[发明专利]半导体器件的应力测量装置以及方法在审

专利信息
申请号: 202110898695.X 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN113791325A 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 李恋恋;都安彦;杨红;王文武 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01L5/00;H01L21/66
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 金铭
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供的一种半导体器件的应力测量装置以及应力测量方法,涉及半导体技术领域,包括:基台包括相对设置的第一台座和第二台座;第一承接件活动装配在第一台座上,第一承接件上活动装配有至少两个第一滚轴;第二承接件活动装配在第二台座上,第二承接件上活动装配有至少两个第二滚轴;两个第一滚轴相互平行并构成第一平面,两个第二滚轴相互平行并构成第二平面,第一平面与第二平面相互平行,第一承接件的移动轨迹与第一平面垂直,第二承接件的移动轨迹与第二平面垂直。在上述技术方案中,滚轴可以使晶圆试样内的半导体器件内部受到均匀的单轴应力,避免晶圆由于施加外力不当而断裂。
搜索关键词: 半导体器件 应力 测量 装置 以及 方法
【主权项】:
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