专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]薄膜制备装置以及降低薄膜制备中薄膜不良的方法-CN202211299020.4在审
  • 王晨;姚培培;夏秋良 - 新美光(苏州)半导体科技有限公司
  • 2022-10-24 - 2022-11-18 - C23C14/56
  • 本申请涉及薄膜制备领域,涉及一种薄膜制备装置以及降低薄膜制备中薄膜不良的方法。装置包括腔室、承载部、气体保护部。承载部具有开口部,待镀工件至少部分表面裸露于开口部;气体保护部具有气体通道,气体通道具有若干进气孔和气体出口;承载部的一侧用于放置镀料,以使气相的镀料扩散至待镀工件的裸露表面;气体出口位于所述承载部与所述镀料之间,使得气体从气体出口流出至待镀工件的裸露表面,且在裸露表面形成流动的气体保护层。在待镀工件的底面形成流动的气体保护层,能够防止打开真空阀提高腔室压力和打开腔室门时,外界气流的进入使得腔室内壁等处存在的颗粒物质被吹气并进入到待镀工件的表面。
  • 薄膜制备装置以及降低不良方法
  • [发明专利]用于半导体晶棒生长的导流筒、生长装置及生长方法-CN202110047576.3有效
  • 夏秋良 - 新美光(苏州)半导体科技有限公司
  • 2021-01-14 - 2022-02-01 - C30B15/00
  • 本发明提供了一种用于半导体晶棒生长的导流筒、生长装置及生长方法,涉及半导体材料制备技术领域。该导流筒由导流筒本体以及设置在所述导流筒本体外表面的硅涂层构成,其中,主要由高纯硅材料制成的硅涂层表面粗糙度较现有的碳化硅涂层有明显降低,表面平整致密,对于光热反射率较高,可减少导流筒对于光热的吸收,降低光热损失;同时硅的导热系数明显低于碳化硅的导热系数,故在导流筒本体表面设置硅涂层,可有效减少在半导体晶棒拉制过程的热量损失,有利于热场内温度的保持,同时降低半导体晶棒生长功率,达到了节能降耗的目的,可大幅度降低单晶拉制的生产成本。本发明还提供一种半导体晶棒生长装置,包括上述导流筒。
  • 用于半导体生长导流装置方法
  • [实用新型]单晶炉坩埚吊装工具-CN202120077260.4有效
  • 夏秋良;刘坤 - 新美光(苏州)半导体科技有限公司
  • 2021-01-12 - 2021-10-22 - B66C1/22
  • 本实用新型提供了一种单晶炉坩埚吊装工具,涉及半导体长晶的技术领域,该单晶炉坩埚吊装工具包括基座和安装于基座的多个吊杆件;吊杆件远离基座的一端设有支撑部;多个吊杆件之间围成用于容纳坩埚的空间,支撑部能够相对基座转动,以使多个支撑部转动至坩埚的底面,并支撑坩埚的底面。通过该单晶炉坩埚吊装工具,解决了现有技术中存在的操作者采用人工手动的方式使三爪夹爪夹取锅架,该人工操作存在人工劳动强度大,效率较低的技术问题。
  • 单晶炉坩埚吊装工具
  • [发明专利]长晶炉内监测方法及长晶炉-CN201910336795.6有效
  • 夏秋良;范雪峰 - 苏州新美光纳米科技有限公司
  • 2019-04-25 - 2020-06-09 - C30B29/06
  • 本发明提供一种长晶炉内监测方法及长晶炉,该方法包括:接收影像设备在各窗口第一图像数据、第二图像数据和第三图像数据;第一图像数据为单晶硅棒的图像数据;第二图像数据为熔融多晶硅的图像数据;第三图像数据为坩埚的图像数据;接收尺寸测量设备在各窗口采集的尺寸数据;尺寸数据包括:单晶硅棒的直径数据;接收位移采集设备采集的拉晶线的位移数据;接收环境监测设备在各窗口采集的环境信息;根据第一图像数据、单晶硅棒的直径数据和位移数据生成单晶硅棒的三维图像;按照三维图像上的各坐标点与环境信息的映射关系,存放各坐标点对应的环境信息。可通过三维立体可视图像观测长晶炉内各个方位的情况,实现全面监测。
  • 长晶炉内监测方法长晶炉

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