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[实用新型]关键尺寸测量标记-CN201520033712.3有效
发明人：邢滨;张士健 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2015-01-17 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种关键尺寸测量标记。所述关键尺寸测量标记包括两个第一标记和两个第二标记，所述第一标记和第二标记交替分布于一曝光单元的四个顶角处，所述第一标记包括第一子标记和第二子标记，所述第二标记包括第三子标记和第四子标记，所述第一子标记
关键尺寸测量标记

[发明专利]关键尺寸测量系统和使用其测量关键尺寸的方法-CN201811117478.7有效
发明人：朴爰柱;李亨周;崔硕桓;南东锡;韩允泽 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01B15/00 文献下载
摘要：一种关键尺寸测量系统，包括电压测量单元、控制单元和关键尺寸测量单元。电压测量单元可以测量光掩模的掩模图案的电势。控制单元可以包括信息存储单元，该信息存储单元用于存储关于由电压测量单元测量的掩模图案的电势的分布信息，以及关于与光掩模的掩模图案相对应的布局图案的信息。关键尺寸测量单元可由控制单元以第一测量模式和比第一测量模式运行更短时间的第二测量模式操作，并测量掩模图案的关键尺寸。
关键尺寸测量系统使用方法

[发明专利]测量光刻工艺的关键尺寸摇摆曲线的方法-CN200910195401.6有效
发明人：安辉 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-09 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量光刻工艺中关键尺寸摇摆曲线的方法，包括：在晶圆上形成厚度渐变的光刻胶膜；测量光刻胶膜的不同厚度所对应的关键尺寸；根据测量的关键尺寸，得到关键尺寸摇摆曲线。从而仅使用一片晶圆测量得到光刻工艺的关键尺寸摇摆曲线，减少了光刻胶及晶圆的使用，缩短了工艺和测量时间，节省成本。
测量光刻工艺关键尺寸摇摆曲线方法

[发明专利]人体尺寸测量方法、装置、设备及存储介质-CN202310386744.0在审
发明人：张少林;张超速;宁欣 -专利权人：深圳市威富视界有限公司;威富视界（北京）科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： G06V40/10 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种人体尺寸测量方法、装置、设备及存储介质，涉及数据处理技术领域，该人体尺寸测量方法包括：对目标人体的深度图像进行关键点检测，得到深度图像中多个预设关键点的位置；根据多个预设关键点的位置，从多个预设关键点中确定异常关键点的标识；根据异常关键点的标识以及多个预设关键点的位置，对目标人体进行尺寸测量，得到目标人体的尺寸参数。本申请的方法中，通过对多个预设关键点中异常关键点标识的确定，最后根据异常关键点的标识以及多个预设关键点的位置，对目标人体进行尺寸测量，可降低深度摄像头采集人体深度图像的精度误差，避免异常关键点对人体尺寸过程中的影响，进一步提高人体尺寸测量的准确性。
人体尺寸测量方法装置设备存储介质

[发明专利]半导体器件测量方法-CN202010349457.9有效
发明人：李弘祥 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：该发明涉及一种半导体器件测量方法，能够减小对半导体器件的关键尺寸进行测量时的测量误差。所述半导体器件测量方法，用于使用椭圆偏振干涉光谱仪进行半导体器件的关键尺寸测量，包括以下步骤：根据所述半导体器件的标准件的表面形貌特征，获取所述半导体器件表面的至少两种最小重复单元；对所述至少两种最小重复单元进行关键尺寸测量，获取所述至少两种最小重复单元的关键尺寸数据；根据所述至少两种最小重复单元的关键尺寸数据，构建所述椭圆偏振干涉光谱仪内关于所述半导体器件的测量模型；根据所述测量模型对所述半导体器件进行关键尺寸测量。
半导体器件测量方法

[发明专利]一种基于分级的人体轮廓关键点和关键部位识别方法-CN201910450079.0有效
发明人：董宁;罗英靓 -专利权人：北京智形天下科技有限责任公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本发明提供了本发明所述一种基于分级的人体轮廓关键点和关键部位识别方法，所述方法包括关键点识别与测量、关键部位识别两个阶段，关键点识别与测量阶段包括如下步骤：关键点计算目标确定；关键点确定；连接关键点计算像素尺寸；根据像素尺寸计算实际尺寸。关键部位识别阶段包括如下步骤：确定被测人体轮廓关键部位的大致区域；确定关键部位分段目标；人体轮廓关键部位分段；关键部分分割与确认。本发明可有效识别人体的轮廓，通过启发式方法，确定人体轮廓测量关键点和关键部位的位置，便于进行准确的尺寸测量。
一种基于分级人体轮廓关键部位识别方法

