专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种方形凹槽抛光装置-CN202223168627.7有效
  • 刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-06-06 - B24B19/02
  • 本实用新型涉及光学零件加工领域。一种方形凹槽抛光装置,包括研磨机构,研磨机构包括电机以及抛光盘组件,其特征在于,电机通过万向联轴器与抛光盘组件联动;抛光盘组件包括从上至下顺序连接的旋转轴、勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘;三爪抛光盘的外边缘的截面为三角形或者与勒洛三角形导向块的角部截面相匹配;还包括支撑架,支撑架上安装有电机支撑横梁,电机支撑框架用于安装电机;支撑架上还安装有限位架;限位架上开设有限位槽,限位槽包括用于旋转轴活动的圆孔以及用于勒洛三角形导向块活动的方孔,圆孔与方孔上下对接导通。本实用新型解决传统抛光方法无法对凹槽底部均匀抛光的问题。
  • 一种方形凹槽抛光装置
  • [发明专利]一种方形凹槽抛光方法-CN202211506373.7在审
  • 刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-03-14 - B24B1/00
  • 本发明涉及光学零件加工领域。一种方形凹槽抛光方法,包括如下步骤,步骤一,将工件固定在二维平移机构上;步骤二,移动二维平移机构,将弹性抛光盘组件置入工件的方形凹槽内,将方形凹槽与弹性抛光盘组件进行位置对准;弹性抛光盘组件包括从上至下顺序连接的勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘;弹性抛光盘组件通过万向联轴器与电机联动;步骤三,调节勒洛三角形导向块的上下高度,调节抛光压力;勒洛三角形导向块活动安装在一限位架上,限位架可上下位置调节,限位架上开设有用于勒洛三角形导向块活动的方形导向槽;步骤四,电机启动带动弹性抛光盘组件旋转,三爪抛光盘的端部的运动轨迹为方形。本发明实现了方形凹槽的研磨。
  • 一种方形凹槽抛光方法
  • [发明专利]一种用于高次非球面检测的补偿器-CN202111020463.0在审
  • 孟梦;蒋泉权;刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2021-09-01 - 2022-01-07 - G02B3/06
  • 本发明涉及一种用于高次非球面检测的补偿器,所述补偿器的主体为单个的透镜,所述透镜的侧面为圆柱面,所述透镜一侧的入光面为内凹的抛光高次非球面,该入光面采用标准非球面方程表述的c值略小于待测非球面表述的c值且入光面的非球面度小于待测非球面;所述抛光高次非球面的光轴呈旋转对称结构,所述透镜另一侧的出光面为与侧面垂直的抛光平面。本发明的有益效果是易于加工,与传统球面透镜组形式的补偿器相比,减少了补偿器所需透镜的数量,节约了成本,避免了透镜组复杂的机械装配过程,能够缩短加工工期。
  • 一种用于高次非球面检测补偿
  • [发明专利]侧立镜组及其安装方法-CN201610285798.8有效
  • 汪明天;刘国淦 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2016-04-29 - 2020-06-16 - G02B7/02
  • 本发明提供一种侧立镜组及其安装方法,该镜组包括镜框和光学镜片,对称分布于镜框垂直中心线两侧与镜框一体化成型设置的两个硬支撑点,每个硬支撑点与光学镜片直接接触连接;在光学镜片的底部设置有通过调整螺钉接触连接的弹性支撑件;镜框的顶部设置有用于限定光学镜片产生径向位移的压紧螺钉。该方法包括,将光学镜片侧立放置在镜框的硬支撑体上;通过压紧螺钉施加给光学镜片一定大小的力,将光学镜片与每个硬支撑点均相抵;调整用于支撑光学镜片的弹性支撑件的支撑力,锁紧调整螺钉;安装一个以上的预紧簧片,对点胶孔进行点胶,以固定连接镜框与光学镜片;安装轴向限位块。本发明具有稳定性较高、面型精度较高的效果,有利于实现工程化。
  • 侧立镜组及其安装方法
  • [发明专利]一种光刻机的快门叶片-CN201511022925.7有效
  • 陈梦来;刘国淦;章富平 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
  • 2015-12-30 - 2019-11-26 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻机的快门叶片,快门叶片接受光源照射的一面设有用于增大照射光的反射光线与水平线的夹角的光路转换件。通过设置光路转换件,使快门叶片上形成底部具有V形或倒V形斜坡的环形凹槽或条形凹槽,以及表面呈弧形的球形凸起,使照射在快门叶片表面的光线在经快门叶片反射后远离灯室的保护玻璃,以减少反射光线进入灯室,从而使位于灯室顶部的能量传感器能稳定工作,实现精密控制曝光剂量的目的。此外,设置V形或倒V形斜坡还具有增大散热面积,减少快门叶片的热量吸热,提高其使用寿命的效果;而设置球形凸起增加了快门叶片的强度,缓解反射光过于集中导致的局部温度过高的现象,进一步提高了快门叶片的使用寿命。
  • 一种光刻快门叶片
  • [发明专利]一种激光退火装置和方法-CN201310098555.X有效
  • 刘国淦;兰艳平 - 上海微电子装备有限公司
  • 2013-03-26 - 2017-08-29 - H01L21/268
  • 本发明公开了一种激光退火装置和方法,其中,所述装置包括激光源、光路部分、光路监测部分和运动部分;所述激光源为两个P极线偏振激光器;两个P极线偏振激光器发出的激光光束经光路部分后,再经一光束分离部分处理,之后分别以近布儒斯特角入射在运动部分的硅片表面。与现有技术相比,本发明采用两个P级线偏振激光器,先将激光器之一转化为S级偏振光,合成后经过光路处理部分,再将两束光进行分离,并将S级光束还原成P级光,最终都以布儒斯特角进行入射。这样既能保证两束激光均按照布儒斯特角入射,光路处理部分也不会太复杂,而激光能量的利用效率会大大提高。
  • 一种激光退火装置方法
  • [发明专利]光刻曝光系统-CN201310671767.2有效
  • 刘国淦 - 上海微电子装备有限公司
  • 2013-12-10 - 2017-02-01 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻曝光系统,沿光传播方向依次包括相干光源、分光光学元件、扩束系统、微透镜阵列、可变聚焦透镜以及载有曝光片的工作台;其中,相干光源产生入射光,经分光光学元件分成若干束相干光束,相干光束经扩束系统扩束后入射到微透镜阵列,再次被分解成多束子光源,多束子光源进入可变聚焦透镜后聚焦到曝光片上,并在曝光片上发生干涉。本发明的光刻曝光系统结构简单,无掩模,能够实现灵活调整图形结构;并且,由于采用无掩模的方式,系统中的所有能量基本都能被利用,所以光源的利用率更高,另外可变聚焦透镜的设计比投影物镜的设计更简单,可以实现整个曝光片的一次性曝光。
  • 光刻曝光系统

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