[发明专利]一种雷芬那辛新中间体及其活性亲电砌块和雷芬那辛的新制备方法有效
| 申请号： | 202011586034.5 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112694434B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 倪晟;夏金强;林力波;马海杰;翁伟铭;朱明月;付勇;周亮;陈鸿翔;赵航;徐兵勇;姜维斌;屠芳芳;卜华荣;戴寿沣;汤丽玲 | 申请（专利权）人： | 浙江和泽医药科技股份有限公司;杭州和泽坤元药业有限公司 |
| 主分类号： | C07D211/62 | 分类号： | C07D211/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明提出一种雷芬那辛新中间体及其活性亲电砌块和雷芬那辛的新制备方法。所述雷芬那辛新中间体式(II)由N‑甲基乙醇胺依次与化合物式(III)、式(V)反应制得，利用此雷芬那辛新中间体式(II)经活化羟基后制备成为活性亲电砌块式（VI）再与化合物式(VII)进行反应可以得到雷芬那辛式(I)。本发明的合成路线反应步骤短、原料成本低，反应操作简便、条件温和，转化率、选择性高，后处理方便，更适合工业化生产。 |
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| 搜索关键词： | 一种 中间体 及其 活性 砌块 制备 方法 | ||
【主权项】：
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