[发明专利]发光二极管有效

专利信息
申请号: 201510136480.9 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN106159054B 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 陈誉云;林永鑫;李芳仪;潘锡明 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40;H01L33/62
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示了一种发光二极管,包含:堆栈半导体层结构,包含第一型半导体层、主动层与第二型半导体层,主动层设置于第一型半导体层与第二型半导体层之间;以及第一电极及第二电极,设置于堆栈半导体层结构的同一侧,且第一电极设置于第一型半导体层上,第二电极设置于第二型半导体层上;其中,第一电极包含单一反射金属层与焊垫层,焊垫层设置于单一反射金属层上,单一反射金属层的厚度大于主动层,且单一反射金属层的下端低于主动层的下端,而单一反射金属层的上端高于主动层的上端,使得从主动层所发出的至少部分光线被单一反射金属层反射。本发明的发光二极管,制程简单,降低了成本,且增强了整体出光效率和亮度,还可维持电极的电性表现。
搜索关键词: 发光二极管
【主权项】:
1.一种发光二极管,其特征在于,包含:基板;设置于所述基板的下方的反射层;设置于所述基板上的堆栈半导体层结构,包含第一型半导体层、主动层与第二型半导体层,所述主动层设置于所述第一型半导体层与所述第二型半导体层之间;以及第一电极及第二电极,设置于所述堆栈半导体层结构的同一侧,且所述第一电极设置于所述第一型半导体层上,所述第二电极设置于所述第二型半导体层上;其中,所述第一电极包含单一反射金属层与焊垫层,所述焊垫层设置于所述单一反射金属层上,所述单一反射金属层的厚度大于所述主动层,且所述单一反射金属层的下端低于所述主动层的下端,而所述单一反射金属层的上端高于所述主动层的上端,使得从所述主动层所发出的至少部分光线被所述单一反射金属层反射;其中,所述单一反射金属层的材料为铝或铝合金,所述焊垫层的材料包含金。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510136480.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种具有高反射P电极的红黄光发光二极管芯片-201910822392.2
  • 汤英文 - 闽南师范大学
  • 2019-09-02 - 2019-11-12 - H01L33/40
  • 本发明属于发光二极管技术领域,公开了一种具有高反射P电极的红黄光发光二极管芯片,设置有P面;P面先生长一层SiO2或者ITO,P面通过光刻腐蚀出SiO2或ITO的孔,孔里形成P面欧姆接触电极;在SiO2或ITO上形成微米的反射电极,反射电极的起粘结层作用与SiO2连接,反射电极与SiO2或ITO一起组成芯片的全反射镜;全反射镜与导电基板键合在一起,在发光二极管芯片N层层上端设置有N电极。本发明能使Ag与SiO2或ITO紧密粘在一起,使Ag做反射电极,降低了芯片制造成本,提高了对红黄光的反射率。
  • 半导体发光装置-201910345169.3
  • 金起范;尹柱宪 - 三星电子株式会社
  • 2019-04-26 - 2019-11-05 - H01L33/40
  • 一种半导体发光装置包括:发光结构,其具有第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;透明电极层,其位于所述第二导电类型半导体层上;以及反射电极结构,其位于所述透明电极层上。所述反射电极结构包括:透光绝缘层,其位于所述透明电极层上且具有绝缘图案,所述绝缘图案的侧面的一部分是敞开的,并且所述透明电极层的接触区由所述绝缘图案之间的区限定;气隙,其位于所述透明电极层和所述绝缘图案之间,所述气隙在所述绝缘图案的侧面的敞开部分中延伸;以及反射电极层,其位于所述绝缘图案上以覆盖所述绝缘图案的敞开部分,所述反射电极层连接至所述透明电极层的接触区。
  • 一种具有高反射区和高导电区电极的发光二极管芯片-201711158981.2
  • 翁启伟;宋彬;吕奇孟;汪洋 - 厦门乾照光电股份有限公司
  • 2017-11-20 - 2019-11-05 - H01L33/40
  • 本发明提供了一种具有高反射区和高导电区电极的发光二极管芯片,反射电极层的接触层由第一接触层和覆盖第一接触层的第二接触层组成,第一接触层包括多个实体区和相邻实体区之间的截断区,使得反射电极层对应实体区的区域的导电性高于对应截断区的区域的导电性为高导电区,且反射电极层对应截断区的区域的反射率高于对应实体区的区域的反射率的为高反射区,进而在保证反射电极层兼顾光提取和电流扩散的能力的同时,进一步提高光提取和电流扩散的能力。
