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[发明专利]位置相关变体识别计算流水线-CN201610172078.0在审
发明人：叶军;周巍;陈洛祁;冯汉鹰;陈洪;刘晓峰 -专利权人：知源生信公司（美国硅谷）
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G06F19/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种利用计算机辅助实现的分析多个核酸序列片段中变体的方法。该方法使用的计算流水线包括使用位置相关参数的模块。该方法包括在处理器上执行下列步骤：接收多个核酸序列片段，这些核酸序列片段至少包括一个第一核酸序列片段和一个第二核酸序列片段；分别将第一核酸序列片段和第二核酸序列片段比对到基因组中的第一位置和第二位置；基于第一位置和第二位置，分别向该位置相关参数赋予第一数值和第二数值；将第一核酸序列片段和第二核酸序列片段输送通过使用位置相关参数的模块，分别使用第一数值和使用第二数值；并且产生变体识别。
位置相关变体识别计算流水线

[发明专利]单通多变体识别计算流水线-CN201610173000.0在审
发明人：叶军;周巍;陈洛祁;冯汉鹰;陈洪;刘晓峰 -专利权人：知源生信公司（美国硅谷）
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G06F19/22 文献下载
摘要：本公开提供了一种利用计算机辅助实现的分析多个核酸片段中变体的方法。该方法使用的计算流水线包括至少一个恒定模块和至少一个可变模块，其中可变模块基于可变参数。该方法包括在处理器上执行下列步骤：接收多个核酸序列片段；为可变参数设定多个数值；将多个核酸片段通过不变模块以产生中间输出结果；将中间输出结果多次通过可变模块，每次使用可变参数的多个数值中的一个；并生成多个变体识别。
多变识别计算流水线

[发明专利]在在线会话中向用户提供在线数据的方法和系统-CN201210333414.7有效
发明人： 陈洛祁;叶军;罗亚;曹宇;庄葳;冯汉鹰 -专利权人：源初科技有限公司
申请日： 2012-09-10 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G06Q30/02 文献下载
摘要：本发明涉及在在线会话中向用户提供在线数据的方法和系统。在线会话中向用户提供在线数据的方法包括：确定所述在线会话的内容的一种或多种情感；至少部分地基于如下信息对多个数据候选进行排序：（i）所述在线会话的内容与各个数据候选中的每个数据候选的内容之间的相关性；以及（ii）所述在线会话的内容的所述一种或多种情感与各个数据候选中的每个数据候选的内容之间的相关性；至少部分地基于所述排序的结果在所述多个数据候选中选择数据；以及提供所选择的数据以显示给所述用户。
在线会话用户提供数据方法系统

[发明专利]对光刻系统中的闪烁效应的校正-CN201180044004.4有效
发明人：刘华玉;刘伟;李江伟;陈洛祁;江泂 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-09-01 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明描述了一种用于减小由用于将设计布局成像到衬底上的光刻设备产生的闪烁效应的方法。通过将曝光场处的设计布局的密度分布图与点扩散函数(PSF)进行数学组合来模拟光刻系统的曝光场中的闪烁分布图，其中闪烁分布图上的系统特定的效应可以被包含到所述模拟中。通过使用所确定的闪烁分布图计算设计布局的依赖于位置的闪烁校正，由此减小所述闪烁效应。在所述模拟中所包含的所述系统特定的效应中的一些是：由于来自掩模的黑边界的反射造成的闪烁效应、由于来自限定曝光狭缝的一个或更多个掩模版遮蔽刀片的反射造成的闪烁效应、由于过扫描造成的闪烁效应、由于来自动态气锁(DGL)机制的气锁子孔径的反射造成的闪烁效应和由于来自相邻曝光场的贡献造成的闪烁效应。
光刻系统中的闪烁效应校正

[发明专利]在线注意力定向广告-CN201210269017.8有效
发明人：叶军;曹宇;陈洛祁;罗亚;庄葳;冯汉鹰 -专利权人：源初科技有限公司
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： G06Q30/02 文献下载
摘要：在至少一个方面，本公开中描述的各个实施例涉及计算机实现的在线广告方法。在至少一个实施例中，一种方法包括：至少基于每个广告创意与用户的潜意识兴趣之间的相关性来确定与同一广告内容相对应的多个广告创意中的每一个广告创意的注意力评分。该方法进一步包括：至少部分地基于注意力评分在该多个广告创意中选择一个广告创意；以及将所选广告创意用于该广告内容作为一个广告印象提供给该用户。
在线注意力定向广告

