[发明专利]掩膜板组件、检测膜厚的设备及方法有效
申请号: | 201710232406.6 | 申请日: | 2017-04-11 |
公开(公告)号: | CN107034436B | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 孙中元;薛金祥 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;G01B11/06 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种掩膜板组件,所述掩膜板组件包括掩膜板,所述掩膜板包括用于朝向蒸发源的第一表面和用于朝向待沉积件的第二表面,所述掩膜板上形成有图形通孔,其特征在于,所述掩膜板组件还包括可拆卸地设置在所述掩膜板上的测试片,所述测试片避开所述图形通孔,所述测试片设置为当利用所述掩膜板组件进行蒸镀时,蒸镀材料能够沉积在所述测试片上。本发明还提供检测掩膜板组件上蒸镀材料的膜厚的设备及方法。利用所述设备可以方便地检测出掩膜板组件上沉积的蒸镀材料的膜厚,从而可以有效防止沉积在掩膜板组件上的蒸镀材料从掩膜板组件上剥落而对工艺腔室造成污染。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 蒸镀材料 测试片 沉积 膜厚 通孔 第二表面 第一表面 工艺腔室 组件包括 沉积件 检测膜 可拆卸 蒸发源 检测 剥落 蒸镀 避开 污染 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板组件,所述掩膜板组件包括掩膜板,所述掩膜板包括用于朝向蒸发源的第一表面和用于朝向待沉积件的第二表面,所述掩膜板上形成有图形通孔,其特征在于,所述掩膜板组件还包括可拆卸地设置在所述掩膜板上的测试片,所述测试片避开所述图形通孔,所述测试片设置为当利用所述掩膜板组件进行蒸镀时,蒸镀材料能够沉积在所述测试片上;所述掩膜板组件包括容纳盒,所述容纳盒包括容纳部,所述容纳部上形成有凹槽,所述测试片设置在凹槽中,所述掩膜板上设置有容纳槽,且所述容纳槽的出口形成在所述掩膜板的侧面上,所述第一表面上形成有与所述容纳槽连通的测试通孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710232406.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类