专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体封装结构-CN202210560443.0在审
  • 钟小辉;张国栋;潘明东;王乾 - 江苏芯德半导体科技有限公司
  • 2022-05-20 - 2023-04-07 - H01L23/13
  • 本发明公开了一种半导体封装结构,其包括基板、元器件、铟片、芯片、散热盖、绝缘的围挡结构和环形结构。基板上连接元器件和芯片,芯片外侧设有多个元器件,散热盖覆盖铟片、芯片和元器件,围挡结构设于基板上;围挡结构包围在芯片的外侧周,分隔开所述芯片和元器件;环形结构包围在铟片的外侧周,环形结构的内圈尺寸大于铟片的尺寸本发明通过环形结构和围挡结构来保护元器件,使铟片熔化后不会溢流和串流到元器件上,整体结构简单,节省原材料,且能保证芯片的使用效果。
  • 一种半导体封装结构
  • [发明专利]小比导通电阻的集成化大电流功率器件结构的设计方法-CN200410104298.7无效
  • 谭开洲 - 中国电子科技集团公司第二十四研究所;电子科技大学
  • 2004-12-22 - 2006-01-18 - H01L21/00
  • 本发明涉及一种小比导通电阻的集成化大电流功率器件结构的设计方法。包括对所述器件的电流处理元胞进行耐压设计,确定原始元胞的元胞尺寸、元胞间距和终端结构;将原始元胞转换成环形元胞;确定器件埋层和有源层单位长度电阻值;进行器件结构的电路等效,绘制等效电路图;绘制环形元胞层数和与其对应的器件比导通电阻值间的关系曲线;确定合理的功率并联单元尺寸、形状;对功率并联单元进行并联连接和重复,获得所述器件的版图结构布局。使用该方法设计所述功率器件时,可对器件的比导通电阻进行有效控制,节省器件面积,是一种比同类器件制造结构的现有设计方法具有设计性能更好、更经济的大电流功率器件制造结构设计方法。
  • 通电集成化电流功率器件结构设计方法
  • [实用新型]一种光学连接结构和光纤器件-CN202221116110.0有效
  • 何光兵;林涛 - 上海鲲游科技有限公司
  • 2022-04-29 - 2022-09-13 - G02B6/38
  • 本实用新型实施例公开了一种光学连接结构和光纤器件。光学连接结构包括:相对设置的第一表面和第二表面,第一表面设置有凹槽,光纤器件的光纤固定于第一表面的凹槽内,以使光学连接结构作为光纤器件的输入端和/或输出端;其中,凹槽与光纤一一对应设置。利用该光学连接结构,光纤器件的两端无需配置尺寸较大的光纤接头,当光纤数量较多时,仅需在光学连接结构上设置与光纤数量相同的凹槽,即可作为光纤器件的输入端和/或输出端,无需为每根光纤配置接头,降低了整体器件的封装体积,提高光纤器件的集成度;另外,利用该光学连接结构作为光纤器件的输入端和/或输出端,能够实现光纤器件与不同类型器件的连接,扩展光纤器件的应用场景。
  • 一种光学连接结构光纤器件
  • [发明专利]WOLED器件结构及显示装置-CN201610547617.4有效
  • 李冬泽;陈黎暄 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2016-07-12 - 2018-08-14 - H01L51/50
  • 本发明涉及一种WOLED器件结构及显示装置。该WOLED器件结构包括:基板,WOLED器件,薄膜封装层;该WOLED器件设置于该基板上,该薄膜封装层覆盖于该WOLED器件上;该薄膜封装层掺杂有上转换材料。该WOLED器件显示装置包括上述的WOLED器件结构,以及彩色滤光片基板。本发明WOLED器件结构及显示装置利用掺杂上转换发光材料至封装层中,弥补OLED蓝光寿命偏低的状况,是解决现有OLED蓝光材料寿命限制的有效方案。
  • woled器件结构显示装置
  • [发明专利]半导体器件的制作方法-CN201911070181.4有效
  • 刘云飞 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-11-05 - 2022-08-09 - H01L27/11524
  • 本发明公开了一种半导体器件的制作方法,在器件区形成器件堆叠结构,在非器件区形成参照堆叠结构,在对器件堆叠结构进行刻蚀形成台阶结构过程中,同步对参照堆叠结构进行刻蚀,检测参照堆叠结构中绝缘介质层的厚度,基于参照堆叠结构中绝缘介质层的厚度,可以确定器件堆叠结构的台阶结构中绝缘介质层的厚度,可以在器件堆叠结构上制备台阶结构的过程中,通过参照堆叠结构中绝缘介质层的厚度实时检测台阶结构中露出的绝缘介质层的厚度,便于台阶结构中绝缘介质层厚度的实时监控,可以用于监控不同厚度台阶的工艺偏移量,通过检测参考堆叠结构中绝缘介质层厚度,可以实现器件堆叠结构中台阶又快又好的刻蚀,并及时发现绝缘介质层过刻蚀问题。
