王鹏;张莉丽;陈效双;陆卫 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： H01L51/42 文献下载
摘要：本专利公开了一种碳纳米管结合低维材料克服激子效应的高响应红外探测器。器件的制备步骤是利用化学气相沉积生长单壁碳纳米管(SWCNTs)，并通过溶液分离法均匀沉积在Si/SiO2形成薄膜，利用热蒸发在上面沉积金属钯(Pd)作为源极和漏极。最后将低维材料硫化铅量子点通过逐层旋涂的方式沉积在已制备好的碳纳米管场效应晶体管上完成SWCNTs复合结构器件。本专利的特点是将一维单壁碳管与低维材料相结合，制作成本低、工艺简单易制备、响应度高、工作温度高。
纳米结合材料克服激子效应响应红外探测器

[发明专利]一种有机无机杂化钙钛矿薄膜的制备方法-CN202010499651.5在审
发明人：谭海仁;罗昕;顾帅 -专利权人：南京大学
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： H01L51/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种有机无机杂化钙钛矿薄膜的制备方法，属于太阳能电池技术领域。该方法具体是先采用热蒸发法在衬底表面沉积制得卤化铅薄膜，然后将得到的薄膜置于有机溶剂的气相环境中进行处理，最后采用溶液法引入有机铵盐，退火后即可得到有机无机杂化钙钛矿薄膜。
一种有机无机杂化钙钛矿薄膜制备方法

[发明专利]化学气相沉积法用材料和含硅绝缘膜及其制造方法-CN200980104520.4无效
发明人：中川恭志;野边洋平;郑康巨;齐藤隆一;小久保辉一 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2009-03-24 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： C23C16/42 文献下载
摘要：一种化学气相沉积法用材料，其含有下述通式(1)表示的有机硅烷化合物。(式中，R1和R2相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基或苯基；R3和R4相同或不同，表示碳原子数1～4的烷基、乙酰基或苯基；m表示0～2的整数；n表示1～3的整数)。
化学沉积用材绝缘及其制造方法

[发明专利]ZnMgGaO紫外探测器及其制备方法-CN202010800925.X在审
发明人：刘可为;侯其超;申德振;陈星;张振中;李炳辉 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01L31/0328 文献下载
摘要：本发明提供一种ZnMgGaO紫外探测器及其制备方法，其中的方法包括：S1、以有机锌化合物作为锌源，以有机镁化合物作为镁源，有机镓化合物作为镓源，以高纯氧气为氧源，利用金属有机化合物化学气相沉积法在衬底的表面生长与现有技术相比，本发明使用金属有机化合物化学气相沉积法制备ZnMgGaO薄膜，通过增加氧气流量、增加氧分压、减少氧缺陷的方式，使得制备的ZnMgGaO薄膜具有结晶质量高、不出现分相、吸收截止边陡峭等特点
znmggao 紫外探测器及其制备方法

[发明专利]一种高能量密度快充石墨复合材料及其制备方法-CN202111080356.7有效
发明人：宋志涛;胡志林;李四新;宋会英;陈飞 -专利权人：河北坤天新能源股份有限公司
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：本发明涉及锂离子电池材料技术领域，提出了一种高能量密度快充石墨复合材料及其制备方法，该复合材料呈现核壳结构，内核为石墨，外壳由内向外依次是固体电解质的第一外壳层，含有锂粉的有机聚合物的第二外壳层。本发明首先通过原子气相沉积法在石墨表面沉积固体电解质，之后通过液相法再在其表面包覆锂粉有机聚合物材料得到石墨复合材料。其复合材料利用固体电解质离子导电率高的特性提升倍率性能，同时，锂粉有机聚合物材料中的有机聚合物材料溶解于电解液中的溶剂，在充放电过程中释放出锂离子作为锂源，用以补偿锂离子电池负极在首次充放电过程中出现的锂消耗
一种高能量密度石墨复合材料及其制备方法

