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[发明专利]一种多重图形化掩膜层的结构及制作方法-CN201510663000.4在审
发明人：鲍宇 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明涉及半导体良率提升领域，尤其涉及一种多重图形化掩膜层的结构，包括基板，用以形成衬底，硬质掩膜，用以提供刻蚀的操作表面。同时提供了一种多重图形化掩膜层的制作方法，沉积硬质掩膜和牺牲层。对牺牲层进行图形化后，沉积薄膜并刻蚀形成第一侧墙，再次沉积薄膜并刻蚀形成第二侧墙。最后去掉牺牲层，用刻蚀的方法修改侧墙的形貌。
一种多重图形化掩膜层结构制作方法

[发明专利]血液处理用分离膜、以及安装有该膜的血液处理器-CN201280048311.4有效
发明人：一贵浩;小泉智德 -专利权人：旭化成医疗株式会社
申请日： 2012-11-02 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： A61M1/16 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供血液相容性高、具有保管稳定性、且即使实施辐射线灭菌处理其膜性能也不会劣化的血液处理用分离膜以及安装有该膜的血液处理器。本发明的目的还在于，提供在血液处理膜的启动加注处理时具有良好的脱气性的血液处理用分离膜以及安装有该膜的血液处理器。本发明提供一种血液处理用分离膜以及安装有该膜的血液处理器，所述血液处理用分离膜包含聚砜系高分子、亲水性高分子、以及20℃下在100g水中的溶解度为0.5g以下且侧链具有羟基的聚合物，该聚合物的含量在特定范围内
血液处理分离以及装有处理器

[发明专利]一种中水处理回用系统-CN202111150203.5在审
发明人：钱慧柠;钱琪林;钱淑楠;杨颖;徐梦梦 -专利权人：南京工程学院
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种中水处理回用系统，包括滤池、水解酸化池和自清洁膜池；所述水解酸化池分别与滤池和自清洁膜池连接；所述自清洁膜池内部设置由载银杂化膜组成的膜生物反应器。搭建“抽屉式滤池+高效节能型水解酸化池+自清洁膜池”中水回用装置，以及采用分质处理装置，能有机串联且将物理‑生物‑膜分离技术有效融合，可高效快速对污水进行分级分质处理并实现水的循环利用，实现小规模、分散式污水就地处理，以小治小，以散治散；同时研制具有自清洁功能的Ag/TiO2/g‑C3N4/PVDF杂化膜并将其运用在自清洁膜池中，可降低使用成本，从而大大拓宽膜的应用范围。
一种中水处理系统

[发明专利]不透明微孔化双轴拉伸膜、其制造方法和用其获得透明图案的方法-CN200780044689.6有效
发明人： D·昆滕斯 -专利权人：爱克发-格法特公司
申请日： 2007-10-01 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03C1/795 文献下载
摘要：不透明微孔化双轴拉伸的自支撑非层压聚合膜，该膜包括线型聚酯作为连续相并且其中均匀地分散有玻璃化转变温度比所述连续相的玻璃化转变温度高的无定形高聚物和/或熔点比所述连续相的玻璃化转变温度高的结晶高聚物，其中所述线型聚酯基本上由芳族二羧酸酯和脂族二亚甲基单体单元组成；聚合膜具有用可见光滤光器透射测量的光学密度；且所述光学密度的至少50％归因于微孔；所述的不透明微孔化双轴拉伸膜作为合成纸的用途；包括所述的不透明微孔化双轴拉伸膜的图像记录元件；和用其获得透明图案的方法
不透明微孔化双轴拉伸制造方法获得透明图案

[发明专利]制造具有结构化表面的眼科透镜的方法-CN201180063954.1有效
发明人： P·姜;B·基根 -专利权人：埃西勒国际通用光学公司
申请日： 2011-01-04 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： B29D11/00 文献下载
摘要：用于制造具有结构化表面的菲涅耳透镜或其它透镜（如折射和/或衍射双焦点或其它多焦点透镜）的方法包括用低或极低折射率涂层材料压涂该结构化表面。该涂层足够厚以充分覆盖该结构化表面，以便获得具有良好光学性质的光滑涂层表面，在菲涅耳结构的情况下，该厚度大于菲涅耳结构高度的1.5倍并小于5倍，并原位固化该涂层。制备例如PET、PC或PU的膜或例如TAC/PVA/TAC膜叠层的膜叠层，并将热熔粘合剂施加到该膜或膜叠层与该透镜毛坯的涂布的结构化表面接触的一侧。该膜或膜叠层随后层合到固化涂层上。
制造具有结构表面眼科透镜方法

