[发明专利]一种掩膜板及其制作方法在审

申请号：	202110166568.0	申请日：	2021-02-04
公开（公告）号：	CN112859512A	公开（公告）日：	2021-05-28
发明（设计）人：	钱超;余洋;黄斌;植启东	申请（专利权）人：	南京深光科技有限公司
主分类号：	G03F1/64	分类号：	G03F1/64;G03F1/68;G03F9/00
代理公司：	南京行高知识产权代理有限公司 32404	代理人：	肖念
地址：	210038 江***	国省代码：	江苏;32
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摘要：	本发明属于掩膜板技术领域，尤其是涉及一种掩膜板及其制作方法，包括掩膜板本体和掩膜板边框和掩膜板基底，掩膜板基底层叠在掩膜板本体的背部，掩膜板基底与掩膜板本体粘合，掩膜板本体的侧边嵌合有贴条，掩膜板本体通过贴条与掩膜板边框粘合；掩膜板边框上分有第一准备区和第二准备区，第一准备区和第二准备区长度大于其宽度，第一准备区和第二准备区上刻有校准图形。优点在于：本发明在掩膜板进行张网和焊接时具有更好的可控性，从而使得掩膜板整体降低作业时的次品率。
搜索关键词：	一种掩膜板及其制作方法
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摘要：本申请提供一种光刻版框架及光刻版框架制造方法，涉及半导体制造技术领域。本发明基于不同光刻机的不同视场，引入子框架单元概念，根据各个不同的光刻机视场分别在横向和纵向可排布的芯粒数量的最大公约数确定最小框架单元的尺寸，再将子框架单元通过在横向和纵向平移复制的方式得到最终的光刻版框架。如此，可以在不牺牲光刻机使用的最大曝光视场的前提下，通过光刻版框架的优化，实现高自由度的不同视场光刻机之间的匹配使用。不同视场光刻机匹配使用过程中不需要进行复杂的计算，按照各自的框架进行程序编辑即可，进而使得本申请的光刻版框架的实用性更强，可以跨多个曝光视场匹配使用光刻机，使得光刻机产能利用率能够得到有效的提升。

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摘要：本实用新型公开了一种方便调整可视角度的光刻膜，包括膜体，膜体的表面上设置有支撑机构，支撑机构的上端设置有欧遮挡机构，支撑机构包括基板，基板固定连接在膜体的下表面上，基板的两端均开设有插孔，两个插孔的内部均插接有插杆，两个插杆的上端固定连接有同一个压环，膜体的中心处开设有蚀刻槽，本实用新型的有益效果是：通过外部的照射装置按压两个半圆板围绕转轴转动，使半圆板盖在压环的上表面上，通过半圆板将膜体的上表面挡住，只通过两个半圆槽使照射装置与蚀刻槽对应，当启动外部照射装置时，倾斜的散射光线被半圆板挡住，使散射的光线无法照射在膜体上，防止影响制成的圆晶芯片的质量。

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摘要：本申请提供一种掩膜版保护装置和掩膜版保护膜的固定方法。本申请提供的掩膜版保护装置，用于固定掩膜版保护膜，所述掩膜版保护装置包括第一框架和第二框架，所述第一框架的外侧壁包括限位结构，所述第二框架嵌入安装在所述限位结构内，所述第一框架和第二框架之间设有间隙以用于夹持所述掩膜版保护膜。本申请提供的掩膜版保护膜的固定方法，包括：提供第一框架，所述第一框架的外侧壁包括限位结构；将需要保护的掩膜版保护膜布设于所述第一框架的表面；将第二框架嵌入安装至所述限位结构内，所述第一框架和第二框架之间设有间隙，所述掩膜版保护膜被夹持在所述间隙内。利用组装嵌入的方式将掩膜版保护膜固定，隔绝污染物，延长掩膜版的使用寿命。

