[发明专利]磁盘盘片及其制作方法以及磁性记忆体存储器件有效
| 申请号： | 201910265367.9 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110111820B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 卓恩宗;林春燕 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G11C11/15 | 分类号： | G11C11/15 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种磁盘盘片，所述磁盘盘片包括：衬底层；磁性层，所述磁性层位于所述衬底层之上；保护层，所述保护层位于所述磁性层上；其中，所述磁性层包括第一铁铂合金薄膜；所述衬底层为晶体，以使所述衬底层诱导所述第一铁铂合金薄膜形成有序磁性层。本申请还提供一种磁盘盘片制作方法以及磁性记忆体存储器件。基于本申请采用铁铂合金材料作为磁性层，铁铂合金的磁各向异性能较高，能够满足各晶粒尺寸对磁各向异性能的要求，且基于衬底层诱导磁性层形成有序相磁性层，该磁记录介质的热稳定性高。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 盘片 及其 制作方法 以及 磁性 记忆体 存储 器件 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘盘片，其特征在于，所述磁盘盘片包括：衬底层；磁性层，所述磁性层位于所述衬底层之上；保护层，所述保护层位于所述磁性层之上；其中，所述磁性层包括第一铁铂合金薄膜；所述衬底层为晶体，以使所述衬底层诱导所述第一铁铂合金薄膜形成有序磁性层。
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