专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]工件保持装置、对准装置以及成膜装置-CN202310388835.8在审
  • 铃木健太郎 - 佳能特机株式会社
  • 2023-04-12 - 2023-10-27 - C23C14/04
  • 本发明涉及工件保持装置、对准装置以及成膜装置。在支承工件的结构中,变形更少。工件保持装置具备:第一支承单元,所述第一支承单元对工件进行支承;以及第二支承单元,所述第二支承单元悬挂所述第一支承单元而进行支承,其中,所述第一支承单元具备:沿第一方向延伸设置的第一基座部件及第二基座部件;沿着所述第一方向设置于各基座部件,并支承所述工件的周缘部的多个第一支承部及第二支承部;以及将所述第一基座部件和第二基座部件连接的连接部件。所述连接部件在与在所述第一方向上位于端部的支承部相比靠近所述第二支承单元的支承轴的部位与所述基座部件连接。
  • 工件保持装置对准以及
  • [发明专利]一种掩膜版结构及OLED器件-CN202210907731.9有效
  • 王树朋;朱映光;张国辉;胡永岚 - 固安翌光科技有限公司
  • 2022-07-29 - 2023-10-27 - C23C14/04
  • 本申请公开了一种掩膜版结构及OLED器件,包括:主掩膜版,所述主掩膜版上设有设计图形,用做蒸镀掩膜;至少一层辅掩膜版,位于所述主掩膜版靠近蒸镀源的一侧,所述辅掩膜版上设有过滤孔。本申请中辅掩膜版可以把蒸镀腔室内的异物过滤掉,避免蒸镀腔室内的异物附着在OLED器件上,造成器件短路,由于辅掩膜版靠近主掩膜版设置,因此被蒸镀的材料在从蒸发源到主掩膜版的上行过程中聚集而形成的异物也可被有效阻拦,从而显著地降低了OLED器件的短路发生,提高了产品的良率。
  • 一种掩膜版结构oled器件
  • [发明专利]掩膜版框架-CN201711147134.6有效
  • 孙朴;林治明 - 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
  • 2017-11-17 - 2023-10-27 - C23C14/04
  • 本发明公开一种掩膜版框架,其包括依次连接的多条边框,多条边框闭合形成开口。其中,边框底部开设有开槽,开槽的延伸方向与边框的延伸方向相同,且开槽的两端未延伸至边框的两端部。本发明提出的掩膜版框架,通过在边框的底部开设开槽的结构设计,在蒸镀过程中,能够改善掩膜版框架的边框中部下垂的问题,保证掩膜版框架各位置与基板之间良好的贴合效果,避免混色问题的产生。同时,由于掩膜版框架的边框部分挖去而形成开槽,使得掩膜版框架的重量减小,有利于满足元件轻量化的要求。
  • 掩膜版框架
  • [发明专利]蒸镀掩模中间体-CN202310870828.1在审
  • 新纳干大;寺田玲尔;武田宪太;小林昭彦 - 凸版印刷株式会社
  • 2020-03-13 - 2023-10-24 - C23C14/04
  • 本发明涉及一种蒸镀掩模中间体,具备:铁‑镍系合金制的多个掩模板,包括多个掩模孔,具有第1面以及第2面,该第2面是与上述第1面相反侧的面,用于与蒸镀对象接触;掩模框架,具有比上述掩模板高的刚性,且具有多个开口,该掩模框架以各掩模板覆盖1个上述开口的方式与上述掩模板的上述第1面接合;多个树脂层,各一个树脂层与上述掩模板的上述第2面接合;以及多个玻璃基板,各一个玻璃基板与各树脂层接合,在25℃以上100℃以下的温度范围内,各玻璃基板的线膨胀系数小于层叠于该玻璃基板的上述掩模板的线膨胀系数,且各玻璃基板的线膨胀系数与层叠于该玻璃基板的上述掩模板的线膨胀系数之差的绝对值为1.3×10‑6/℃以下。
  • 蒸镀掩模中间体
  • [发明专利]一种彩虹镜片及其制备方法-CN202110991695.4有效
  • 罗红敏;杨敏男;吴富章 - 厦门美澜光电科技有限公司
  • 2021-08-27 - 2023-10-24 - C23C14/04
  • 本发明涉及一种彩虹镜片及其制备方法,制备方法包括:S1、得到洁净基片;S2、将洁净基片摆放在治具上,对所述洁净基片的外表面的下侧通过治具进行遮挡,使得所述洁净基片的外表面的上侧暴露出来,作为成膜面,成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例为x,40%≤x≤70%,之后进行镀膜;S3、将所述镀好膜的基片摆放在治具上,对所述镀好膜的基片的外表面的上侧通过治具进行遮挡,使得所述镀好膜的基片的外表面的下侧暴露出来,作为成膜面,成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例为y,40%≤y≤70%,并且110%≤(x+y)≤140%,之后进行镀膜。本发明制作的镜片可以满足上下外表面多种颜色两两组合,中间形成非常漂亮又时尚的彩虹色带,且不干扰视线,具有较好的市场开发前景。
