[实用新型]一种再布线金属层和高密度再布线封装结构有效

专利信息
申请号: 201320742913.1 申请日: 2013-11-22
公开(公告)号: CN203589015U 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 徐虹;张黎;陈栋;陈锦辉;赖志明 申请(专利权)人: 江阴长电先进封装有限公司
主分类号: H01L23/528 分类号: H01L23/528;H01L21/268;H01L23/31
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 彭英
地址: 214429 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种再布线金属层和高密度再布线封装结构,属于半导体封装技术领域。其中再布线金属层包括若干层介电层和设置于介电层内的金属层,每一所述介电层开设贯穿该介电层的线槽,所述线槽包括介电层横向线槽和介电层纵向线槽,所述介电层横向线槽和介电层纵向线槽呈上下分布,介电层横向线槽的深度小于介电层的厚度,所述介电层横向线槽的尺寸不小于介电层纵向线槽的尺寸,线槽内设置所述金属层,每一所述金属层与设置该金属层的介电层形成于同一层;所述高密度再布线封装结构采用上述再布线金属层结构。本实用新型减少了介电层的层数、使再布线金属层结构简洁,提高了单位空间内的再布线密度,有利于再布线高密度化进一步发展。
搜索关键词: 一种 布线 金属 高密度 封装 结构
【主权项】:
一种再布线金属层,包括若干层介电层和设置于介电层内的金属层,所述金属层也有若干层,上下相邻的所述金属层彼此连接,所述再布线金属层(100)的上下表面设有与金属部件连接的上连接端面(101)和下连接端面(102),其特征在于:每一所述介电层开设贯穿该介电层的线槽,所述线槽包括介电层横向线槽和介电层纵向线槽,所述介电层横向线槽和介电层纵向线槽呈上下分布,所述介电层横向线槽的深度小于介电层的厚度,所述介电层横向线槽的尺寸不小于介电层纵向线槽的尺寸,所述线槽内设置所述金属层,每一所述金属层与设置该金属层的介电层形成于同一层。
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