  • 光电元件及其制造方法-201910659753.6
  • 王佳琨;陈昭兴 - 晶元光电股份有限公司
  • 2014-01-10 - 2019-10-18 - H01L33/40
  • 本发明公开一光电元件,其包含:一半导体叠层,其中半导体叠层包含一第一半导体层,一发光层位于第一半导体层之上,及一第二半导体层位于发光层之上;一第一电极位于第二半导体层之上,其中第一电极还包含一反射层;以及一绝缘层形成于第二半导体层之上,且第一电极与绝缘层具有一间距。
  • 氮化物半导体发光元件-201910241913.5
  • 大塚匠 - 日亚化学工业株式会社
  • 2019-03-27 - 2019-10-11 - H01L33/40
  • 本发明提供一种在深紫外的波长范围内的n侧接触层与n电极的欧姆接触良好的氮化物半导体发光元件。一种氮化物半导体发光元件,其是发出深紫外的波长范围的光的氮化物半导体发光元件,其具备:含有Al、Ga和N的n侧接触层;以及设置在该接触层上的n电极,上述n电极自上述n侧接触层侧起依次包含:作为Ti层的第一层、作为含有Si的Al合金层的第二层、以及包含Ta层和W层中的1种以上的第三层。
  • 一种LED芯片-201821420088.2
  • 崔永进;庄家铭 - 佛山市国星半导体技术有限公司
  • 2018-08-30 - 2019-09-20 - H01L33/40
  • 本实用新型公开了一种LED芯片,包括衬底、外延层、N型电极和P型电极,所述P型电极包括P焊盘和P电流扩展条,所述P焊盘包括Cr层、Al层、Ti层、Pt层和Au层,所述P电流扩展条包括Al层、Ti层、Pt层和Au层。本实用新型通过改变P电流扩展条的结构,使得P电流扩展条可以对有源层发出的光进行反射,提高芯片的出光效率。
  • 半导体发光装置-201910155558.X
  • 尹柱宪;吉正焕;金台勋;宋和龙;沈载仁 - 三星电子株式会社
  • 2019-03-01 - 2019-09-10 - H01L33/40
  • 一种半导体发光装置,包括:发光结构,其包括第一导电类型的半导体层、有源层和第二导电类型的半导体层;第二导电类型的半导体层上的透明电极层,该透明电极层与第二导电类型的半导体层的边缘间隔开;发光结构上的覆盖透明电极层的第一绝缘层,第一绝缘层包括连接至透明电极层的多个孔;以及反射电极层,其在第一绝缘层上并且通过所述多个孔连接至透明电极层。
  • 一种发光二极管芯片及其制作方法-201711131498.5
  • 兰叶;顾小云;汪洋;王江波 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2017-11-15 - 2019-08-02 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。芯片包括衬底、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层、P型电极和N型电极,N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层依次层叠在衬底上,P型半导体层上设有延伸至N型半导体层的凹槽,N型电极设置在凹槽内的N型半导体层上,P型电极设置在P型半导体层上;P型电极包括焊点和电极线,电极线的一端与所述焊点连接,电极线的另一端沿远离焊点的方向延伸;电极线包括依次层叠的粘附层、反光层、复合层和打线层,反光层和打线层为Al膜,复合层包括依次层叠的第一过渡层、导电层和第二过渡层,导电层为Cu膜,第一过渡层和第二过渡层为TiW膜。本发明可解决电迁移。
  • 一种垂直结构LED芯片、反射电极-201821718205.3
  • 陈芳;王光绪;刘军林;李树强;吴小明;杨梦琳;郭醒;江风益 - 南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
  • 2018-10-23 - 2019-07-26 - H01L33/40
  • 本实用新型公开了一种垂直结构LED芯片,所述芯片从下至上依次包括:基板、键合金属层、第一电极、发光层、粗化层、第二电极接触层、第二电极。本实用新型还公开了该LED芯片的反射电极,反射电极由第一电极和第二电极共同构成,第一电极依次包括第一电极接触层、低折射率介质层和高光反射金属层,低折射率介质层和高光反射金属层之间具有二者复合的特定排列的导电小孔,第一电极还包括可减少第二电极对其正下方区域发光遮挡的区域。本实用新型有效减少了第二电极正下方区域的电流注入,减少第二电极对正下方区域发光的遮挡,且该反射电极结构可以同时兼顾高光反射率和低欧姆接触,最终提高了AlGaInP薄膜LED芯片的光提取效率。
