专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶圆刻蚀系统及晶圆刻蚀方法-CN201811580776.X有效
  • 梁梦诗;聂钰节 - 上海华力微电子有限公司
  • 2018-12-24 - 2021-06-15 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种晶圆刻蚀系统,包括:所述测量装置测量刻蚀前前层膜层厚度将测量结果实时发送至于APC系统,所述刻蚀机依据所述刻蚀前前层膜层厚度完成主刻蚀,所述测量装置测量测量刻蚀后膜层厚度并将刻蚀后膜层厚度反馈至本发明基于膜层厚度变化调节晶圆关键尺寸,在APC系统管控下进行定量调节刻蚀机刻蚀程式参数,以达到刻蚀关键尺寸的稳定性,改善刻蚀晶圆的面内均匀性,避免因刻蚀关键尺寸的漂移造成最终电性参数和良率的损失。
  • 刻蚀系统方法
  • [实用新型]一种带测量功能用于三维弯曲型材的检具-CN202220520853.8有效
  • 廖斌;卢有庆;左庆华;戴小杰 - 南南铝业股份有限公司
  • 2022-03-11 - 2022-08-12 - G01B5/20
  • 本实用新型公开一种带测量功能用于三维弯曲型材的检具,包括检测平台,还包括滑动测量座和仿形置物夹,所述的滑动测量座安放在检测平台上,滑动测量座上设置有刻度尺,滑动测量座的顶部固定有竖直放置的中空固定杆,中空固定杆内通过紧定螺钉可调安装有一根向上伸的标尺杆,所述的仿形置物夹是根据标准的三维弯曲型材的关键尺寸位置设置且用于检测待检测工件的关键尺寸位置的仿形置物座,仿形置物夹的底部固定有螺杆,通过螺杆螺纹连接安装在标尺杆的顶部。本检具能检测工件是否合格的同时,还能实现弯曲型材关键尺寸测量,为弯曲工艺改进提供参考信息,适用于现场检测操作。
  • 一种测量功能用于三维弯曲
  • [实用新型]一种PCB板快速测量装置-CN202221872918.1有效
  • 朱拾东;刘忠;朱培源 - 深圳至汉装备科技有限公司
  • 2022-07-18 - 2023-01-10 - G01B11/00
  • 本实用新型提供了一种PCB板快速测量装置,属于测量技术领域。它解决了现有技术中较大PCB板面阵相机测量慢的问题。本PCB板快速测量装置,包括用于放置PCB板的测量平台及测量单元,所述测量单元包括线阵相机及面阵相机,所述测量单元设置在X向移动机构上,所述测量平台设置在Y向移动机构上,所述X向移动机构的移动方向与Y向移动机构的移动方向垂直本实用新型对PCB板的关键尺寸利用线阵相机进行快速扫描式测量,通过运动模组带动PCB板高速运动,配合高分辨率线扫相机扫描,以实现PCB板关键尺寸测量,适用于大尺寸PCB板的快速测量
  • 一种pcb快速测量装置
  • [发明专利]一种建立光刻工艺条件的方法-CN202211522331.2在审
  • 王雷 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-03-14 - G03F7/20
  • 本发明提供一种建立光刻工艺条件的方法,包括提供晶圆;提供测试掩膜板,测试掩膜板上形成有相同的设计图形,但设计图形的密度不同;对设计图形进行曝光显影,在晶圆上形成对准图形;测量对准图形的关键尺寸;判断关键尺寸是否满足设定的阈值,若不满足,调整光刻工艺,直到关键尺寸满足设定的阈值;最后确定光刻工艺条件。本发明解决了现有光刻工艺建立方法不考虑测试掩模版的设计图形密度不同造成关键尺寸有差异的问题,使得光刻工艺更加完善,减小了造成不同图形密度的设计图形和产品间存在的关键尺寸差异的可能,并且考虑到显影对关键尺寸的影响,对于关键尺寸变化要求高的工艺和设计,减小了影响。
  • 一种建立光刻工艺条件方法
  • [发明专利]一种三销轴叉内球道尺寸检测专用检具-CN202010497479.X在审
  • 吴海林;崔万里;夏雨 - 南京维革特自动化设备有限公司
  • 2020-06-03 - 2021-12-07 - G01B5/00
  • 本发明公开一种三销轴叉内关键尺寸专用检测检具,它包括测量部和数据显示部分组成,其中下导轨座15与交叉滚子导轨28连接,交叉滚子导轨28与上导轨座14连接,定位杆12与上导轨座14连接;垫柱1与测量面板11连接,测量面板11与测量座5连接,测量座5与测量杠杆9通过压缩弹簧33连接。测量头8安装在定位杆12上,通过测量杠杆9将测量头8的位移数值传递到表测头24上从而使测量表37得出数值。本发明具有方便快捷、操作简单、能有效的解决三销轴叉内此关键尺寸传统三坐标测量法重复性、再现性不足的问题,提高了测量尺寸精度重复性和再现性以及尺寸测量的工作效率。
  • 一种三销轴叉内球道尺寸检测专用
  • [发明专利]光学临近效应修正工艺模型的建模方法-CN201110214901.7无效
  • 陈福成;袁春雨 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2011-07-29 - 2013-01-30 - G03F1/36
  • 本发明公开了一种光学临近效应修正工艺模型的建模方法,包括步骤:测量半导体工艺层的光刻原始数据以及其线宽粗糙度;根据各关键尺寸测量值的线宽粗糙度、半导体工艺层的设计规则处的基准线宽粗糙度以及半导体工艺层的设计规则处的基准权重值确定各关键尺寸的权重值本发明通过引入线宽粗糙度来确定各关键尺寸的权重值,能减少测量数据量,还能过滤一些工艺、量测机台和量测过程中的不稳定因素和随机因素,能加快工艺模型建立的拟和和收敛时间,同时确保工艺模型的精确和可靠稳定。
  • 光学临近效应修正工艺模型建模方法

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