[实用新型]晶片真空吸附模板有效
| 申请号： | 201620059674.3 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN205342779U | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 夏秋良 | 申请（专利权）人： | 苏州新美光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 曹祖良;张涛 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种晶片固定装置，尤其是一种晶片真空吸附模板，属于晶片抛光的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案，所述晶片真空吸附模板，包括外圈具有保护边沿的模板壳体以及位于所述模板壳体内的吸附衬垫；还包括用于固定晶片且与模板壳体适配的晶片固定体，所述晶片固定体能与吸附衬垫真空吸附连接，且晶片固定体与吸附衬垫真空吸附连接后，与所述晶片固定体连接的晶片位于保护边沿的保护范围内。本实用新型结构紧凑，与现有工艺相兼容，能实现多种晶片的固定，缩短加工周期，降低加工成本，适应范围广，安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 真空 吸附 模板 | ||
【主权项】：
一种晶片真空吸附模板，包括外圈具有保护边沿（6）的模板壳体（5）以及位于所述模板壳体（5）内的吸附衬垫（7）；其特征是：还包括用于固定晶片（4）且与模板壳体（5）适配的晶片固定体，所述晶片固定体能与吸附衬垫（7）真空吸附连接，且晶片固定体与吸附衬垫（7）真空吸附连接后，与所述晶片固定体连接的晶片（4）位于保护边沿（6）的保护范围内。
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- 本实用新型提供了一种内部可清洗的研磨头结构，属于研磨设备清洗的技术领域。一种内部可清洗的研磨头结构包括底部嵌设有研磨头隔膜的研磨头主体，设置于研磨头主体顶部的研磨头主轴，同时，在研磨头主体和研磨头主轴中内置有辅助清洗装置，在研磨头主体的下方设置有研磨清洗装置；本实用新型通过将辅助清洗装置的内置通道沿研磨头主体的容纳槽和研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置，实现对研磨头隔膜和研磨头主体之间间隙的彻底清洗，同时将辅助清洗装置连接在供水装置和供气装置上实现水气切换，不仅提高了适应性，还使清洗更彻底，并且结合研磨清洗装置能实现对研磨头内外部的彻底清洗，防止残留的研磨衍生物对下次研磨造成划伤，提高产品质量。
- 一种具有散热结构的游星轮-201721283067.6
- 陆海锋 - 德清晶生光电科技有限公司
- 2017-09-30 - 2018-11-23 - B24B37/30
- 本实用新型涉及一种具有散热结构的游星轮，所述游星轮上开设有打磨孔，所述游星轮上还开设有纵向通孔，所述游星轮内部开设有横向通孔，所述纵向通孔与打磨孔间通过横向通孔连通。本实用新型提供的具有散热结构的游星轮，该游星轮能有效利用周围环境中的空气带走研磨过程中所产生的热量，并且游星轮具有较强的结构能够满足研磨工作需要。
- 一种抛光游轮-201820536559.X
- 孟为民 - 菲特晶（南京）电子有限公司
- 2018-04-16 - 2018-11-16 - B24B37/30
- 本实用新型提供一种抛光游轮，涉及晶片的加工装置技术领域，包括本体，所述本体中央设有安装孔，所述本体的边缘设有传动齿，所述安装孔的外部设有沿圆周方向均匀排布的游轮孔，所述游轮孔为矩形且四角处为圆角，所述圆角包括中心半圆弧和与所述中心半圆弧两端相连的第一侧弧和第二侧弧，所述中心半圆弧与所述第一侧弧、所述第二侧弧分别相切，所述安装孔与所述游轮孔间设有沿圆周方向均匀排布的第一抛光孔，所述游轮孔与所述传动齿间设有沿圆周方向均匀排布的第二抛光孔。本实用新型可减少晶片碎片的产生，抛光液渗透性好，晶片的抛光效果好。
- 一种短插芯研磨制具-201820166075.0
- 郑晨;陈尚德;邵玮炜;何贤干;何文娟;范晓成;宋江涛 - 南京智屯达科技有限公司
- 2018-01-31 - 2018-10-30 - B24B37/30
- 一种短插芯研磨制具，包括固定平板和短插芯固定装置；所述短插芯固定装置整体呈块状，所述短插芯固定装置包括延伸弹臂、短插芯孔和固定螺母，所述延伸弹臂的一端配置于所述短插芯固定装置上，所述延伸弹臂和短插芯固定装置的侧壁之间为裕量缝隙，所述短插芯孔配置于所述裕量缝隙上，所述延伸弹臂的另一端通过所述固定螺母配置于所述短插芯固定装置的侧壁上，所述固定螺母用于通过减小所述裕量缝隙锁紧所述短插芯孔；若干所述短插芯固定装置通过固定装置配置于所述固定平板上。
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