  • QLED、QLED显示屏及制备方法-201510649522.9
  • 陈亚文;闫晓林 - TCL集团股份有限公司
  • 2015-10-09 - 2019-07-19 - H01L33/40
  • 本发明适用于量子点发光二极管领域,提供了一种QLED、QLED显示屏及制备方法。所述QLED包括依次层叠设置的阳极、量子点发光层和阴极,所述阳极的材料为电导率>0.1S的聚合物,所述阴极的材料为微米或纳米级导电材料胶浆。所述QLED包括以下步骤:分别提供所述阳极、量子点发光层和阴极的材料溶液:聚合物溶液、量子点溶液和微米或纳米级导电材料胶浆;沉积所述聚合物溶液形成阳极;在所述阳极上沉积所述量子点溶液形成量子点发光层;在所述量子点发光层上沉积所述微米或纳米级导电材料胶浆形成阴极。所述QLED显示屏包括上述QLED,所述QLED显示屏的制备方法包括采用上述QLED的制备方法在子像素内制备QLED。
  • 发光二极管及其制造方法和发光器件及其制造方法-201510502099.X
  • 朴准奭;金腾官;申悍 - LG伊诺特有限公司
  • 2009-07-21 - 2019-06-25 - H01L33/40
  • 本发明提供了发光二极管及其制造方法和发光器件及其制造方法。该发光器件包括:电路板,其形成有第一导电图案和与所述第一导电图案电隔离的第二导电图案;发光二极管,其电连接到电路板上的第一导电图案和第二导电图案;第一模制构件,第一模制构件包围所述发光二极管;以及第二模制构件,第二模制构件在所述第一模制构件上。发光二极管包括导电支撑衬底、在导电支撑衬底上的具有凸起中心部分的反射电极层、在反射电极层的外围部分上的保护层、在反射层和保护层上的第二导电半导体层、在第二导电半导体层上的有源层、在有源层上的第一导电半导体层和在第一导电半导体层上的第一电极层。
  • 一种散热型电子发光器-201711287284.7
  • 郭照南 - 湖南工程学院
  • 2017-12-07 - 2019-06-18 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种散热型电子发光器,包括框体和电极层,所述框体的底部设有散热板,所述散热板的底部嵌入安装有导热层,且散热板的内部设有填充槽,所述填充槽的外部包覆有一层保护层,所述散热板的上表面设有电路板,所述电极层通过锡膏安装在电路板上表面的中心位置,所述电极层的上表面焊接有芯片主体。本发明在电极层中夹装纳米结构,有助于电子空穴的注入平衡,从而提高发光效率,在芯片与散热板之间通过金属材质的导热棒连接,高温通过导热棒运动至低温处,从而实现密闭空间中热量的外散,延长芯片的使用寿命,散热板内部填充相变材质,能够在散热板温度保持不变的基础上持续向外扩散热量,保证发光器运行的稳定性。
  • 半导体发光装置及其制造方法-201610893212.6
  • 卢东宝;徐子涵 - 南茂科技股份有限公司
  • 2016-10-13 - 2019-06-14 - H01L33/40
  • 本发明提供一种半导体发光装置及其制造方法,其半导体发光装置,包括发光二极管芯片以及配置于发光二极管芯片上的电极,电极至少包括一银合金(Ag1‑xYx)电镀层,其中Y包含以任意权重百分比与Ag形成完全固溶的金属,且X在0.02至0.15之范围内。上述半导体发光装置的制造方法也被提出。本发明发光二极管芯片中的银合金电镀层有助于改善银合金电镀层与焊线之间的接触阻抗,进而提升发光二极管芯片的发光效率。
  • 一种具有高反射率电极的发光二极管芯片-201910055920.6
  • 顾伟 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2019-01-22 - 2019-05-31 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种具有高反射率电极的发光二极管芯片,包括衬底,和依次位于衬底上的第一半导体层、有源层、第二半导体层,以及分别与第一半导体层和第二半导体层电性相连接的第一电极层和第二电极层;其中:所述第一电极层或第二电极层至少一个为依次包括接触层、反射层和焊垫层的电极结构,且所述反射层为镁铝合金。本发明的优点在于:可解决现有发光二极管芯片反射电极材料的应用范围受限、成本过高或化学稳定性较差的问题,镁铝合金在光波长小于400纳米时,反射率比目前常见的银、金和铝都要更高,且镁铝合金的化学稳定性好、机械强度高,应用在发光二极管芯片的反射电极可提升发光二极管芯片的发光亮度和可靠性。
  • LED反射电极及其制作方法-201710104135.6
  • 何鹏 - 湘能华磊光电股份有限公司
  • 2017-02-24 - 2019-05-31 - H01L33/40