  • 一种彩虹镜片及其制备方法
  • [发明专利]一种金属掩膜条张网固定结构及张网方法-CN202310630671.5在审
  • 沈志昇;骆丽兵 - 福建华佳彩有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-10-20 - C23C14/04
  • 本发明提供一种金属掩膜条张网固定结构及张网方法,所述结构包括有金属掩膜板,金属掩膜板顶部开设有安装槽,安装槽内设置有金属块、磁吸装置、用于控制磁吸装置的电流模块、用于对磁吸装置和电流模块提供电源的电源装置以及用于与张网设备进行连接并控制电流模块状态的无线连接装置,金属块的顶部与金属掩膜板的顶部平齐,磁吸装置设置在金属块的下方或侧面,磁吸装置产生磁力,使金属掩膜条与金属块紧密贴合,从而解决了金属掩膜条受力不均匀导致的褶皱问题,提高了金属掩膜条张网良率以及张网效率,降低混色风险,改善混色现象。
  • 一种金属掩膜条张网固定结构方法
  • [发明专利]一种金属掩膜条张网固定结构及张网方法-CN202310630686.1在审
  • 沈志昇;骆丽兵 - 福建华佳彩有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-10-20 - C23C14/04
  • 本发明提供一种金属掩膜条张网固定结构及张网方法,所述结构包括有金属掩膜板,金属掩膜板顶部开设有安装槽,安装槽内设置有焊接块、磁吸装置、用于控制磁吸装置的电流模块、用于对磁吸装置和电流模块提供电源的电源装置以及用于与张网设备进行连接并控制电流模块状态的无线连接装置,焊接块的顶部与金属掩膜板的顶部平齐,磁吸装置设置在焊接块的下方或侧面,磁吸装置产生磁力,使金属掩膜条与焊接块紧密贴合,从而解决了金属掩膜条受力不均匀导致的褶皱问题,提高了金属掩膜条焊接良率以及张网效率,降低混色风险,改善混色现象。
  • 一种金属掩膜条张网固定结构方法
  • [发明专利]一种金属掩膜版的加工方法-CN202111037978.1有效
  • 钱超;杨柯;吴建 - 常州高光半导体材料有限公司
  • 2021-09-06 - 2023-10-20 - C23C14/04
  • 本发明提出的一种金属掩膜版的加工方法,涉及蒸镀掩膜领域。该加工方法在金属片上分三步依次蚀刻加工出第一凹槽、两个第二凹槽和第三凹槽;控制第一凹槽的宽度为d1、深度为h1;控制第二凹槽的宽度为d2′、深度为h2,两个第二凹槽相远端的距离为d2;第三凹槽蚀刻至与两个第二凹槽上下贯通形成一个呈整体的贯通孔,该贯通孔中,以所述的第三凹槽的侧壁与第二凹槽的侧壁的交界处为分界,形成宽度为d2、深度为h2′的上部孔体和宽度为d3、深度为h3的下部孔体。利用本发明的加工方法,能够有效控制所述的上部孔体和下部孔体的尺寸精度和一致性,大幅度提高了金属掩膜版的产出良率和一致性。
  • 一种金属掩膜版加工方法
  • [发明专利]金属掩模及其制造方法-CN202310326195.8在审
  • 安在祐二 - 大日本印刷株式会社
  • 2023-03-30 - 2023-10-17 - C23C14/04
  • 本发明提供金属掩模及其制造方法。金属掩模具有第1面和第2面,第1面具有贯通孔、第1顶部以及第2顶部,贯通孔具有第1‑6贯通孔,第1‑6贯通孔具有第1‑6短轴和第1‑6长轴,第1长轴与第2长轴平行且在与其交叉的方向上位于第2长轴的旁边,第1短轴与第5短轴平行且在与其平行的方向上位于第5短轴的旁边,第3长轴与第4长轴平行且在与第1长轴平行的方向上位于第4长轴的旁边,第3短轴与第6短轴平行且在与第1长轴交叉的方向上位于第6短轴的旁边,第1顶部位于第1、2长轴之间且位于第3、4长轴之间,第2顶部位于第1、5短轴之间且位于第3、6短轴之间,第2顶部与第1顶部的顶端部面积之比为0.65以下。
  • 金属及其制造方法
  • [发明专利]金属掩模及其制造方法-CN202310331904.1在审
  • 安在祐二 - 大日本印刷株式会社
  • 2023-03-30 - 2023-10-17 - C23C14/04
  • 本发明的目的在于提供金属掩模及其制造方法,在边界部分不易发生变形和断裂。一种金属掩模,其具有有效区域、周围区域以及虚设区域,其中,所述有效区域具备第1贯通孔和第1顶部,所述第1顶部具有高度H1,所述周围区域位于所述有效区域的周围,所述虚设区域位于所述有效区域与所述周围区域之间,所述虚设区域具备第2顶部,所述第2顶部具有高度H2,所述高度H2比所述高度H1高。
  • 金属及其制造方法

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