[发明专利]光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成-CN201210092983.7有效
发明人： 陈洛祁;叶军;陈洪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-03-31 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成。本发明涉及光刻设备和过程，尤其涉及用于印刷超过光刻设备的分辨率极限的目标图案的多重图案化光刻术。公开了一种将经由光刻过程被成像到衬底上的图案分割成多个子图案的方法，其中所述方法包括分割步骤，所述分割步骤配置成考虑在所述子图案中的至少一个和用于光刻过程的光刻设备的光学设定之间的共同优化的要求。器件特性优化技术包括基于衍射标识分析的智能图案选择，可以被集成到多重图案化过程流程中。
光刻设备优化过程多重图案集成

[发明专利]用于源和掩模优化的图案选择方法-CN201080048248.5有效
发明人：刘华玉;李江伟;李志潘;陈洪;陈洛祁;张幼平;叶军;蔡明村;陆颜文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及从设计选择图案子组的方法、执行源和掩模优化的方法以及用于执行从设计选择图案子组的方法的计算机程序产品图案子组。根据具体方面，本发明允许覆盖全部设计的同时，通过智能地从设计中选择图案子组降低计算成本，其中设计或设计的修正被配置成通过光刻过程被成像到衬底上。该从设计选择图案子组的方法包括从设计识别与该设计的预定表示相关的图案组。通过根据该方法选择图案子组，所选定的图案子组构成作为该图案组的所述设计的类似的预定表示。
用于优化图案选择方法

[发明专利]源、掩模和投影光学装置的优化流程-CN201110353099.X有效
发明人：徐端孚;陈洛祁;冯函英;R·C·豪威尔;周新建;陈逸帆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-11-09 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种源、掩模和投影光学装置的优化流程。本发明的实施例提供用于优化光刻投影设备的方法，所述方法包括优化其中的投影光学装置。当前的实施例包括几个流程，包括优化源、掩模和投影光学装置和各种连续的且迭代的优化步骤，其将投影光学装置、掩模和源任意组合。投影光学装置有时被广义地称作为“透镜”，因此优化过程可以用术语源掩模透镜优化来表示。源掩模透镜优化可能相对于已有的源掩模优化过程或其它优化过程是被期望的，该其它的优化过程不包括投影光学装置优化，部分原因在于将投影光学装置包括在优化中可能通过引入投影光学装置的多个可调节的特性导致更大的过程窗口。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形，使得能够对整个成像过程进行像差控制。
投影光学装置优化流程

[发明专利]源偏振的优化-CN201110281510.7有效
发明人： 陈洛祁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-09-21 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及源偏振的优化。本发明公开了一种光刻模拟过程，其中通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些表征在源点处的偏振状态。基于所计算的代价函数相对于一个或更多个变量参数的梯度，迭代地重新配置照射源中的预选组源点和设计布局的表示中的一个或两个，直到获得期望的光刻响应为止，其中代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度。还描述了用于执行源偏振变化的物理硬件。
偏振优化

[发明专利]快速自由形式源和掩模共同优化方法-CN200980145873.9有效
发明人： 陈洛祁;曹宇;叶军 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-11-20 - 公布日： 2011-10-19 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及光刻设备和过程，尤其涉及用于优化用在光刻设备和过程中的照射源和掩模的工具。根据特定的方面，本发明通过允许直接计算成本函数的梯度，显著地加速了所述优化的收敛。根据其它的方面，本发明允许同时优化源和掩模，由此显著地加速了整体的收敛。根据又一另外的方面，本发明允许自由形式的优化，且没有通过传统的优化技术所要求的限制。
快速自由形式共同优化方法

[发明专利]基于衍射标记分析的对设计布局中的优化图案的选择-CN201010529705.4有效
发明人：刘华玉;陈洛祁;陈红;李志潘 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-10-28 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是基于衍射标记分析的设计布局中优化图案的选择。本发明大体上涉及基于衍射标记分析选择最优的图案，更具体地，涉及使用最优的图案用于光刻成像的掩模优化。对来自设计布局的初始的较大组的目标图案的多个目标图案的每一个产生相应的衍射图。从多个衍射图中识别衍射标记。多个目标图案被分成多个衍射标记类，在特定的衍射标记类中的目标图案具有类似的衍射标记。选择子组目标图案以覆盖所有可能的衍射标记类，使得子组目标图案表示用于光刻过程的设计布局的至少一部分。多个目标图案的分类步骤可以通过基于类似的衍射标记的预定规则进行控制。预定的规则包括多个衍射标记类之间存在的包含关系。
基于衍射标记分析设计布局中的优化图案选择

