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[发明专利]五轴数控机床关键几何误差优化配比补偿方法-CN202110763788.1有效
发明人：项四通;张海南;孙江浩;虞奔;钱博增;陈茂雷 -专利权人：宁波大学
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G05B19/404 文献下载
摘要：五轴数控机床关键几何误差优化配比补偿方法，包含以下步骤：第一步，建立空间误差模型；利用齐次坐标矩阵建立五轴数控机床空间误差模型；第二步，基于拟蒙特卡洛法进行关键几何误差辨识；第三步，测量机床运动轴的关键几何误差，基于空间误差模型计算由关键几何误差引起的工件尺寸误差；第四步，切削工件并标定总体尺寸误差，计算由关键几何误差与非关键几何误差引起的工件尺寸误差的比例；第五步，根据关键几何误差和非关键几何误差的耦合关系以及总灵敏度的大小确定关键几何误差的优化配比本发明仅测量并补偿关键几何误差至优化配比值，就达到了补偿全部误差的效果，提高了机床加工的精度。
数控机床关键几何误差优化配比补偿方法

[发明专利]基于自对准双重图形的产品良率在线评估系统及评估方法-CN202011094785.5有效
发明人：孙天拓;任佳;高杏 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于自对准双重图形的产品良率在线评估方法，包括：自对准双重图形刻蚀完成后，从晶圆的每个shot的相同位置的芯片的阵列区的最边缘的区域中选定相邻N条线路和/或相邻N条间隙，测量被选中的线路和/或间隙的关键尺寸；将每个shot中被测量的线路和间隙分别分成M组，每组线路中的两条线路及每组间隙中的两条间隙均相邻；计算每个shot中各组线路的相邻线路关键尺寸差值及各组间隙的相邻间隙关键尺寸差值；将每个shot的相邻线路关键尺寸差值和相邻间隙关键尺寸差值分别与规格限、控制限对比；统计得到晶圆的线路规格限良率/控制限良率、间隙规格限良率/控制限良率。本发明通过在线量测SADP关键尺寸并统计分析提前评估产品的最终良率。
基于对准双重图形产品在线评估系统方法

[实用新型]一种五金件关键尺寸检具-CN201721739204.2有效
发明人：张小山 -专利权人：镇江润邦电子有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： G01B5/00 文献下载
摘要：本实用新型的五金件关键尺寸检具，量具主体前段与后段分别构成通止规结构，检验测量产品时量具主体前段能够顺利通过合格产品开槽部位，量具主体后段不能通过合格产品开槽部位，能够快速检验测量五金件关键部位开槽尺寸，测量结果准确度高，操作方便，检验测量耗费时间短，增加了生产效率。
量具主体五金件尺寸检具合格产品开槽部位后段测量本实用新型准确度测量产品关键部位快速检验生产效率通止规开槽检验

[发明专利]一种掩膜版图形关键尺寸精度优化方法-CN202210205001.4在审
发明人：徐智俊;李文;徐兵;杜晓威 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版光刻曝光，具体涉及一种掩膜版图形关键尺寸精度优化方法，设计具有不同图形缝隙面积占比ε的图形，并进行曝光量δ设计；采用固定的湿法制程工艺和CD测量系统，并计算关键尺寸偏差，建立曝光量δ与图形缝隙面积占比ε的关键尺寸偏差模型；截取客户订单主图形，分析计算对应的图形缝隙面积占比ε；基于关键尺寸偏差模型选择合适的曝光量δ，并根据关键尺寸偏差结果进行优化；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的光刻曝光图形在关键尺寸上与设计值之间存在不稳定偏差的缺陷
一种版图关键尺寸精度优化方法

[发明专利]关键尺寸测量装置的光量强度调整系统及调整方法-CN201310701218.5有效
发明人：李向峰;金基用;周子卿;贠向南;许朝钦;侯本光;刘会双 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-12-18 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统、关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，属于关键尺寸测量技术领域，其可解决现有的光量强度调整系统光量强度的补正调节效果不佳，光量强度不稳定，无法准确调整补正量的问题本发明的光量强度调整系统通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作；同时通过设置补正量计算单元准确的计算得到补正量，有利于实现准确的光量强度调整
关键尺寸测量装置强度调整系统方法

