[发明专利]三维半导体器件在审

专利信息
申请号: 202010359712.8 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN112242404A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 吴承河;姜泌圭;金国桓;金元洪;佐佐木雄一朗;李相遇;林圣根;河龙湖;玄尚镇 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11573 分类号: H01L27/11573;H01L27/11582;H01L25/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种三维半导体器件包括:下衬底;设置在下衬底上的多个下晶体管;设置在下晶体管上的上衬底;设置在下晶体管与上衬底之间的多个下导电线路;以及设置在上衬底上的多个上晶体管。至少一个下晶体管连接到相应的下导电线路。每一个上晶体管包括:设置在上衬底上的上栅电极;在上栅电极的第一侧设置在上衬底中的第一上源/漏极图案;以及在上栅电极的相对的第二侧设置在上衬底中的第二上源/漏极图案。上栅电极包括硅锗(SiGe)。
搜索关键词: 三维 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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