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[发明专利]包含含磷酸基聚合物的涂覆膜形成组合物-CN202180043413.6在审
发明人： 广井佳臣;中嶋宏之;西野泰斗;广饭美耶;上田祐挥 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C09D201/06 文献下载
摘要：本发明提供包含含磷酸基聚合物的涂覆膜形成组合物、作为该组合物的固化物的涂覆膜，所述涂覆膜形成组合物能通过简易的工艺在基板上成膜，并且能够在包含水的溶剂环境下维持膜性能。涂覆膜形成组合物，其包含：聚合物(P)，其为含有羟基的聚合物(P)，并且该羟基仅来自磷酸基；聚碳二亚胺(C)，其包含下述式(c‑1)表示的结构；和溶剂。‑N＝C＝N‑ (c‑1)。
包含磷酸聚合物涂覆膜形成组合

[发明专利]经放射线照射的树脂成型物-CN202180023493.9在审
发明人： 广井佳臣;铃木康平;广饭美耶 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： C12M1/00 文献下载
摘要：本发明提供在厌氧性条件(脱氧条件)下对树脂成型物进行放射线照射的情况下，也可确保灭菌性、并且减少变色(黄变)的树脂成型物及其制造方法。树脂成型物，其为经放射线照射且经包装的树脂成型物，其特征在于，上述树脂成型物由具有透氧性的包装材料进行一次包装，接着与脱氧剂一起由非透氧性的包装材料进行二次包装。另外，涉及一种制造方法，其为经放射线照射且经包装的树脂成型物的制造方法，该方法包括：利用具有透氧性的包装材料对放射线照射前的树脂成型物进行一次包装的工序；接着，与脱氧剂一起利用非透氧性的包装材料进行二次包装，然后进行放射线照射的工序。优选在上述放射线照射工序之后，包括将二次包装在大气下打开的工序。
放射线照射树脂成型

[发明专利]生物材料附着抑制剂-CN202180015098.6在审
发明人：广饭美耶;庄子武明;广井佳臣;安部菜月;上田祐挥 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-02-18 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C09D143/02 文献下载
摘要：提供与生物材料的相容性优异的涂覆膜形成用组合物、涂覆膜、以及具备涂覆膜的基板及其制造方法。具有抑制生物材料附着的能力的涂覆膜形成用组合物、由前述组合物得到的涂覆膜、以及具备前述涂覆膜的基板及其制造方法，所述涂覆膜形成用组合物包含通过使下述单体混合物聚合而得到的共聚物以及溶剂，所述单体混合物包含下述式(1)、(2)及(3)(式中，R1～R6、n及m如说明书及权利要求书所记载)表示的化合物、且以规定的比例包含前述式(3)表示的化合物。
生物材料附着抑制剂

[发明专利]细胞凝集块的制造方法-CN202180015605.6在审
发明人：铃木康平;广井佳臣;岩井良辅 -专利权人：日产化学株式会社;学校法人加计学园
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：提供细胞凝集块制造用基板、其制造方法、细胞凝集块的制造方法、及使制造细胞凝集块时的细胞利用效率提高的方法。提供细胞凝集块制造用基板、其制造方法、以及使用该基板的细胞凝集块的制造方法及使制造细胞凝集块时的细胞利用效率提高的方法，所述细胞凝集块制造用基板在具有抑制细胞附着的能力的基板上具备由下述聚合物形成的多个斑点，斑点的总面积相对于基板的表面积的比例为30％以上，且各斑点的直径为50～5000μm，斑点间的间隔为30～1000μm，所述聚合物包含由下述式(I)表示的单体衍生的重复单元，式中，Ua1、Ua2、Ra1及Ra2如本说明书及权利要求书所记载。
细胞凝集制造方法

[发明专利]流路用涂层剂-CN201680059049.1有效
发明人：片山淳子;广井佳臣;相原彩子;安部菜月;西野泰斗 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C09D201/06 文献下载
摘要：本发明提供通过极其简单的操作即可涂覆在流路的内部表面且具有优异的抑制生物材料附着的能力的流路用涂层剂、以及在流路的内部表面的至少一部分具有上述流路用涂层剂的流路设备、产生血小板的流路装置及其制造方法。本发明涉及含有共聚物的流路用涂层剂、以及在流路的内部表面的至少一部分具有上述流路用涂层剂的流路设备、产生血小板的流路装置及其制造方法，上述共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元及包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元。式中，Ua1、Ua2、Ua3、Ub1、Ub2、Ub3及An－如本说明书和权利要求书中所述。
流路用涂层

[发明专利]具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法-CN202011478659.X有效
发明人： 广井佳臣;大谷彩子;岸冈高广;西野泰斗;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： C09D143/02 文献下载
摘要：本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜和离子络合材料、它们的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。
具有抑制生物物质附着能力离子络合材料及其制造方法