[发明专利]关键尺寸测量校正方法、系统及计算机可读存储介质-CN202011564124.4有效
发明人：周子维 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种关键尺寸测量校正方法、系统及计算机可读存储介质，关键尺寸测量校正方法包括：采集形貌结构在瞳面的多幅角谱标定图像，根据多幅角谱标定图像标定校正系数；采集形貌结构在瞳面当前的角谱测量图像，根据当前的角谱测量图像以及校正系数计算得到当前的角谱测量图像中测量光斑的校正因子；采用校正因子校正角谱测量图像中的测量光斑，并输出校正后的测量光斑信号。本发明实施例提供一种关键尺寸测量校正方法、系统及计算机可读存储介质，利用离线标定的校正系数实时校正在线测量结果，可校正除光源强度波动外，透过率变化、探测器响应非均匀性、环境温漂及垂向水平向位置漂移等因素产生的CD测量漂移，提高了CD测量的复现性。
关键尺寸测量校正方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]一种基于深度相机和关键点的瓜果类蔬菜尺寸测量方法-CN202111189990.4在审
发明人：孙桂玲;郑博文;孟兆南;南瑞丽 -专利权人：南开大学
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明属于图像处理技术领域，具体涉及一种基于深度相机和关键点检测的瓜果类蔬菜尺寸非接触测量方法。该方法使用双目深度相机获取蔬菜的彩色图像和深度。关键点检测网络以彩色图像作为输入，能够识别瓜果类蔬菜的种类，并定位柄、顶、左、底、右和中心六个关键点。尺寸计算模块融合关键点的位置关系及深度值，可估算多种瓜果类蔬菜的尺寸。实验结果表明，本发明能够准确识别4种瓜果类蔬菜种类，并高精度测量其直径和长度。本发明为使用视觉方法解决蔬菜非接触测量问题提供了新思路，推动计算机视觉在农业自动化领域的应用。
一种基于深度相机关键瓜果蔬菜尺寸测量方法

[发明专利]人脸测量方法、装置、电子设备和介质-CN202011422988.2在审
发明人：马啸 -专利权人：深圳数联天下智能科技有限公司
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种人脸测量方法、装置、电子设备和介质。其中方法包括：获取人脸图像，对人脸图像进行关键点检测，获得人脸图像的第一关键点坐标；根据预设标准人脸模型的二维关键点坐标，对人脸图像的第一关键点坐标进行仿射变换，获得第二关键点坐标；获取预设标准人脸模型中的任意两个关键点对应的基准尺寸，基准尺寸用于表示任意两个关键点在二维平面上的标准距离；基于基准尺寸和人脸图像的第二关键点坐标，对人脸图像进行缩放处理，获得人脸图像的第三关键点坐标；将预设标准人脸模型的第三维关键点坐标与第三关键点坐标组合，获得人脸图像的三维坐标；根据人脸图像的三维坐标进行计算，获得人脸测量结果。
测量方法装置电子设备介质

[发明专利]一种晶圆测量机台的校准方法、装置及设备-CN202310488849.7有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：华芯程（杭州）科技有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01J37/153 文献下载
摘要：本发明涉及光刻领域，特别是涉及一种晶圆测量机台的校准方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过获取给定图形及所述给定图形对应的第一关键尺寸的可靠值；利用待校机台测量所述给定图形的第一关键尺寸，得到测量过程中的灰度变化曲线；通过所述灰度变化曲线，确定关键图像峰；根据所述第一关键尺寸的可靠值，在所述关键图像峰中确定目标灰度；将所述目标灰度作为所述待校机台的图形‑背景分界值，完成对所述待校机台的校准。本发明通过所述待校机台在测量过程中获得的灰度变化曲线，圈定图形的大致范围，再确定在所述给定图形与背景的边界处，所述待校机台读取到的灰度值，实现了兼顾所述待校机台高速量测与较高的的量测精度与准确率。
一种测量机台校准方法装置设备

[发明专利]在气体吸附下的关键尺寸测量-CN201780027221.X有效
发明人： S·克里许南 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本文提出用于通过气体吸附过程来执行由吸附物填充的几何结构的光学测量的方法及系统。当使用包含经控制量的填充材料的净化气体的流动来处理被测量计量目标时，执行测量。所述填充材料的一部分吸附到被测量结构上，且填充结构特征中的开口、结构特征之间的空间、小体积(例如，凹口、沟槽、狭缝、接触孔等)。在一个方面中，当结构是未填充的及当通过气体吸附来填充所述结构时，收集测量数据。使所述经收集数据组合于基于多目标模型的测量中，以减小参数相关性且改进测量性能。
气体吸附关键尺寸测量

