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[发明专利]曝光方法及使用该曝光方法制造显示装置的方法-CN201910921483.1在审
发明人：尹锡圭;永井新一郎 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于步进式移动矩形掩模和衬底的相对位置的曝光方法包括：第一投影曝光，其中，掩模位于衬底的第一区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第一投影部；第二投影曝光，其中，掩模位于衬底的第二区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第二投影部；以及第三投影曝光，其中，掩模位于衬底的第三区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第三投影部。
曝光方法使用制造显示装置

[发明专利]投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版-CN201610709282.1有效
发明人：中泽朗 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版，该投影曝光装置使用掩模版形成图案，在提升生产量的同时，将掩模图案精度良好地转印到基板上。投影曝光装置(10)使用形成有图案排列数分别不同的多个掩模域(F1～F4)的掩模版(R)，针对形成于基板(W)的投射区域(CP)确定运算区域(OA)，在位置对准误差量在允许误差以下时，选择最大尺寸的掩模域
投影曝光装置方法以及模版

[发明专利]光刻投影装置-CN200910167452.8有效
发明人： P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻投影装置。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统的空间位置的组件。该组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所需空间位置的数量的传感器。
光刻投影装置

[发明专利]一种投影车灯及投影控制方法-CN201710100470.9在审
发明人：孟扬 -专利权人：北京嘀嘀无限科技发展有限公司
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： G03B21/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种投影车灯及投影控制方法，投影车灯包括：通信模块、逻辑控制电路、光源、液晶掩模板和主透镜；通信模块用于接收控制指令；逻辑控制电路用于根据控制指令生成液晶掩模板控制信号，发送给液晶掩模板，并根据控制指令和车辆控制指令生成光源控制信号并发送给光源；液晶掩模板根据液晶掩模板控制信号形成对应的图案，光源发出的光依次经过液晶掩模板和主透镜，将液晶掩模板上的图案投影至地面。本发明实施例当前车灯的投影图案通过云平台的处理，避免与周边车辆的车灯投影相同；通过逻辑控制电路控制液晶掩模板形成对应的图案；并通过主透镜将图案投影至地面，能够使用户在复杂环境中快速寻找到目标车辆，提高约车环节效率
液晶掩模板逻辑控制电路投影车灯主透镜光源控制信号控制指令通信模块投影控制图案投影车灯光源控制信号接收控制指令图案车辆控制复杂环境快速寻找目标车辆投影图案指令生成周边车辆云平台约车并发投影环节

[发明专利]源、掩模和投影光学装置的优化流程-CN201110353099.X有效
发明人：徐端孚;陈洛祁;冯函英;R·C·豪威尔;周新建;陈逸帆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-11-09 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种源、掩模和投影光学装置的优化流程。本发明的实施例提供用于优化光刻投影设备的方法，所述方法包括优化其中的投影光学装置。当前的实施例包括几个流程，包括优化源、掩模和投影光学装置和各种连续的且迭代的优化步骤，其将投影光学装置、掩模和源任意组合。投影光学装置有时被广义地称作为“透镜”，因此优化过程可以用术语源掩模透镜优化来表示。源掩模透镜优化可能相对于已有的源掩模优化过程或其它优化过程是被期望的，该其它的优化过程不包括投影光学装置优化，部分原因在于将投影光学装置包括在优化中可能通过引入投影光学装置的多个可调节的特性导致更大的过程窗口投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形，使得能够对整个成像过程进行像差控制。
投影光学装置优化流程

[发明专利]激光照射装置及薄膜晶体管的制造方法-CN201780069323.8在审
发明人：水村通伸;新井敏成;畑中诚;竹下琢郎 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明的一个实施方式的激光照射装置具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向分别粘附于玻璃基板上的多个薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定区域照射该激光；及投影掩模图案，其设置在该投影透镜上，包含设定有该激光透过的比例即透射率的多个掩模，该投影透镜对于沿规定的方向移动的该玻璃基板上的该多个薄膜晶体管，分别经由该投影掩模图案所包含的该多个掩模来照射该激光，该投影掩模图案包含的该多个掩模分别设定多个该透射率中的任一个。
薄膜晶体管投影透镜投影掩模掩模激光照射装置激光玻璃基板透射率图案非晶硅薄膜方向移动激光透过区域照射粘附光源照射制造

[发明专利]光刻装置及集成电路制造方法-CN200410061804.9有效
发明人： P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻投影装置(1)。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束PB照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统PL构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统(PL)的空间位置的组件。
光刻装置集成电路制造方法

[发明专利]一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置以及方法-CN201410199385.9有效
发明人：李天鹏;何经雷 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-05-12 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置，包括：一掩模台组件，用于将该掩模板的标记阵列经该投影物镜成像形成以标记像点；一掩模台对准组件，用以实现该掩模台组件的对准安装；一标记探测组件，该标记探测组件用于测量该掩模板的标记阵列及该标记像点以获得该投影物镜的波前信息
一种基于模板投影物镜性能测试装置以及方法