[实用新型]一种化学气相沉积装置-CN201922237894.7有效
发明人：胡祥龙;黄启忠;蔡昌海;周岳兵;刘庆敖 -专利权人：中南大学;湖南顶立科技有限公司;安徽弘昌新材料有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学气相沉积装置，包括：壳体，壳体内设置有沉积腔；置料板，置料板设置在沉积腔内，用于放置需要气相沉积的衬底；感应线圈，感应线圈设置在沉积腔内部且位于置料板下方，感应线圈用于产生感应磁场本实用新型的化学气相沉积装置，根据多元耦合场沉积法的原理设计了一种化学气相沉积装置，主要用于板状件的化学气相沉积，感应线圈在电流的作用下产生变化的感应磁场通过置料板，使置料板产生感应电流发热，热量传递给衬底形成沉积所需要的温度因为衬底处于感应磁场中，感应磁场吸引碳氢化合物裂解产生的自由基等粒子向衬底运动，增加了自由基等粒子与沉积表面的碰撞几率，从而使沉积速率得到了极大的提高。
一种化学沉积装置

[发明专利]改善晶圆表面平坦度的方法-CN03121971.3有效
发明人：詹前庆;欧阳允亮;卢永伟 -专利权人：矽统科技股份有限公司
申请日： 2003-04-18 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：本发明揭示一种改善晶圆表面平坦度的方法，适用在一晶圆上以化学气相沉积法(chemical vapor deposition；CVD)沉积复数层的薄膜，包括：一晶圆；将晶圆置入一第一薄膜沉积设备中，以化学气相沉积法沉积一第一层薄膜，其中第一薄膜沉积设备具有至少一第一反应气体注入口(injector)，且晶圆相对第一反应气体注入口具有一第一方向；将晶圆置入一第二薄膜沉积设备中，以化学气相沉积法沉积一第二层薄膜，其中第二薄膜沉积设备具有至少一第二反应气体注入口
改善表面平坦方法

[发明专利]用于有机器件的沉积材料以及用于制备有机器件的方法-CN201080033145.1有效
发明人：林诚之 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2010-07-26 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明公开一种用于制备有机器件的气相沉积材料。所述用于有机器件的气相沉积材料具有10-200μm的由D50％表示的平均粒径以及1.0-4.0的由D60％直径/D10％直径表示的均匀度。
用于有机器件沉积材料以及制备方法

[发明专利]使半导体沉积层平整的方法-CN03148401.8有效
发明人：林经祥;廖振伟;杨云祺;洪永泰;陈俊甫 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-06-27 - 公布日： 2005-01-19 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：本发明涉及一种使半导体沉积层平整的方法，首先，提供一基材；接着，用高密度等离子化学气相沉积法在基材上形成一半导体沉积层；然后，用溅射蚀刻法处理上述半导体沉积层表面；接着，用化学机械研磨法使上述半导体沉积层表面平整本方法用溅射蚀刻处理半导体沉积层表面，可以提高化学机械研磨机研磨上述半导体沉积层的研磨效率。
半导体沉积平整方法

[实用新型]等离子增强热丝化学气相沉积薄膜装置-CN200420053672.0无效
发明人：石玉龙;闫凤英 -专利权人：青岛科技大学
申请日： 2004-09-13 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子增强热丝法化学气相沉积薄膜的装置，属于化学气相沉积领域。本实用新型结合了等离子化学气相沉积和热丝化学气相沉积的优点，即在等离子化学气相沉积设备的两极之间再加上热丝，提供分解反应气体所需的热能并且还可以加热样品台上的样品，且灯丝上不再直接施加偏压，可提高灯丝的使用寿命同时，在上电极中央设置进气通孔，气体进入时可以进行预热活化有利于化学反应进行。在上电极下方设置带有均流孔的喷头，使反应气流分布均匀，易得到均匀的膜层。本装置可以使薄膜的沉积工艺有更大的调节范围，适合沉积多种薄膜。
等离子增强化学沉积薄膜装置

[发明专利]一种金刚石涂层的制备方法及其制备装置-CN201711267569.4有效
发明人：许立;李丙文;马宁 -专利权人：富耐克超硬材料股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明提供一种金刚石涂层的制备方法，其包括以下步骤：将三聚氰胺溶解于醇溶液中，得到混合溶液；以甲烷和氢气为反应气源，将所述反应气源和所述混合溶液同时通入沉积室中，利用热丝气相沉积法在基体的表面沉积金刚石该方法在气相沉积中引入了三聚氰胺和醇溶液，三聚氰胺和醇分解形成NH
金刚石涂层三聚氰胺热丝金刚石反应气源混合溶液制备装置醇溶液制备气相沉积法表面沉积发热效率工业应用气相沉积使用寿命无定形碳装置结构氢气沉积室甲烷沉积溶解分解生长引入

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