[发明专利]3D存储器桥接结构的关键尺寸的监测方法-CN202110665945.5有效
发明人：方超 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种3D存储器桥接结构的关键尺寸的监测方法。该监测方法包括：在衬底上形成叠层结构和以平面图案分布的多个测量结构；以及采用多次刻蚀步骤，在所述叠层结构中形成第一台阶结构、第二台阶结构，以及连接所述第一台阶结构和所述第二台阶结构的桥接结构；其中，在所述多个刻蚀步骤中，采用所述多个测量结构分别测量所述桥接结构的线宽变化。该监测方法采用平面图案的测量结构测量和表征桥接结构的关键尺寸并通过改进工艺参数对其关键尺寸进行优化，从而提高半导体器件的良率和可靠性。
存储器结构关键尺寸监测方法

[发明专利]信息存储方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质-CN202211413645.9在审
发明人：张龙;范亮;沈涛;雷艳飞;李维;杜承志;李巍 -专利权人：富泰华工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G06V40/10 文献下载
摘要：本申请提供一种信息存储方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质，该信息存储方法包括：获取待录入的用户的身份信息，以及用户的手掌图像；从手掌图像中提取用户的手指关键点；基于手指关键点，计算手指的像素尺寸；基于像素尺寸，确定手指的实际尺寸；将身份信息和手指的实际尺寸建立匹配关系；存储匹配关系。本申请实施例能够自动测量手指实际尺寸并存储，提高手指尺寸测量以及存储的效率与准确性。
信息存储方法装置电子设备计算机可读介质

[发明专利]基于超声图像的测量设备、方法、介质及电子设备-CN202111242249.X在审
发明人：叶秋意;谷晓林 -专利权人：上海杏脉信息科技有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： A61B8/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基于超声图像的测量设备、方法、介质及电子设备。所述设备包括：超声图像获取模块，用于获取目标超声图像；刻度关键点获取模块，用于获取目标超声图像中的刻度关键点；比例尺获取模块，用于根据刻度关键点之间的图上距离与实际距离获取目标超声图像的比例尺；目标对象检测模块，用于检测目标超声图像中的目标对象；对象尺寸测量模块，用于根据目标对象的图上尺寸和比例尺获取目标对象的实际尺寸；叠加显示模块，用于在目标超声图像中叠加显示刻度关键点、比例尺、目标对象的检测结果和/或目标对象的实际尺寸所述设备能够自动获取目标对象的实际尺寸，该过程基本无需人工参与，效率较高。
基于超声图像测量设备方法介质电子设备

[发明专利]一种服装尺寸测量系统及其测量方法-CN201910192399.0在审
发明人：温军 -专利权人：中山易裁剪网络科技有限公司
申请日： 2019-03-13 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： A41H1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种服装尺寸测量系统及其测量方法，包括数据库单元，用于存储服装关键点识别模型；拍摄单元，用于标定后对待测量服装进行拍摄获取服装图片；接收识别单元，与拍摄单元连接，用于接收拍摄单元获取的服装图片的图片信息，并识别图片信息中的待测量服装的服装类别；获取单元，与接收单元连接，用于获取图片信息中的的像素尺寸数据以及实际尺寸数据，生成单元，与获取单元连接，基于像素尺寸数据和实际尺寸数据生成比率系数；查找调用单元，与数据库单元、接收识别单元和生成单元连接，根据服装类别查找与服装类别相匹配的服装关键点识别模型；该服装尺寸测量系统能缓解现有技术中依靠人工的方式存在的效率低下的问题。
尺寸数据尺寸测量系统服装类别拍摄单元图片信息服装数据库单元测量服装服装图片获取单元生成单元关键点像素测量查找比率系数调用单元接收单元人工的标定匹配存储拍摄缓解

[发明专利]控制蚀刻工序的精确度和再现性的方法-CN200410083770.3无效
发明人：大卫·幕伊;刘炜;佐佐野弘树 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2004-10-19 - 公布日： 2005-04-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：此方法的步骤包括取得基底上的图案在蚀刻前的关键尺寸测量值，蚀刻该图案，修整被蚀刻的基底以减少和/或移除蚀刻时沉积在图案侧壁上的聚合物，取得蚀刻后的关键尺寸的测量值。所测得的关键尺寸可用来调整蚀刻工序，以改善组件工序的精确度与再现性。
控制蚀刻工序精确度再现方法