[发明专利]人体尺寸测量方法、装置和电子设备-CN202211268664.7在审
发明人：宁欣;余在洋;张丽萍;孙琳钧;董肖莉;李卫军 -专利权人：中国科学院半导体研究所
申请日： 2022-10-17 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： A61B5/107 文献下载
摘要：本发明提供一种人体尺寸测量方法、装置和电子设备。上述人体尺寸测量方法包括：根据人体尺寸标准，基于深度摄像头获得符合人体尺寸标准的关键特征点集合；基于人体对称规则对所述关键特征点集合进行第一类异常点修正，获得第一关键特征点集合；基于所述第一关键特征点集合中的正常点，通过曲面拟合的方式对所述第一关键特征点集合进行第二类异常点修正，获得目标关键特征点集合；基于所述目标关键特征点集合对人体关键部位进行尺寸测量。该方法对人体关键特征点进行修正后提高了关键特征点的准确性，并进一步提高人体尺寸测量的准确性。
人体尺寸测量方法装置电子设备

[发明专利]基于小角X射线散射技术的关键尺寸测量系统及测量方法-CN202110894221.8有效
发明人：杨春明;周平;边风刚 -专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G01B15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基于小角X射线散射技术的关键尺寸测量系统，包括：散射信号采集单元、控制单元和关键尺寸测量获取单元；散射信号采集单元包括光源、样品和探测器，样品为纳米光栅或纳米场效应管等周期性纳米结构器件；控制单元包括控制终端和数据存储设备，数据存储设备设置为存储关于样品的小角散射数据，控制终端设置为控制探测器的数据采集和数据存储设备的存储；关键尺寸测量获取单元对小角散射数据进行分析处理，得到样品的关键尺寸本发明还提供了相应的方法，本发明的系统包括散射信号采集单元、控制单元和关键尺寸测量获取单元，且涉及控制终端、形成了控制‑测量‑数据获取一整套系统，以自动化地测量关键尺寸。
基于小角射线散射技术关键尺寸测量系统测量方法

[发明专利]补偿关键尺寸的方法-CN202110647567.8在审
发明人：张其学;陈浩;栾会倩 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种补偿关键尺寸的方法，涉及半导体制造领域。该方法包括对衬底进行光刻；测量预定光阻结构的关键尺寸，关键尺寸包括侧壁的关键尺寸和主体部分的关键尺寸；根据预定光阻结构的关键尺寸的测量值、侧壁的关键尺寸与焦距偏移量的映射关系、主体部分的关键尺寸和能量补偿值的映射关系，确定出焦距偏移量和能量补偿值；根据焦距偏移量调节光刻机台的焦距；根据能量补偿值调节光刻机台的能量；解决了目前同型号产品的关键尺寸存在批间差异的问题；达到了提升关键尺寸的稳定性的效果。
补偿关键尺寸方法

[发明专利]一种混合反馈式先进过程控制系统-CN201210568146.7有效
发明人：蔡博修;林益世 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-12-24 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种混合反馈式先进过程控制系统，包括测量SEM关键尺寸的扫描电子显微镜模块，所述扫描电子显微镜模块将测量得到的SEM关键尺寸数据与曝光能量建立反馈关联，对曝光能量进行监控，其特征在于，所述系统还包括测量光学关键尺寸的光学模块，所述光学模块通过将收集的光学关键尺寸数据与所述SEM关键尺寸数据建立关联，进而与所述曝光能量建立反馈关联，对非关键工艺层的曝光能量进行监控，以降低所述扫描电子显微镜关键尺寸模块负载，提高产能。在本发明中通过将测量关键尺寸的光学模块（OCD）引入所述混合反馈式先进过程控制系统中，解决了现有技术中采用CDSEM量产低、耗时长、成本低的瓶颈，使工艺更加稳定。
一种混合反馈先进过程控制系统