  • 本申请公开LED反射电极及其制作方法,方法依次包括:采用负性光刻胶做出电极图形并显影,负性光刻胶呈现倒梯形;保持蒸镀腔的压力为105torr至106torr,温度为10℃至30℃,依次蒸镀欧姆接触金属层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层;保持蒸镀腔的压力为105torr至106torr,将蒸镀腔的温度升高到100℃‑150℃,在隔离金属层上方蒸镀焊接金属层,负性光刻胶产生玻璃化,倒梯形状的负性光刻胶向欧姆接触层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层的方向回缩,使得焊接金属层将欧姆接触层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层包覆起来。如此,将反射金属层与外界隔绝,有利于提高反射电极的可靠性。
  • 具有P-型欧姆接触层的发光二极管外延结构-201610257517.8
  • 张紫辉;张勇辉;毕文刚;徐庶;耿翀 - 河北工业大学
  • 2016-04-22 - 2019-05-31 - H01L33/40
  • 本发明具有P‑型欧姆接触层的发光二极管外延结构,涉及以电极为特征的至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的专门适用于光发射的半导体器件,该结构从下至上顺序包括衬底、缓冲层、N‑型半导体材料层、多量子阱层、P‑型电子阻挡层、P‑型半导体材料传输层和P‑型欧姆接触层,其中,P‑型欧姆接触层的组成为AlxInyGa1‑x‑yN,其中0≤x<1,0≤y<1,0≤1‑x‑y,并且组分量是渐变的,沿着生长方向其晶格常数逐渐增加,并且禁带宽度逐渐减小。本发明克服了现有技术存在的宽禁氮化物半导体难于形成P型欧姆接触和空穴供应困难的缺陷,提高了LED的发光效率。
  • 一种发光二极管外延片的生长方法-201611147309.9
  • 从颖;姚振;胡加辉 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2016-12-13 - 2019-04-12 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种发光二极管外延片的生长方法,属于半导体技术领域。包括:在衬底上依次生长低温缓冲层、高温缓冲层、N型GaN层、有源层、电子阻挡层、P型GaN层、P型接触层;P型接触层的生长过程分成(2*n+1)个阶段,n为正整数,阶段的序号为奇数时采用MO源全开的生长模式,阶段的序号为偶数时采用MO源全关的生长模式;MO源全开的生长模式为,开启Ga源、In源、Mg源,并通入NH3、N2和H2,生长掺杂In和Mg的GaN层;MO源全关的生长模式为,关闭Ga源、In源、Mg源,并通入NH3、N2和H2,中断生长掺杂In和Mg的GaN层。本发明大大降低了工作电压和提升了发光效率。
  • 一种倒装红光LED芯片结构及其制备方法-201811453128.8
  • 郝锐;易翰翔;李玉珠;张洪安;武杰 - 广东德力光电有限公司
  • 2018-11-30 - 2019-03-26 - H01L33/40
  • 本发明提供了一种倒装红光LED芯片结构,包括衬底、设置于所述衬底的底面的导电层、设置于所述导电层的底面的P型外延层、设置于所述P型外延层的底面的发光区层、设置于所述发光区层的底面的N型外延层和设置于所述N型外延层的底面的N电极,所述导电层与所述P型外延层为层间结合的欧姆接触结构,所述导电层的底面的一侧还设置向下延伸的P电极。本发明通过设置导电层,并设置导电层与P型外延层合金为欧姆接触结构,使得P型外延层和P电极之间无需高温合金形成欧姆接触结构,避免高温对LED芯片结构的负面影响,提高LED芯片结构的良品率。
  • 高效率发光二极管-201610342039.0
  • 金泰均;李俊熙;金起贤;孙成寿 - 首尔伟傲世有限公司
  • 2016-05-20 - 2019-03-01 - H01L33/40
  • 本发明提供一种发光二极管,包含:发光结构体,其包含第二导电型半导体层、位于第二导电型半导体层的上表面上的活性层、及位于活性层的上表面上的第一导电型半导体层;至少一个第一电极,其与第一导电型半导体层电连接;电流阻断层,其位于发光结构体的下表面上;及第二电极,其与第二导电型半导体层电连接,第二电极包含:第一反射金属层;及第二反射金属层;且第二反射金属层与第二导电型半导体层之间的接触电阻大于第一反射金属层与第二导电型半导体层之间的接触电阻。由此,可减少顺向电压,增加输出电力,并改善发光二极管的可靠性。
  • 一种微型发光二极管芯片巨量转移的方法-201710561814.6
