专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种垂直腔面发射激光器芯片及制作方法-CN201910234625.7有效
  • 刘凯;罗俊伟;位祺;黄永清;段晓峰;王琦;任晓敏;蔡世伟 - 北京邮电大学
  • 2019-03-26 - 2020-12-01 - H01S5/183
  • 本发明实施例提供一种垂直腔面发射激光器芯片及制作方法,采用相应的第二多层材料膜反射层和金属反射层构成的组合反射作为VCSEL的非出光面(底面)反射,并且第二多层材料膜反射层的对数少于由第一多层材料膜反射层构成的VCSEL的(顶面)出光面反射的对数,第二多层材料膜反射层的反射率低于第一多层材料膜反射层的反射率。采用的上述组合反射代替了传统的垂直腔面发射激光器芯片第二包层下面的分布式布拉格反射构成的底面反射,可以在较少的材料膜反射层对数的情况下获得所需的高反射率,同时可以减少相应的材料应力和串联电阻,在减小器件制作工艺难度的情况下提升器件的性能
  • 一种垂直发射激光器芯片制作方法
  • [发明专利]一种X射线多层膜反射及其制作方法-CN202211563024.9在审
  • 温炜杰;杨苹;梁兆佳 - 广州阿尔法精密设备有限公司
  • 2022-12-07 - 2023-05-30 - G21K1/06
  • 本发明涉及一种X射线多层膜反射及其制作方法,属于反射制作技术领域,所述反射包括基片、多层膜和保护膜;所述反射的制备方法,包括如下步骤:(1)预处理;(2)镀多层膜;(3)制备反射。本发明选用硅基片做基片,由钼膜和硅化镁膜交替分布而成的多个周期膜多层层叠组成多层膜,选用碳膜作为保护膜,采用梯度镀膜方式,设置第一个周期膜厚度为1.75‑2.05nm,在硅基片上从内向外按0.1nm的值逐渐增大周期膜厚度;此外,还设置了合适的工作气压、镀膜层数和镀膜周期,制得了反射率较高的X射线多层膜反射
  • 一种射线多层反射及其制作方法
  • [发明专利]用于远紫外掩模的泄漏吸收体-CN200680009413.X无效
  • P-Y·严 - 英特尔公司
  • 2006-03-31 - 2008-05-14 - G03F1/14
  • 本发明公开了一种形成掩模的方法,包括:提供一衬底;在衬底上形成用于EUV光的多层;在多层上形成用于EUV光的泄漏吸收体;以及将泄漏吸收体图案化成强反射的第一区和弱反射的第二区。本发明还公开了一种EUV掩模,包括:衬底;位于衬底上的多层,该多层具有第一区和第二区;以及位于多层的第二区上的泄漏吸收体,该泄漏吸收体将入射光移相180度。
  • 用于紫外泄漏吸收体
  • [发明专利]Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射及其制作方法-CN201110250663.5无效
  • 朱京涛;周斯卡;李浩川;王占山 - 同济大学
  • 2011-08-29 - 2013-03-06 - G02B5/08
  • 本发明涉及Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射及其制作方法,在超光滑的硅片或玻璃基底上镀制打底层,再交替镀制Mg、Mo和SiC膜层形成Mg/Mo/SiC周期多层膜,最后镀制SiC作为保护层即可。本发明采用熔点高、相态稳定的金属Mo加入到多层膜Mg/SiC中,制作出的三种材料的极紫外多层膜反射,克服了Mg/SiC等传统的Mg基多层膜带宽窄的缺点,同时,在极紫外波段Mo的光学常数合适,Mg/Mo/SiC多层膜反射保持了Mg基多层膜反射高的反射率。因此,Mg/Mo/SiC多层膜反射同时兼顾了反射率和工作带宽两方面的光学性能,特别适用于同步辐射光源、超快激光和空间观测等领域等极紫外波段应用。
  • mgmosic紫外多层反射及其制作方法
  • [发明专利]电压机压合铝-CN201210072056.9无效
  • 沈金明 - 苏州市嘉明机械制造有限公司
  • 2012-03-19 - 2012-08-01 - H05K1/03
  • 本发明公开了一种电压机压合铝材板,包括:第一隔离板、第二隔离板、多层印刷板、多层板和铜箔,所述多层印刷板和所述多层板分别相互间隔设置,且所述多层板的顶端表面和底端表面分别设置有印刷板,所述第一隔离板和所述第二隔离板分别设置在所述多层印刷板的顶端表面和底端表面,所述铜箔夹设在所述多层印刷板和所述多层板之间,并分别与所述第一隔离板和第二隔离板接触。