[发明专利]绝缘膜研磨用CMP研磨剂、研磨方法、通过该研磨方法研磨的半导体电子部件-CN200780003934.9无效
发明人：深泽正人;榎本和宏;山岸智明;小山直之 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2007-01-31 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种在使层间绝缘膜、BPSG膜、浅沟槽隔离用绝缘膜或配线间的绝缘膜层平坦化的CMP技术中，能够高效并且高速地进行SiO₂膜或SiOC膜等绝缘膜研磨的绝缘膜研磨用CMP研磨剂含有氧化铈粒子、分散剂、侧链上具有氨基的水溶性高分子和水的绝缘膜研磨用CMP研磨剂，使用该研磨剂进行研磨的研磨方法，以及通过该研磨方法进行研磨的半导体电子部件。
绝缘研磨 cmp 研磨剂方法通过半导体电子部件

[发明专利]预非晶化注入的高温Ti自对准硅化物工艺-CN201110385947.5有效
发明人：陈海峰;聂圆燕;洪根深;郭晶磊 -专利权人：无锡中微晶园电子有限公司
申请日： 2011-11-29 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种预非晶化注入的高温Ti自对准硅化物工艺，其包括如下步骤：a、提供衬底，并在衬底上形成栅极区、源极区及漏极区；b、用注入机对上述衬底对的表面注入所需的非晶化离子，使得上述衬底表面的硅及多晶硅处于非晶化状态；c、对上述非晶化过的衬底表面淀积高温Ti膜；d、对上述衬底进行低温退火，以使上述Ti膜形成C49相的TiSi2膜；e、去除衬底表面未形成TiSi2膜的Ti膜；f、对上述衬底进行高温退火，以使上述TiSi2膜形成稳定C54相的TiSi2膜。本发明降低硅化钛膜的相转移温度，形成表面光滑的均匀的TiSi2膜；在亚微米/深亚微米电路的制造过程中，缓解Ti-Salicide技术的窄线条效应问题；工艺简单，具有很强的操作性。
预非晶化注入高温 ti 对准硅化物工艺

[发明专利]集成电路制造方法-CN200710084996.9无效
发明人：小林信次 -专利权人：三洋电机株式会社
申请日： 2007-02-26 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：本发明提供一种集成电路制造方法，在上部结构层(86)的表面涂布平滑化膜(140)，平滑地覆盖开口部分(116)的开口端的拐角部分(142)。对平滑化膜(140)进行蚀刻，通过该蚀刻处理削除在平滑化膜(140)的膜厚较薄的开口端露出的拐角部分(142)。由此，扩大开口部分(116)的开口端。剥离平滑化膜(140)后，涂布聚酰亚胺膜。通过开口端的扩大，能够防止聚酰亚胺膜较厚地积存在开口部分(116)内，从而可容易地从开口部分(116)除去。由此，在半导体基板上层叠的上部结构层设置光入射用的开口部分的光检测器的制造中，从开口部分适当地除去为了保护上部结构层的上面的硅氮化膜所涂布的聚酰亚胺膜，例如实现开口部分内的入射光量的均匀化。
集成电路制造方法

[发明专利]一种水处理用溴化聚苯醚非对称膜的制备方法-CN201710929381.5有效
发明人：张存明;宗先庆;孙美玲;郭安昊;赵守俊 -专利权人：山东日兴新材料股份有限公司
申请日： 2017-10-09 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： B01D67/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种水处理用溴化聚苯醚非对称膜的制备方法，属于水处理技术领域，包括以下步骤：将聚苯醚和催化剂加入到有机溶剂中升温至全部溶解；降温至0℃，加入溴化剂，实现聚苯醚的苯环溴化，反应完成，水洗除去催化剂，静置分层得到苯环溴化的聚苯醚；将上述分层得到的有机层中加入溴化剂和催化剂，经二次溴化反应，实现聚苯醚的甲基溴化，反应完成，水洗除去催化剂，静置分层得到甲基溴化的聚苯醚；将上述分层得到的有机层中加入水和乳化剂进行蒸馏操作，蒸馏出有机溶剂，再在丙酮和氨水溶液构成的凝胶相转化溶剂中浸泡，聚合物析出，得到溴化聚苯醚非对称膜。通过对聚苯醚改性，制备出一种选择透过性好的水处理用溴化聚苯醚非对称膜。
一种水处理用溴化聚苯醚对称制备方法

[实用新型]高压电能表用金属化膜电容器-CN201220180101.8有效
发明人：林信江 -专利权人：上虞华创电气技术有限公司
申请日： 2012-04-25 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H01G4/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种高压电能表用金属化膜电容器。它包括叠在一起卷绕在一芯轴上的第一金属化膜和第二金属化膜，所述第一金属化膜和第二金属化膜上分别设置复数个间隔设置的第一有效电极和第二有效电极，以及分别设置在第一金属化膜两端的第一绝缘留边、第一加厚电极、分别设置在第二金属化膜两端的第二绝缘留边、第二加厚电极，同一金属化膜上所述的相邻有效电极之间的间隔为第一绝缘间隔和第二绝缘间隔，所述第一、第二金属化膜叠合卷绕后两端面分别通过第一镀喷镀电极和第二喷镀电极引出
高压电能表金属化电容器

