专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种优化型大直径单晶收尾方法-CN201811565908.1有效
  • 刘琨;刘凯;王遵义;郝大维;涂颂昊;孙健;王彦君 - 天津中环领先材料技术有限公司
  • 2018-12-20 - 2020-11-13 - C30B13/30
  • 本发明提供了一种优化型大直径单晶收尾方法,包括:S1、根据单晶规格,多晶料剩余长度到达设定阈值时,打开收尾程序;S2、当单晶直径收细到201mm后,更改单晶下速和多晶上速、以及功率,单晶直径逐渐从201mm收细至198mm,单晶体与多晶硅体液面逐渐脱离;S3、单晶体与多晶硅体液面脱离后,功率设定值保持不变,对单晶下速和多晶上速进行调节;S4、到达设定时间后,进行降温,单晶下速和多晶上速与步骤S3中的速度相同,降温时间到达设定值后,关闭系统,拆取单晶。本发明所述的优化型大直径单晶收尾方法实现大直径单晶收尾的高效稳定操作,减少质量损失,是大直径单晶规模生产技术领域需要改进的问题。
  • 一种优化直径区熔硅单晶收尾方法
  • [发明专利]一种单晶生长方法及装置-CN201410638863.1在审
  • 吴晟;吴星;倪代秦 - 吴晟;吴星;倪代秦
  • 2014-11-13 - 2015-02-04 - C30B13/10
  • 一种单晶生长方法及装置,装置包括加料部、单晶生长部、加热单元和料器;开始时,仅有部分籽晶或者部分籽晶和少量预加料全部熔化,在单晶生长部形成,生长单晶的过程中,在的上方以液的方式逐步向区内添加原料,同时改变加热器与籽晶的相对位置,使相对于籽晶向上移动,直至长成所需尺寸的单晶。本发明由于采用液加料,便于分别控制原料熔化和液结晶;可以根据结晶需要的最佳条件在很大的范围内自由调整,有利于提高单晶生长速度、改善单晶质量并精确控制单晶成分,还有利于节能。
  • 一种生长方法装置
  • [实用新型]一种单晶生长装置-CN201420676379.3有效
  • 吴晟;吴星;倪代秦 - 吴晟;吴星;倪代秦
  • 2014-11-13 - 2015-07-15 - C30B13/10
  • 一种单晶生长装置,装置包括加料部、单晶生长部、加热单元和料器;开始时,仅有部分籽晶或者部分籽晶和少量预加料全部熔化,在单晶生长部形成,生长单晶的过程中,在的上方以液的方式逐步向区内添加原料,同时改变加热器与籽晶的相对位置,使相对于籽晶向上移动,直至长成所需尺寸的单晶。本实用新型由于采用液加料,便于分别控制原料熔化和液结晶;可以根据结晶需要的最佳条件在很大的范围内自由调整,有利于提高单晶生长速度、改善单晶质量并精确控制单晶成分,还有利于节能。
  • 一种生长装置
  • [发明专利]大直径单晶制备方法-CN200510013851.0有效
  • 沈浩平;刘为钢;高福林;高树良;李翔;汪雨田 - 天津市环欧半导体材料技术有限公司
  • 2005-06-15 - 2006-01-25 - C30B15/00
  • 本发明涉及一种硅单晶制备方法,特别涉及一种用于生产大功率、高电压、大电流半导体器件的大直径单晶制备方法。当单晶的直径扩肩到Φ110mm~130mm时,发生界面翻转,此时,立即调整区单晶炉发生器设定的阳极电压,每隔5~10秒,将阳极电压设定电增加0.1%~0.3%;当单晶的直径扩肩到Φ110mm时,将单晶炉编码器控制下轴向下的运动速度设定在2.0~2.4mm/分范围内,其转动速度设定在4~6转/分范围内;在抽空充气过程中,拉晶所需炉膛压力应达3.0bar~3.2bar,当单晶的直径扩肩到Φ110mm时开始充入N2,其比例相当于Ar的0.5%-0.6%,此外还对单晶炉的热场系统进行了改进。经本发明制备的单晶,各项指标均达到SEMI标准,从而满足了大型水利火力发电工程用大功率、高电压、大电流的电力电子器件领域以及尖端国防领域对大直径单晶的需求。