  • 电压机压合铝镜板
  • [发明专利]光学显微的自动对焦装置及方法-CN202110544840.4在审
  • 党博石;金思宇;刘建卓;刘英;马俊林;杜杰;周广鹏 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2021-05-19 - 2022-11-25 - G02B21/24
  • 光学显微的自动对焦装置及方法涉及仪器仪表技术领域,解决了多层成像面样本的显微无法实现自动对焦的问题,包括:入射光机构、传感器、电机和控制处理器,电机运转能够带动显微的显微物镜或用于放置多层成像面样本的载物台移动;入射光机构发出的光束入射到显微物镜上,通过显微物镜光束聚焦到多层成像面样本上,束经多层成像面样本反射后成像到传感器焦面上使传感器得到图像信息,控制处理器根据图像信息判断显微的对焦情况,若显微未完成对焦则控制处理器根据图像信息控制电机运转本发明实现了多层成像面样本的显微自动对焦,而且具有多层成像面样本的远程、快速、清晰的在光学显微下的图像放大功能。
  • 光学显微镜自动对焦装置方法
  • [发明专利]一种带通滤波的X射线光学系统及其制备方法-CN202210099481.0在审
  • 朱京涛;杨泽华;陈溢祺;金宇;朱忆雪;孙航 - 苏州闻道电子科技有限公司
  • 2022-01-27 - 2022-05-13 - G21K1/10
  • 本发明公开了一种带通滤波的X射线光学系统及制备方法,该制备方法包括:根据设计目标能点确定滤片的材料和滤片的厚度;根据设计目标能点采用深度梯度法确定多层膜反射的膜层材料和各个膜层的初始膜层厚度;根据滤片的材料和滤片的厚度制备滤片;根据滤片的材料和滤片的厚度采用单纯形调优法优化多层膜反射的各个膜层的初始膜层厚度,得到各个膜层的实验优化膜层厚度;根据膜层材料和各个膜层的实验优化膜层厚度制备多层膜反射;对滤片和多层膜反射进行组装得到带通滤波的本发明通过滤片和多层膜反射使得滤片透射曲线与多层膜反射反射曲线的乘积在中心能点区域内保持恒定,实现无旁瓣、高通量、平坦响应的带通滤波。
  • 一种滤波射线光学系统及其制备方法
  • [发明专利]VCSEL激光器及其制备方法-CN202211307526.5在审
  • 赖威廷;杨国庆;李念宜;王立;郭铭浩 - 浙江睿熙科技有限公司
  • 2022-10-25 - 2023-04-14 - H01S5/183
  • 公开了一种VCSEL激光器及其制备方法,其中,所述VCSEL激光器包括:第一布拉格反射、第二布拉格反射和被夹设于所述第一布拉格反射和所述第二布拉格反射之间的有源区,所述第一布拉格反射包括多层第一高铝层和多层第一低铝层,所述第二布拉格反射包括多层第二高铝层和多层第二低铝层,其中,至少一层所述第一低铝层的厚度大于λ/4,λ为所述VCSEL激光器的工作波长,这样,可延长谐振腔来加强衍射损耗和吸收损耗,进而抑制高阶横模,
  • vcsel激光器及其制备方法
  • [发明专利]一种硅铝合金/锆极紫外多层膜反射及其制备方法-CN201210172142.7有效
  • 张众;钟奇;王占山 - 同济大学
  • 2012-05-30 - 2012-09-19 - G02B5/08
  • 本发明属于精密光学元件制作技术领域,涉及一种极紫外多层膜反射及其制备方法。该反射包括基底和硅铝合金/锆周期多层膜,其中硅铝合金/锆周期多层膜是硅铝合金薄膜层和锆薄膜层交替沉积于基底表面上。本发明与现有的Al基多层膜相比,硅铝合金/锆极紫外多层膜反射引入了化学性质和物理性质更为稳定的硅铝合金代替纯硅,在没有较大改变铝材料光学性能的基础上,抑制了Al膜层的结晶,改善了多层膜的界面,在保证较高的光谱分辨率的前提下,提升了反射的反射率。本发明提出的这种新型的硅铝合金/锆极紫外多层膜反射具有成膜质量好、易于制作、光学性能满足需求等优势,更适于对能谱分辨率和反射率要求均很高的极紫外光学系统。
  • 一种铝合金紫外多层反射及其制备方法

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