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摘要：一种掩膜组件(10)及其制造方法、显示面板(30)、显示装置(00)，涉及显示技术领域。掩膜组件(10)中掩膜结构(103)的第一通孔(1032a)可以用于形成显示面板(30)的阴极图案(3071)，支撑结构(102)的开口(102a)可以用于形成显示面板(30)中除该阴极图案(3071)之外的其他膜层。由于通过该多个第一通孔(1032a)形成的多个阴极图案(3071)之间具有间隙，因此采用该掩膜组件(10)制备得到的显示面板(30)的光透过率较高，摄像头的成像效果较好。

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摘要：提供一种薄膜组件框架，其即使在光刻的曝光步骤中杂散光入射到薄膜组件框架的内侧面时也防止诸如炭黑颗粒或填料颗粒之类的颗粒污染光掩模。更具体地说，提供一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂层包括离所述框架基座最远一侧的最外聚合物层和所述框架基座与所述最外聚合物层之间的一个或多个内部聚合物层，其中所述一个或多个内部聚合物层中的至少一层包含颗粒，并且所述最外聚合物层不包含颗粒或者具有比所述一个或多个内部聚合物层中的最高颗粒浓度低的颗粒浓度。还提供一种包括所述薄膜组件框架的薄膜组件。

保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品-202210119351.9
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摘要：本发明提供了一种保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品，保护膜组件适用于光掩膜版，包括保护膜和用于支撑保护膜的支撑架，支撑架包括：第一架体，第一架体设置于光掩膜版的基底上；第二架体，第二架体上安装有保护膜；其中，第一架体和第二架体可拆卸地连接。本发明的保护膜组件解决了现有技术中的光掩膜版上的保护膜不便于拆装的问题。

一种可调节的金属掩膜板-202120809970.1
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申请日： 2021-04-20 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本实用新型公开了一种可调节的金属掩膜板，包括金属外边框和基板边框，金属外边框内壁的两侧均开设有凸型滑槽，凸型滑槽的内部设置有滑块，滑块相对的一侧连接有金属内边框，金属内边框底部的中端处开设有卡槽，卡槽的内部设置有卡块，卡块左右的两侧连接有推块，基板边框内腔的外边角处均设置有第一缓冲垫，基板边框内腔的内边角处均设置有第二缓冲垫；该一种可调节的金属掩膜板通过设置限位条、凸型滑槽、滑块、卡槽、卡块、推块、橡胶吸盘、第一缓冲垫、第二缓冲垫、支撑杆与弧形垫片，可以达到便于调节、稳固支撑的功效，使掩膜板的位移更加灵活方便，调节起来更加简单，提高金属掩膜板的稳定性能。

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摘要：本实用新型的目的在于提供一种使用防护薄膜框架的防护薄膜，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，而且，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架为金属制，并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部，每1mm3体积的防护薄膜的内空间中，内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上，且提供一种防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。

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摘要：本实用新型的课题在于提供一种减少附着于防护薄膜框架的表面的异物落下的防护薄膜框架、及使用所述框架的防护薄膜。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为框状的防护薄膜框架，包括防护薄膜框架本体、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架、及经由粘合剂或粘接剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。

版架、腐蚀机及显影设备-202121682948.1
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申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本实用新型提供了一种版架、腐蚀机及显影设备，版架包括底架和支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

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摘要：本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。

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摘要：本实用新型的目的在于提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及组件、曝光原版、装置与系统及制造系统。一种防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，在所述防护薄膜框架的内侧面具有粗糙度曲线的峭度(Rku)为3.0以下的区域；以及一种防护薄膜组件，包括所述防护薄膜框架作为结构要素。

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摘要：本实用新型的目的在于提供一种防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光系统、以及半导体或液晶显示板的制造系统，所述防护薄膜框架通过将对于检查光的框架内表面的反射率设置得低，而可尽可能地抑制来自框架的散射光，可提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而框架的着色等的限制少。所述防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，且其中：所述防护薄膜框架的至少内侧面处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下；一种防护薄膜组件，其中：包括所述防护薄膜框架作为结构要素。