  • 直径区熔硅单晶制备方法
  • [发明专利]水平生长碲锌镉单晶的装置和方法-CN200610148709.1无效
  • 袁诗鑫 - 袁诗鑫
  • 2006-12-30 - 2008-07-02 - C30B29/48
  • 本发明涉及水平生长碲锌镉单晶的装置和方法,该装置包括炉体、石英长晶管、长晶舟和镉源舟:炉体包括镉源炉和由多个依次排列的小炉子组成的水平长晶炉,炉体内放置有内设镉源舟和长晶舟的石英长晶管,长晶舟设有头部缩颈和尾部缩颈,水平生长碲锌镉单晶的方法是先将碲、锌和籽晶放入长晶舟内、镉放入镉源舟内,再将长晶舟和镉源舟放入石英长晶管中封管后,置于水平熔炉体中加热合成碲锌镉锭条,经提纯的碲锌镉锭条纯度提高后再由籽晶引导生长出碲锌镉单晶采用本发明的装置和方法生产碲锌镉单晶成品率高、纯度高,生长出的碲锌镉单晶完全符合应用要求。
  • 水平生长碲锌镉单晶装置方法
  • [发明专利]一种气相掺杂单晶的制备方法-CN201811476667.3在审
  • 王永涛;尚锐刚;刘建涛;李明飞;鲁进军;张建;闫志瑞 - 有研半导体材料有限公司
  • 2018-12-04 - 2020-06-12 - C30B13/12
  • 本发明公开了一种气相掺杂单晶的制备方法,包括以下步骤:(1)将一次多晶按正常的拉晶工艺拉制成单晶或多晶;(2)将拉制成的单晶或多晶再次磨锥、刻槽、清洗、干燥;(3)将处理后的单晶或多晶装炉,并按目标电阻率设置掺杂流量,并按正常气相掺杂拉晶工艺完成单晶拉制。根据本发明制备气相掺杂单晶的方法,通过第一次的拉制,将硅芯内的杂质尽可能均匀的分布在拉制成的整个单晶或多晶内,而不是局限在硅芯内,从而降低因硅芯杂质搅拌不均匀造成的气相掺杂单晶中心电阻率的波动,有效降低了单晶轴向及径向的电阻率不均匀性,提高了气相掺杂单晶的目标电阻率命中率及稳定性。
  • 一种掺杂区熔硅单晶制备方法
  • [发明专利]基于单晶的双极光晶体管及其探测方法-CN03153378.7无效
  • 韩德俊 - 北京师范大学
  • 2003-08-12 - 2005-02-16 - H01L31/11
  • 本发明基于单晶的双极光晶体管采用单晶片来制作。由于单晶的生长不需要坩埚,在制备过程中硅单晶除了与保护气体接触外不与其它任何材料直接接触,因此单晶比直拉硅单晶或其它半导体单晶材料有更高的纯度、更少的杂质缺陷。采用单晶制作的双极器件,缺陷(包括重金属杂质)少,因而产生复合中心少,少子的寿命长,能够极大地提高双极光晶体管小信号增益特性,提高探测微弱光信号的灵敏度。本发明采用器件背面接受光入射来探测光信号的方法,能够克服正面金属电极的遮光作用以及发射硅材料的吸光效应,有利于提高双极光晶体管的性能。
  • 基于区熔硅单晶极光晶体管及其探测方法
  • [发明专利]一种单晶硅的制作方法-CN201610108941.6在审
  • 尚锐刚 - 北京天能运通晶体技术有限公司
  • 2016-02-29 - 2016-06-08 - C30B29/06
  • 本申请公开了一种单晶硅的制作方法,包括:选取单晶硅的头尾料和剩余原料,并粉碎成块状料;将所述块状料进行酸腐蚀、清洗和烘干;利用直拉法将所述块状料拉制成多晶棒;将所述多晶棒进行加工和清洗;利用法将所述多晶棒拉制成单晶硅本申请提供的上述单晶硅的制作方法,能够充分的利用头尾料和剩余原料生产出合格的单晶产品,从而能够降低生产成本。
  • 一种单晶硅制作方法

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