  • 尹灵峰;王江波 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2017-07-11 - 2019-03-01 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种微型发光二极管芯片巨量转移的方法,属于半导体技术领域。包括:制作若干第一Micro LED芯片,第一Micro LED芯片的P型电极和N型电极同一侧为异名磁极;在驱动电路板上安装第一Micro LED芯片的位置上设置P型电极固定块和N型电极固定块,P型电极固定块和P型电极的相对侧为异名磁极,N型电极固定块和N型电极的相对侧为异名磁极;将驱动电路板和若干第一Micro LED芯片放入同一溶液中,第一Micro LED芯片在磁力的作用下固定安装在驱动电路板上。本发明可以实现Micro LED芯片的巨量转移,不存在一个芯片存在缺陷就更换所有芯片的问题,提高了生产效率,降低了生产成本。
  • 一种发光二极管及其制备方法-201610462698.8
  • 李辉;叶青贤;胡根水 - 华灿光电(苏州)有限公司
  • 2016-06-23 - 2019-02-22 - H01L33/40
  • 本发明公开了一种发光二极管及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该发光二极管包括外延片及设置在外延片上的电极,电极至少包括第一电极层和第二电极层,第一电极层设置在外延片上,第二电极层层叠在第一电极层上,第一电极层采用Cr制成,第二电极层采用AlCu合金制成,该制备方法包括提供外延片;在外延片上制作电极,通过在外延片上设置电极,由于该电极至少包括第一电极层和第二电极层,其中第一电极层采用Cr制成,第二电极层采用AlCu合金制成,由于AlCu合金结构致密,稳定性好,具有较强的抗形变能力,因此使得LED在打线过程中,电极可以承受挤压而不发生形变。
  • 倒装LED芯片的制作方法-201610325068.6
  • 臧雅姝;林素慧;何安和;刘小亮 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2016-05-17 - 2019-02-19 - H01L33/40
  • 本发明公开了倒装LED芯片的制作方法,LED芯片包括:基板;发光外延层,位于基板之上;ITO层,位于发光外延层之上;通过对ITO进行蚀刻处理后,实现对ITO表面粗化和氟化的改善处理,在ITO层上沉积金属反射层;短时间的蚀刻起到增强金属反射层在ITO表面的附着性的效果,同时,由于ITO表面的氟化处理,有效提升由外延层表面膜层、透明导电膜层、金属反射层组成的全方位反射镜(ODR)结构的反射率,实现LED光萃取效率的提升。
  • 发光二极管-201510136480.9
  • 陈誉云;林永鑫;李芳仪;潘锡明 - 晶元光电股份有限公司
  • 2015-03-26 - 2019-02-15 - H01L33/40
  • 本发明揭示了一种发光二极管,包含:堆栈半导体层结构,包含第一型半导体层、主动层与第二型半导体层,主动层设置于第一型半导体层与第二型半导体层之间;以及第一电极及第二电极,设置于堆栈半导体层结构的同一侧,且第一电极设置于第一型半导体层上,第二电极设置于第二型半导体层上;其中,第一电极包含单一反射金属层与焊垫层,焊垫层设置于单一反射金属层上,单一反射金属层的厚度大于主动层,且单一反射金属层的下端低于主动层的下端,而单一反射金属层的上端高于主动层的上端,使得从主动层所发出的至少部分光线被单一反射金属层反射。本发明的发光二极管,制程简单,降低了成本,且增强了整体出光效率和亮度,还可维持电极的电性表现。
  • 一种宽带高效的二维光子晶体LED倒装阵列芯片-201821366071.3
  • 王洪;黄华茂;杨倬波;谭礼军 - 中山市华南理工大学现代产业技术研究院;华南理工大学
  • 2018-08-23 - 2019-02-12 - H01L33/40
  • 本实用新型公开了一种宽带高效的二维光子晶体LED倒装阵列芯片。该二维光子晶体LED阵列芯片单元为倒装结构,在透明衬底上由X行Y列的发光单元组成,其中X和Y的取值为大于4的整数;每个发光单元为结构相同的倒装结构,都包括GaN外延层、金属反射镜层、保护层、钝化层、n‑电极和p‑电极;从图形化处理后GaN外延片表面的p‑GaN层到n‑GaN层以及SOG形成二维光子晶体结构,实现对光子寿命和行为的调控,进而提高LED芯片的调制带宽和光萃取效率。采用深刻蚀隔离槽将单元,实现阵列单元之间的独立,降低阵列单元之间的光电串扰,具有高光效、高带宽和高集成度的优点。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top