[发明专利]用于提供具有纳米线加热器的传感器的方法在审

专利信息
申请号: 201910699279.X 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN110779957A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 张华伦;黄睿政;陈东村;黄毓杰;萧怡馨 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00;H05B3/12
代理公司: 32243 南京正联知识产权代理有限公司 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明可提供一种具有纳米线加热器的传感器的方法。传感器可在包括背面层和内埋氧化物(BOX)层的绝缘层上硅(SOI)晶片的器件层中图案化,且纳米线加热器可在邻近传感器的绝缘层上硅晶片的器件层中图案化。接下来,可形成用于绝缘层上硅晶片的金属布线,且可在绝缘层上硅晶片的金属布线侧上设置接合载体晶片。然后可研磨背面层,直到内埋氧化物层暴露。器件层可通过内埋氧化物层图案化以暴露传感器和纳米线加热器。介电质可沉积以覆盖以下中的至少一个:传感器;和纳米线加热器。
搜索关键词: 加热器 绝缘层上硅 纳米线 晶片 器件层 传感器 内埋 金属布线 背面层 图案化 氧化物层图案 暴露传感器 邻近传感器 氧化物层 载体晶片 接合 研磨 介电质 氧化物 沉积 暴露 覆盖
【主权项】:
1.一种用于提供具有纳米线加热器的传感器的方法,其特征在于,包括:/n将包含背面层和内埋氧化物(BOX)层的绝缘层上硅(SOI)晶片的器件层中的所述传感器图案化;/n将邻近于所述传感器的所述绝缘层上硅晶片的所述器件层中的所述纳米线加热器图案化;/n形成用于所述绝缘层上硅晶片的金属布线;/n在所述绝缘层上硅晶片的所述金属布线侧上提供接合载体晶片;/n研磨所述背面层,直到所述内埋氧化物层暴露;/n通过所述内埋氧化物层来图案化所述器件层以暴露所述传感器和所述纳米线加热器;以及/n沉积介电质以覆盖以下中的至少一个:所述传感器;以及所述纳米线加热器。/n
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  • 皮尔·J·J·维德内斯;科林·道顿 - 纽奥拉生物科技公司
  • 2018-04-04 - 2020-01-17 - G01N27/00
  • 本公开提供一种三维微电极,其包括导电的伸长主体,该伸长主体具有:能够电连接至记录系统的基座;与基座相对的尖端,其被构造用以与可激发细胞网络或其中的细胞建立电连通;以及位于基座与尖端之间的伸长部分。伸长部分被覆盖有至少一层电绝缘体涂层,该电绝缘体涂层从基座延伸到尖端的附近。本公开还提供一种微电极阵列,其包括与至少一个记录系统电连接的至少两个三维微电极。本公开还提供一种制作和使用三维微电极以及包括三维微电极的阵列的方法。
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