[发明专利]快恢复二极管及其制作方法在审
| 申请号： | 202011471302.9 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112687749A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏飞;覃荣震;王梦洁;朱利恒;丁杰 | 申请（专利权）人： | 株洲中车时代半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/868 | 分类号： | H01L29/868;H01L29/06;H01L21/329 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;金淼 |
| 地址： | 412001 湖南省株洲市石峰*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种快恢复二极管及其制作方法，属于半导体器件技术领域。本申请提供了一种快恢复二极管，包括第一导电类型的衬底；第二导电类型的阳极区，位于衬底上方；其中，阳极区内嵌设有第一导电类型的掺杂区；位于阳极区上方的阳极金属层；位于衬底下方的第一导电类型的阴极区；以及，位于阴极区下方的阴极金属层由于在第二导电类型的阳极区内部引入第一导电类型的掺杂区，因此，不影响阳极区表面与金属之间的接触，在快恢复二极管导通时第一导电类型的掺杂区能够抑制阳极区的空穴注入效率；在快恢复二极管关断时第一导电类型的掺杂区能够产生电子，从而快速复合体区的空穴，进而起到降低器件关断损耗的目的，提高了器件性能。 | ||
| 搜索关键词： | 恢复 二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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