专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]同轴线缆束的连接构造及其制造方法-CN201410050359.X有效
  • 田中正人;佐藤和宏 - 住友电气工业株式会社
  • 2014-02-13 - 2017-07-21 - H01R9/05
  • 本发明提供一种小型且形状紧凑的同轴线缆束的连接构造及其制造方法,其中,根据该连接构造,在将并列有多根同轴线缆的并列同轴线缆组多层层叠的结构中,使层叠方向上的厚度和宽度方向上的长度变小,兼具绝缘特性和形状稳定性在同轴线缆束中,多层层叠有并列同轴线缆组,该并列同轴线缆组是将多根在中心导体的周围依次设有绝缘体、外部导体及外皮的同轴线缆并列而成的。在层叠的多个并列同轴线缆组中,露出的绝缘体与中心导体的总长度对应于层叠的每层而在层叠方向上从一方侧朝向另一方侧依次变长。
  • 同轴线缆连接构造及其制造方法
  • [发明专利]半导体压力传感器及其制造方法-CN201110274113.7有效
  • 佐藤公敏 - 三菱电机株式会社
  • 2011-09-05 - 2012-07-11 - G01L1/22
  • 一种半导体压力传感器的制造方法,在牺牲层(16)上形成层叠构造,所述层叠构造包含:多晶硅隔膜(6),形成于应成为其下方的真空室的空间(13)侧的多晶硅应变计电阻(4b),内包它们并具有与牺牲层(16)相接的蚀刻液导入孔而且,使蚀刻液通过所述蚀刻液导入孔(15)并蚀刻牺牲层(16),从而将层叠构造形成为在真空室上起作用的隔膜体(11),并且通过蚀刻硅基板(1)中的第1绝缘膜(2)的第1开口(2a)下的表面,形成应成为真空室的空间
  • 半导体压力传感器及其制造方法
  • [发明专利]燃料电池-CN201210148732.6有效
  • 石田坚太郎;后藤修平;杉田成利;中村哲也 - 本田技研工业株式会社
  • 2012-05-14 - 2012-11-21 - H01M8/02
  • 提供一种燃料电池,燃料电池(10)的单电池单元(12)具备第一电解质膜电极构造体(14)、第一金属隔板(16)、第二电解质膜电极构造体(18)及第二金属隔板(20)。第一及第二电解质膜电极构造体(14、18)在外周具有树脂框部件(28a、28b),在所述树脂框部件(28a、28b)上设有多个各冷却介质连结流路(116)。单电池单元(12)的多个冷却介质连结流路(116)和与其在层叠方向上相邻的单电池单元(12a)的多个冷却介质连结流路(116a)被偏置配置于在层叠方向上互不重合的位置上。
  • 燃料电池

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