[发明专利]基于UG/NX软件的刀具测量方法及系统-CN202210587842.6在审
发明人：叶家林;王杰伟;王坎;林艺祥;邱浩钦;郜勇博 -专利权人：厦门金鹭特种合金有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G01B21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于UG/NX软件的刀具测量方法及系统，基于UG/NX软件进行，包括：获取使用逆向扫描设备对切削刀具进行扫描后创建的刀具模型；获取设置的切削刀具的关键特征；获取设置的切削刀具的关键参数；基于所述刀具模型、关键特征和关键参数，使用静态安装尺寸自动测量算法和/或静态非安装尺寸自动测量算法在所述刀具模型上进行切削刀具的静态安装几何尺寸和/或静态非安装几何尺寸的自动测量计算；输出通过静态安装尺寸自动测量算法和/或静态非安装尺寸自动测量算法计算出的测量数据。本发明结合逆向扫描和UG/NX软件，能够大幅提高刀具的测量准确性和测量效率，提高产品质量，为企业带来更多的经济效益。
基于 ug nx 软件刀具测量方法系统

[发明专利]一种优化光学临近修正拟合结果的方法-CN201310451397.1有效
发明人：舒强;王铁柱 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-09-27 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种优化光学临近修正拟合结果的方法，包括在光学临近修正过程中对晶圆版图进行模拟以及对晶圆版图进行实际制备，然后通过公式（I）计算模拟晶圆版图中图案特征的关键尺寸和实际晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的均方根值RMS，以监控和优化光学临近修正过程中的模拟结果；其中，所述Wi为所述图案特征关键尺寸的权重，CDi（模拟）为模拟晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的测量值，所述CDi（测量）为实际晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的测量值本发明方法考虑到不同关键尺寸CD的大小对所述拟合误差的影响，以保证关键尺寸小的特征的模拟（simulation）结果更加接近物理晶圆上测量的真实结果，使OPC的最终结果更加准确和合理。
一种优化光学临近修正拟合结果方法

[发明专利]3D NAND存储器阶梯结构关键尺寸的量测方法-CN201710772343.3有效
发明人：陈子琪 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种3D NAND存储器阶梯结构关键尺寸的量测方法，该量测方法包括：在存储单元的非字线区设置关键尺寸量测区；在字线区形成多级阶梯结构，同时在所述量测区形成多个周期性排布的独立阶梯结构，其中，形成在所述量测区内的独立阶梯结构与形成在字线区内的阶梯结构具有相同的关键尺寸；采用光学关键尺寸测量方法对所述量测区内的周期性分布的阶梯结构进行关键尺寸测量，得到的测量结果用于表征字线区阶梯结构的关键尺寸该测量方法能够实现对3D NAND存储器阶梯结构关键尺寸的快速无损量测。因而该方法可以用于3D NAND存储器的字线区阶梯形貌刻蚀工艺的在线监测。
dnand 存储器阶梯结构关键尺寸方法

[发明专利]关键尺寸的测量方法-CN201210484767.7有效
发明人：蔡博修 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-11-23 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： G01B15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种关键尺寸的测量方法，在获得定位区域后，继续获得与所述测量点以定位区域中心呈中心对称的辅助定位点，并对辅助定位点进行多次扫描以获得用来定位的阴影区并进行拍照，则由照片得到的阴影区和定位区域的中心及二者的位置差就能够精确的确定测量点，如此就避免了多次重复测量过程中容易出现的测量定位漂移的情况发生，故而能够有效的提高测量的有效性。
关键尺寸测量方法

[发明专利]一种涡扇发动机核心机装配系统与装配方法-CN202210977216.8在审
发明人：李晨鹭;郭昆;周恺;解漪妍 -专利权人：北京动力机械研究所
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B23P19/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种涡扇发动机核心机装配系统与装配方法，属于涡扇发动机核心机技术领域，该系统包括回转装置、机械臂测量装置以及数字化集成控制装置，回转装置的底部固定，顶部能够水平回转；机械臂测量装置底部固定，其机械臂的执行端设置有测量仪器，能够测量待组装的关键零部件、组装完成的关键组件以及核心机的关键尺寸，并将测量数据传输至数字化集成控制装置；数字化集成控制装置能够根据接收的测量数据自动判断待组装的关键零部件的关键尺寸、组装完成的关键组件的关键尺寸以及核心机的关键尺寸是否满足要求，且数字化集成控制装置能够控制回转装置与机械臂测量装置运动。
一种发动机核心装配系统方法

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