专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻版框架及其制造方法-CN202211072477.1在审
  • 白金;张德治;赵一铭;马占良;尚彦超 - 吉林华微电子股份有限公司
  • 2022-09-02 - 2022-11-08 - G03F1/64
  • 本申请提供一种光刻版框架及光刻版框架制造方法,涉及半导体制造技术领域。本发明基于不同光刻机的不同视场,引入子框架单元概念,根据各个不同的光刻机视场分别在横向和纵向可排布的芯粒数量的最大公约数确定最小框架单元的尺寸,再将子框架单元通过在横向和纵向平移复制的方式得到最终的光刻版框架。如此,可以在不牺牲光刻机使用的最大曝光视场的前提下,通过光刻版框架的优化,实现高自由度的不同视场光刻机之间的匹配使用。不同视场光刻机匹配使用过程中不需要进行复杂的计算,按照各自的框架进行程序编辑即可,进而使得本申请的光刻版框架的实用性更强,可以跨多个曝光视场匹配使用光刻机,使得光刻机产能利用率能够得到有效的提升。
  • 光刻框架及其制造方法

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