[发明专利]用于对全芯片图案实施图案分解的方法-CN200810173349.X有效
发明人： 陈洛祁;陈虹;李江伟;罗伯特·约翰·索卡 -专利权人：睿初科技公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于将包括要印制到晶片上的特征的目标图案分解成多个图案的方法。所述方法包括步骤：将所述目标图案分割成多个小块；识别每个小块内违反最小间隔要求的临界特征；为具有临界特征的所述多个小块中的每一个生成临界组图形，其中给定小块的所述临界组图形限定所述给定小块内的所述临界特征的着色方案，并且所述临界组图形还识别延伸到与所述给定小块相邻的邻接小块的临界特征；对于所述目标图案生成整体临界组图形，所述整体临界组图形包括所述多个小块中的每一个的所述临界组图形和延伸到邻接小块的所述特征的识别；以及基于所述整体临界组图形限定的所述着色方案着色所述目标图案。
用于芯片图案实施分解方法

[发明专利]用于平板印刷仿真的系统和方法-CN200810178751.7有效
发明人：叶军;卢彦文;曹宇;陈洛祁;陈恂 -专利权人：睿初科技公司
申请日： 2004-09-07 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种技术和系统，用于仿真、验证、检查、特征化、确定和/或评价平板印刷设计、技术和/或系统以及/或者由此执行的单独功能或其中使用的部件；加速了平板印刷系统和处理技术的光学特征和/或属性以及效果和/或相互作用的平板印刷仿真、检查、特征化和/或评价。在这点上，本发明利用包括专用硬件加速器的平板印刷仿真系统架构和包括整个平板印刷工艺的具体仿真和特征化的用以加速和促进掩模设计的处理技术。系统包括：一个或多个通用型计算装置，用以在数据处理中执行具有分支和相互依赖的基于范例的逻辑，以及加速器子系统，用以执行多数计算密集任务。
用于平板印刷仿真系统方法

[发明专利]用于形成光刻工艺的焦点曝光模型的系统和方法-CN200680029512.4有效
发明人：叶军;曹宇;陈洛祁;刘华玉 -专利权人：睿初科技公司
申请日： 2006-08-02 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：公开了一种用于形成光刻工艺的焦点曝光模型的系统和方法。所述系统和方法采用沿着参数变化的多个维度的校准数据，尤其是在曝光离焦工艺窗口空间内。所述系统和方法提供一组统一的模型参数值，所述模型参数值导致在名义上的工艺条件下的模拟的更好的精确度和鲁棒性，以及预见在对于不同的设定不需要重新校准的情况下的在遍及整个工艺窗口区段的连续的任何点上的光刻性能。在比现有技术的多模型校准需要更少的测量的情况下，离焦曝光模型提供更有预见性和更有鲁棒性的参数值，所述参数值可以被用于工艺窗口中的任何位置上。
用于形成光刻工艺焦点曝光模型系统方法

[发明专利]用于平板印刷仿真的系统和方法-CN200480026144.9有效
发明人：叶军;卢彦文;曹宇;陈洛祁;陈恂 -专利权人：睿初科技公司
申请日： 2004-09-07 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：这里描述和图示有许多发明。在一个方面中，本发明针对一种技术和系统，用于仿真、验证、检查、特征化、确定和/或评价平板印刷设计、技术和/或系统以及/或者由此执行的单独功能或其中使用的部件。在一个实施例中，本发明是一种系统和方法，该系统和方法加速了平板印刷系统和处理技术的光学特征和/或属性以及效果和/或相互作用的平板印刷仿真、检查、特征化和/或评价。在这点上，在一个实施例中，本发明利用一种包括专用硬件加速器(116a...116n)的平板印刷仿真系统架构(110)和一种包括整个平板印刷工艺的具体仿真和特征化的用以加速和促进掩模设计例如RET设计的验证、特征化和/或检查的处理技术，以验证该设计在最终的晶片图案上实现和/或提供了所需结果。系统(110)包括：(1)一个或多个通用型计算装置(114a、142a、142b)，用以在数据处理中执行具有分支和相互依赖的基于范例的逻辑，以及(2)加速器子系统(146a1...146ax、...、146n1...146nx)，用以执行多数计算密集任务。
用于平板印刷仿真系统方法

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