[发明专利]含有具有羟基的缩合系树脂的形成抗蚀剂下层膜的组合物-CN200780022550.1有效
发明人：广井佳臣;岸冈高广;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2007-06-15 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，所述光刻用抗蚀剂下层膜可以用作下述膜，即，减轻对半导体基板上所形成的光致抗蚀剂的曝光照射光从基板反射的下层防反射膜、用于将具有凹凸的半导体基板平坦化的平坦化膜、防止加热烘烤时从半导体基板产生的物质污染光致抗蚀剂的膜等。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其含有具有上述式(1)的结构的聚合物和溶剂，其中，Y表示碳原子数1～10的亚烷基或碳原子数6～14的芳香族环，亚烷基和芳香族环具有羟基
含有具有羟基缩合树脂形成抗蚀剂下层组合

[实用新型]一种全天候多功能服装用面料-CN202020126175.8有效
发明人：韩燚;陈琛;高超 -专利权人：杭州高烯科技有限公司
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： B32B9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种全天候多功能服装用面料，分为三层，上层为反射层，中间为透气棉层，下层为石墨烯发热膜，所述反射层由表面金属化的棉层构成。在冬季使用时，石墨烯发热膜为内层，表面金属化的棉层为外层，石墨烯发热膜用低压电源导通，实现发热，而表面沉积金属的棉层起到阻隔红外辐射的效果，使热量有效储存于人体表面。在夏季使用时，表面金属化的棉层为内层，石墨烯发热膜为外层，此时热量通过皮肤接触传导方式从表面金属化的棉层传导至石墨烯发热层，在不连通电源时石墨烯发热膜扮起到快速传出热量的作用，从而实现有效散热。
一种全天候多功能服装面料

[发明专利]立式成膜装置及其使用方法-CN201010568506.4有效
发明人：松永正信;周保华;米泽雅人;长谷川雅之;长谷部一秀 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种立式成膜装置及其使用方法。该立式成膜装置的使用方法在不存在产品用被处理体的状态的处理容器内，进行用覆膜包覆处理容器的内壁的覆膜处理，接着，在收纳有保持了产品用被处理体的状态的保持构件的处理容器内，进行在产品用被处理体上形成规定的膜的成膜处理在覆膜处理中，将第1处理气体和第2处理气体交替地供给到处理容器内且均不将第1处理气体和第2处理气体等离子化就供给到处理容器内。在成膜处理中，一边利用等离子体生成系统将第1处理气体和第2处理气体中的至少一种气体等离子化而供给到处理容器内一边将第1处理气体和第2处理气体交替地供给到处理容器内。
立式装置及其使用方法

[实用新型]一种玻璃钢化膜用便于调节间距的存放装置-CN202022081964.7有效
发明人：朱贤军 -专利权人：深圳市贤达信息技术有限公司
申请日： 2020-09-22 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B65D43/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种玻璃钢化膜用便于调节间距的存放装置，包括顶盖和夹块，所述顶盖的底部连接有第一转轴，所述第一转轴的底部连接有底座，所述底座的底部内壁上固定有固定块，所述滑块的内壁连接有第一弹簧，所述第一弹簧的一侧设置有第二转轴该玻璃钢化膜用便于调节间距的存放装置的滑块为T型结构，当钢化膜被夹住时，按住滑扣，再拨动滑块，使滑块在固定块内滑动到适当位置，可调节两个钢化膜之间的存放间距，不会互相碰撞造成损坏，且夹块、第二转轴、第一弹簧和滑块之间构成弹性联动结构，按压夹块使第一弹簧拉伸，将玻璃钢化膜卡入夹块内，使其在装置内固定住。
一种玻璃钢化膜用便于调节间距存放装置

[发明专利]一种功能化的氧化石墨烯/细菌纤维素/碳纳米管复合膜制备方法及其应用-CN201710059832.4在审
发明人：郑直;周旭峰;刘兆平 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： H01G11/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种功能化的氧化石墨烯/细菌纤维素/碳纳米管复合膜的制备方法，包括以下步骤A)将表面功能化的细菌纤维素溶液与碳纳米管混合，得到第一混合溶液；B)将所述第一混合溶液与功能化的氧化石墨烯溶液混合超声后真空抽滤，得到功能化的氧化石墨烯/细菌纤维素/碳纳米管复合膜，得到的复合膜用作分离膜时能同时具有高通量高稳定性以及高分离效率。此外，将复合膜用氢碘酸或水合肼处理后，复合膜可以用作超级电容器电极材料。
一种功能氧化石墨细菌纤维素纳米复合制备方法及其应用