专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]形成光刻胶图形的方法-CN99100483.3无效
  • 冈村健司;荒田弘美;井上修一 - 恩益禧电子股份有限公司
  • 1999-01-29 - 2003-10-29 - H01L21/312
  • 在多晶硅CVD方法形成以六氟化钨(WF6)和二氯甲硅烷(SiH2Cl2)为原料的硅钨(WSi)。在该形成工艺的最后阶段,终止六氟化钨的供给以减轻内应力。结果,在硅上,形成包含高浓度氯离子的富硅的硅。然后,在涂敷化学增强光刻胶前,这些与硅衬底一起浸渍在包含过氧化氢的腐蚀液体中,以除去富硅的硅,以便可以控制可抑制碱性显影作用的氯化氨的产生。因此,可以通过光刻构图硅而不会产生图形缺陷。
  • 形成光刻图形方法
  • [发明专利]聚酰亚胺管表面金属电镀方法-CN202211685266.5在审
  • 魏志远;刘真 - 深圳市华之美科技有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-04-07 - C25D5/56
  • 本发明公开聚酰亚胺管表面金属电镀方法。聚酰亚胺管表面金属电镀方法包括步骤聚酰亚胺管表面预处理:将聚酰亚胺管表面物理粗化处理,然后去除表面污渍;聚酰亚胺管表面碱性改质:醇以碱性将聚酰亚胺环开环得到聚酰亚酸离子;聚酰亚胺管表面触媒和活性:将离子钯触媒吸附于聚酰亚胺管表面和钯触媒的金属;无电解镍镀覆:将聚酰亚胺管经过化学镍溶液形成镍‑钯皮膜层;电解铜电镀:将上述经过无电解镍镀覆处理的聚酰亚胺管进行电解铜电镀,以形成导体层。本发明聚酰亚胺管金属电镀方法相比与真空溅射,无电解镍镀覆形成的成本较低,金属/聚酰亚胺结合界面平滑,有利于微细图形形成。
  • 聚酰亚胺表面金属化电镀方法
  • [发明专利]一种机浆废液的法浓缩处理方法-CN201110197693.4有效
  • 包进锋;洪海云;陈甘 - 浙江开创环保科技有限公司
  • 2011-07-13 - 2011-11-23 - C02F9/02
  • 本发明涉及工业废水处理领域,特别涉及并公开了一种机浆废液的法浓缩处理方法,包括:(1)热交换降温;(2)微滤处理;(3)超滤预处理;(4)预浓缩。本发明的一种机浆废液的处理方法采用浓缩系统将机浆废液从初始质量百分比浓度1%~2%浓缩至7%~10%,透过液可直接排放或回。系统采用浸没式超滤与反渗透/纳滤预浓缩的工艺,通过采用一系列的污染控制技术,保证系统可平稳连续运行,实现机浆废液的零排放。通过该工艺不仅可以彻底解决机浆废水的达标排放难题,而且与直接蒸发浓缩相比,由于通过系统的预浓缩,其能耗大大降低,且有大量产水循环回,具有良好的经济和社会效益。
  • 一种化机浆废液浓缩处理方法
  • [发明专利]半导体制造装置表面处理部件及其制造方法-CN200910006390.2无效
  • 坪田隆之;久本淳;和田浩司;细川护 - 株式会社神户制钢所
  • 2009-02-16 - 2009-09-02 - H01L21/00
  • 本发明提供能抑制半导体制造装置在使用中电特性经时变化的半导体制造装置表面处理部件及其制造方法。半导体制造装置表面处理部件(1)具备:由铝或铝合金形成的基材(2);和形成于所述基材(2)的表面的、实施了水合处理的阳极氧化被(3);和形成于所述阳极氧化被(3)的表面的氟高浓度层(4),其特征在于,所述氟高浓度层(4)的氟浓度为1质量%以上。一种半导体制造装置表面处理部件(1)的制造方法的特征在于包括下述工序:在由铝或铝合金形成的基材(2)的表面形成阳极氧化被(3)的阳极氧化被形成工序;和对所述阳极氧化被(3)实施水合处理的水合处理工序;和在阳极氧化被(3)的表面形成氟浓度高浓度化为1质量%以上的氟高浓度层(4)的氟高浓度层形成工序。
  • 半导体制造装置表面处理部件及其方法

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