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摘要：本发明属于掩膜板技术领域，尤其是涉及一种掩膜板及其制作方法，包括掩膜板本体和掩膜板边框和掩膜板基底，掩膜板基底层叠在掩膜板本体的背部，掩膜板基底与掩膜板本体粘合，掩膜板本体的侧边嵌合有贴条，掩膜板本体通过贴条与掩膜板边框粘合；掩膜板边框上分有第一准备区和第二准备区，第一准备区和第二准备区长度大于其宽度，第一准备区和第二准备区上刻有校准图形。优点在于：本发明在掩膜板进行张网和焊接时具有更好的可控性，从而使得掩膜板整体降低作业时的次品率。

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发明人：谭照明 -专利权人：深圳市鑫旺兴电子有限公司
申请日： 2020-08-31 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本实用新型公开了一种掩膜板框架结构，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体的底部设置有框架本体，所述框架本体顶部前侧和后侧的两侧均固定连接有限位杆，所述掩膜板本体的底部开设有与限位杆配合使用的限位孔，所述掩膜板本体顶部前侧和后侧的两侧均固定连接有壳体。通过设置掩膜板本体、框架本体、限位杆、限位孔、壳体、通孔、固定机构、固定杆、活动块、弹簧、活动机构、按钮、活动板、活动杆、固定孔、固定槽、活动孔、滑槽和滑块的配合使用，解决了现有的掩膜板与框架的固定大多数都是采用螺纹固定或者焊接，焊接局限性较大，螺纹固定的方式更换掩膜板或框架时较为不便，不方便使用者使用的问题。

一种保护膜框架及其制备方法及保护膜组件-201910801486.1
发明人：高丁山 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种保护膜框架及其制备方法及保护膜组件，保护膜框架包括框架结构以及包覆在框架结构表面的包覆层，包覆层包括铬层或者二氧化钛层。包覆层包覆在框架结构的表面，因此将框架结构中的酸根/氨根离子(SO42‑、PO43‑及NH4+)包裹住，使其与外界隔绝，从而杜绝上述酸根/氨根离子(SO42‑、PO43‑及NH4+)在光刻机曝光中或曝光后存放期间释出，进而避免光掩膜版不定时产生白雾状(Haze)。上述保护膜框架避免了光掩膜版产生白雾状，因此能够有效避免有白雾的光掩膜版在成基片的重复性缺陷，进而可以提高基片的良率。

一种晶圆光刻用光罩组件-202011168186.3
发明人：赵震 -专利权人：临漳县澳皇网络科技有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明公开了一种晶圆光刻用光罩组件，其结构包括安装机构、聚焦镜、固定环、玻璃管、底座，安装机构镶嵌设于聚焦镜的上端内侧面，聚焦镜设于玻璃管的内侧端面，固定环贴合包裹在玻璃管的横向外侧端面，玻璃管嵌固安装在底座的正上方，随着图板的不断施压拉扯镶嵌机构使倒角槽与活动机构之间的距离不断远离直至倒角槽贴合在固定座的上端左右两侧，利用镶嵌机构的壁厚填充电路板与安装机构内端面之间的间隙，由于镶嵌机构皆采用橡胶材质制成，当其受拉扯或挤压时可有效产生形变避免两者间的摩擦。

OLED显示基板-202011018862.9
发明人：莫再隆;阳智勇;杨凡;周炟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供了一种OLED显示基板，该OLED显示基板包括彼此相对的第一边和第二边以及连接第一边和第二边的第三边。OLED显示基板包括像素界定层，像素界定层靠近第三边处包括斜坡，至少部分靠近第一边的像素界定层的斜坡的坡度角小于至少部分远离第一边的像素界定层的斜坡的坡度角。本发明的技术方案能够改善显示装置的显示亮度不均问题，提高显示装置的显示品质。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]一种掩膜板及其制作方法在审

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