  • 半导体器件制作方法
  • [实用新型]电子设备-CN201921409024.7有效
  • 龙静 - 北京小米移动软件有限公司
  • 2019-08-27 - 2020-06-02 - H05K7/20
  • 该电子设备包括电路板、电子器件和散热结构,电子器件位于电路板和散热结构之间。散热结构包括主体和凸起结构,主体和凸起结构一体成型,凸起结构位于主体靠近电子器件的一侧,且与电子器件接触。凸起结构与散热结构为一体成型的结构,凸起结构与散热结构的主体采用的导热材料相同,散热结构本身具有高导热,使电子器件和散热结构之间的接触热阻小。避免了通过粘胶或者焊缝等构成的导热层连接电子器件和散热结构,降低了电子器件和散热结构之间的接触热阻,使电子器件所发出的热量能够迅速传导到散热结构上,提高了电子设备的散热能力。
  • 电子设备
  • [发明专利]一种超紧凑高饱和电流的磁芯电感器件的设计方法-CN202110907409.1在审
  • 武雪琛;黄超颖 - 电子科技大学
  • 2021-08-09 - 2023-02-17 - H01F41/00
  • 本发明公开了一种超紧凑高饱和电流的磁芯电感器件的设计方法,其包括根据器件的工作频率,选定设定的磁性材料;根据器件设定的电感值和饱和电流值,设计器件拓扑结构;对器件拓扑结构进行优化和迭代,使器件性能满足约束指标;并结合器件拓扑结构和磁性材料的非线性电磁特性,采用有限元方法对器件进行处理分析,确定器件最终参数指标。该超紧凑高饱和电流的磁芯电感器件的设计方法通过优化非线性材料的选型和器件结构参数,实现电感器器件达到最优的性能,且实现了非线性材料和线性器件的计算普适性,可使器件的整体性能与实际工作状态相吻合,弥补了现在关于超紧凑高饱和电流的磁芯电感器的设计理论空白
  • 一种紧凑饱和电流电感器件设计方法
  • [发明专利]半导体器件及其制备方法、半导体晶圆-CN202310902084.7在审
  • 樊永辉;许明伟;樊晓兵 - 深圳市汇芯通信技术有限公司
  • 2023-07-20 - 2023-10-13 - H01L27/092
  • 本发明提供一种半导体器件及其制备方法、半导体晶圆。半导体器件具有第一器件区域和第二器件区域,包括第一、二结构层及第一、二组电极结构。第一结构层的材料为金刚石,第一结构层中位于第一器件区域和第二器件区域的两部分电性隔离;位于第二器件区域的第一结构层经过氢终端处理;第二结构层设于第一结构层的第一器件区域上,与第一结构层形成异质结结构;第二结构层的材料为AlN;第一组电极结构包括第一源极、第一栅极及第一漏极,设于第一器件区域并至少部分位于第二结构层背离第一结构层的一侧;第二组电极结构包括第二源极、第二栅极及第二漏极,设于位于第二器件区域的第一结构层之上,并与第一组电极结构位于第一结构层的同侧。
  • 半导体器件及其制备方法半导体
  • [发明专利]发光基板及其制备方法-CN202210519285.4在审
  • 周婷婷;张方振;牛菁;王玮;牛亚男;孙双 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2022-05-12 - 2022-07-12 - H01L27/15
  • 发光基板包括基板,基板上间隔设置有多个发光器件;发光器件之间的间隙处设置有第一遮光结构,第一遮光结构用于遮挡发光器件向侧向发出的光;第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上不重叠,或者,第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上的重叠区域小于设定值由于第一遮光结构设置在发光器件之间的间隙处,因此就可以遮挡发光器件向侧向发出的光,避免该部分光线照射到其他的发光器件处产生光的串扰。并且,不会遮挡或完全遮挡发光器件向目标出光方向发出的光线,改善或消除了对发光器件的光效的不利影响,从而能够提高发光基板的出光面的出光效果。
  • 发光及其制备方法

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