[发明专利]三维半导体器件在审
申请号: | 202010359712.8 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN112242404A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 吴承河;姜泌圭;金国桓;金元洪;佐佐木雄一朗;李相遇;林圣根;河龙湖;玄尚镇 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11573 | 分类号: | H01L27/11573;H01L27/11582;H01L25/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种三维半导体器件包括:下衬底;设置在下衬底上的多个下晶体管;设置在下晶体管上的上衬底;设置在下晶体管与上衬底之间的多个下导电线路;以及设置在上衬底上的多个上晶体管。至少一个下晶体管连接到相应的下导电线路。每一个上晶体管包括:设置在上衬底上的上栅电极;在上栅电极的第一侧设置在上衬底中的第一上源/漏极图案;以及在上栅电极的相对的第二侧设置在上衬底中的第二上源/漏极图案。上栅电极包括硅锗(SiGe)。 | ||
搜索关键词: | 三维 半导体器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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