[发明专利]用于投影曝光的装置和方法-CN200410045552.0有效
发明人：百濑克已;山贺胜;松永真一 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2004-05-28 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G02B15/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。
用于投影曝光装置方法

[发明专利]光学高度检测系统-CN201880063510.X有效
发明人：张剑;康志文;王義向 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01J37/22 文献下载
摘要：光学高度检测系统包括投影单元和检测单元，投影单元包括调制照射源、包含投影光栅图案的投影光栅掩模以及用于将投影光栅图案投影到样本的投影光学单元；检测单元包括包含第一检测光栅图案的第一检测光栅掩模、包含第二检测光栅图案的第二检测光栅掩模以及用于将来自投影光栅图案的第一光栅图像形成到第一检测光栅掩模上并将来自投影光栅图案的第二光栅图像形成到第二检测光栅掩模上的检测光学系统
光学高度检测系统

[发明专利]用于三维成像装置中的图案投影装置-CN202210238347.4在审
发明人： P·格林贝格;A·盖勒;M·埃威吉 -专利权人：银牛有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G03B35/08 文献下载
摘要：公开了一种图案投影仪。该图案投影仪包括光源、投影透镜、掩模和至少一个支架，并且该掩模被配置为使该至少一个投影透镜在将预定图案投影在目标处时能照射该目标，并且其中，该图案投影仪的特征在于，该至少一光源是广域光源，并且其中，该至少一个掩模的面积或该至少一个掩模的有效面积小于该至少一个光源的面积，从而能够避免在该至少一个光源与该至少一个掩模之间应用聚光器光学器件或聚焦光学器件。
用于三维成像装置中的图案投影

[发明专利]激光退火装置及激光退火方法-CN201880047929.6在审
发明人：水村通伸 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明的一方案的激光退火装置具备：光源，其产生激光；复眼透镜，其用于使激光的强度分布均匀；投影掩模，其遮蔽通过了复眼透镜的激光；及投影透镜，其由通过了投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，为了抑制干涉条纹通过投影掩模而产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，该干涉条纹是激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹。
激光退火装置方法

[发明专利]用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法-CN201980066886.0在审
发明人： K·Z·特鲁斯特;E·范塞滕;段福·史蒂芬·苏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-03 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本文描述了一种利用光刻投影设备进行源掩模优化的方法。光刻投影设备包括照射源和被配置为将掩模设计布局成像到衬底上的投影光学器件。该方法包括使用针对照射源、投影光学器件和掩模设计布局的多个可调谐设计变量来确定多变量源掩模优化函数。多变量源掩模优化函数考虑到遍及曝光缝隙中对应于掩模设计布局的不同条纹的不同位置的成像变化，所述不同条纹由曝光设备的同一缝隙位置曝光。该方法包括迭代地调整所述多变量源掩模优化函数中的多个可调谐设计变量，直到满足终止条件。
用于数值孔径穿缝源掩模优化方法

[发明专利]光刻曝光方法、装置和存储介质-CN202110262837.3在审
发明人：李玉华;黄发彬;吴长明;姚振海;金乐群 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种光刻曝光方法、装置和存储介质，该方法包括：一种光刻曝光方法，其特征在于，包括：获取投影掩模板的透射率和温度分布；根据透射率和温度分布对投影掩模板进行加热使投影掩模板的温度分布的均匀性达到目标值；预测投影掩模板的形变；根据形变对光刻曝光的套刻误差进行补偿，得到补偿后的曝光参数；根据补偿后的曝光参数，对晶圆的第i曝光区域进行曝光，1≤i≤N，N≥2，i、N为自然数，N为晶圆上的曝光区域的个数；令本申请通过获取投影掩模板的透射率和温度分布对其进行加热，使投影掩模板的温度分布较为均匀，从而在一定程度上降低了投影掩模板的形变，降低了套刻误差。
光刻曝光方法装置存储介质

[发明专利]一种掩模板及蒸镀设备-CN201810729446.6有效
发明人：郝志元 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩模板及蒸镀设备，该掩模板包括：设有多个像素开口的第一掩模板，包括第一预设区域和第二预设区域；叠放于第一掩模板一侧的第二掩模板，包括第第一投影区域及第二投影区域；多个像素开口在第一预设区域分为至少一个第一子区域，第二掩模板在第一投影区域设有第一开口部，第一子区域与至少一个第一开口部正对，第一开口部在第一掩模板上的正投影落入对应的第一子区域内；多个像素开口在第二预设区域处分为多个第二子区域，第二掩模板在第二投影区域设有多个第二开口部，每一第二子区域与一个第二开口部正对，每一第二子区域在第二掩模板的正投影落入对应的第二开口部内。本发明的掩模板及蒸镀设备在蒸镀时可减少混色类不良。
一种模板设备

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