[发明专利]具有与生物材料的相容性的聚合物的制造方法-CN202080013307.9在审
发明人：广饭美耶;广井佳臣;铃木康平;庄子武明;安部菜月;中嶋宏之 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： C08F220/34 文献下载
摘要：本发明提供使用具有特定的不饱和键的单体而进行的不引起凝胶化问题的含有共聚物的清漆的制造方法、组合物的制造方法、涂覆膜的制造方法、优选具有与生物材料的相容性(具有抑制生物材料附着的能力、细胞培养促进性)的涂覆膜的制造方法。含有共聚物的清漆的制造方法，其包括：使包含由下述式(1)及式(2)表示的化合物的单体混合物在聚合用溶剂中、在自由基聚合引发剂存在下共聚的工序，所述单体混合物包含的含磷化合物中的、由式(1)表示的化合物的质量％为70质量％以上。(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为1～6的亚烷基，n表示1～30的整数，式(2)中，R11为氢原子或甲基，A1表示具有阳离子性的1价有机基团)。
具有生物材料相容性聚合物制造方法

[发明专利]具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法-CN202011478711.1在审
发明人： 广井佳臣;大谷彩子;岸冈高广;西野泰斗;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C09D143/02 文献下载
摘要：本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜和离子络合材料、它们的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。
具有抑制生物物质附着能力离子络合材料及其制造方法

[发明专利]作为细胞培养的基底膜使用的聚合物的制造方法及细胞培养容器-CN201980053335.0在审
发明人：铃木康平;广井佳臣;安部菜月 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2019-08-22 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C12N5/07 文献下载
摘要：提供作为细胞培养的基底膜使用的聚合物的制造方法、细胞培养的基底膜形成剂、基底膜及细胞培养容器的制造方法。作为细胞培养的基底膜使用的聚合物的制造方法，其包括下述工序：制备工序，制备含有下式(I)表示的单体、自由基聚合引发剂及有机溶剂的混合物；及聚合工序，将所述混合物升温、搅拌，使单体聚合从而制备聚合物。[式(I)中，Ua1及Ua2各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基，Ra1表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基，Ra2表示碳原子数1至5的直链或支链亚烷基]。
作为细胞培养基底使用聚合物制造方法容器

[发明专利]具有抑制生物材料附着的能力的离子复合物材料及其制造方法-CN201580066417.0有效
发明人： 广井佳臣;安部菜月;西野泰斗;北原真树 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2015-12-10 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： C08F230/02 文献下载
摘要：本发明提供通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)(式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、Qa、Qb及Qc、Ra、Rb及Rc、An‑、以及m如本说明书及权利要求书中所定义的那样)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的共聚物等。本发明的共聚物可作为抑制生物材料附着的能力优异的离子复合物材料利用。
具有抑制生物材料附着能力离子复合物及其制造方法

[发明专利]具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法-CN201480032648.5有效
发明人： 广井佳臣;大谷彩子;岸冈高广;西野泰斗;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C09D201/02 文献下载
摘要：本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。或
具有抑制生物物质附着能力离子络合材料及其制造方法

[发明专利]细胞培养器-CN201480032593.8有效
发明人：大谷彩子;西野泰斗;广井佳臣;岸冈高广;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：本发明提供细胞培养容器、使用了该细胞培养容器的细胞凝集块的制造方法以及该细胞培养容器的制造方法，所述细胞培养容器的特征在于，在表面上涂覆有下述共聚物，所述共聚物包含：包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如说明书及权利要求书中所记载的那样)。
细胞培养

[发明专利]血液滤器及其制造方法-CN201480032424.4有效
发明人：金木达朗;岸冈高广;西野泰斗;广井佳臣;大谷彩子;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： A61M1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种血液滤器，所述血液滤器包括：多孔元件；以及存在于该多孔元件的表面的至少一部分上的共聚物，所述共聚物包含：包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，U^a1、U^a2、U^b1、U^b2及U^b3、以及An^－如说明书及权利要求书中所记载的那样)。
血液滤器及其制造方法

[发明专利]含有主链具有三嗪环及硫原子的共聚物的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201480070299.6有效
发明人：绪方裕斗;岸冈高广;广井佳臣;大桥智也;臼井友辉 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种新型的抗蚀剂下层膜形成用组合物。所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元的共聚物、交联性化合物、交联催化剂以及溶剂。(式中，A表示含三嗪环的2价的有机基团，X¹表示‑S‑基或‑O‑基，Q表示碳原子数1～15的直链状、支链状或环状的烃基，该烃基可以在主链上具有至少1个硫原子或氧原子，也可以具有至少1个羟基作为取代基，n表示0或1，R¹及R²各自独立地表示碳原子数1～3的亚烷基或单键，Z表示具有至少1个硫原子或氧原子的2价的基团，X¹表示‑O‑基时，Z表示具有至少1个硫原子的2价的基团。)
含有具有三嗪环原子共聚物抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]具有薄膜台阶覆盖性的涂覆膜、具备该膜的结构基体-CN201780044924.3在审
发明人： 广井佳臣;安部菜月;西野泰斗 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2017-07-18 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：本发明提供具备均匀且薄的涂覆膜的结构基体及其制造方法，所述涂覆膜具有优异的抑制生物材料附着的能力，并且不对光学测定等造成影响。在至少一部分表面具备最大膜厚与最小膜厚之差为以下的涂覆膜的结构基体及其制造方法。上述涂覆膜包含下述共聚物，所述共聚物包含：含有下式(a)表示的基团的重复单元；和含有下式(b)表示的基团的重复单元(式中，U^a1、U^a2、U^b1、U^b2、U^b3及An^‑如说明书或权利要求书中所述)。
涂覆膜结构基体共聚物包含薄膜台阶不对光学生物材料最大膜厚最小膜厚覆盖性共聚物附着式中制造

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