专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光学镜片的清洗收干方法-CN202310716582.2在审
  • 丁佳琪;莫海亮;王创业 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-10-10 - B08B1/00
  • 本发明涉及光学镜片加工技术领域。一种光学镜片的清洗收干方法,包括如下步骤:步骤一,将光学镜片固定在旋转机构的基座上;基座包括底盘以及定位块,底盘安装在旋转盘上,底盘上开设有四个周向排布的安装槽,安装槽用于引导定位块径向滑动,定位块与底盘相连;定位块的顶部内侧设有用于支撑光学镜片的台阶;步骤二,选取擦拭件,并在擦拭件上包覆无纺布;擦拭件包括用于包覆无纺布的橡胶块,橡胶块与一支撑杆相连,支撑杆上可拆卸连接有配重块;擦拭件上开设有从上至下导流的漏液孔;步骤三,将擦拭件安装在光学镜片的上方,无纺布抵住光学镜片的上表面;步骤四,向漏液孔内滴加酒精,旋转盘开启转动。
  • 一种光学镜片清洗方法
  • [发明专利]非球面光学零件的气缸应力抛光盘装置及抛光方法-CN202310773255.0在审
  • 叶青;郑美玲 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-12 - B24B13/00
  • 本发明提供了一种非球面光学零件的气缸应力抛光盘装置及抛光方法,抛光方法包括小磨头数控抛光,达到≈500nm的加工精度→磁流变面型精抛,提高到≈100nm的面型精度→面型误差测量分析→第一判断模块→气缸应力盘抛光→第二判断模块→完成加工。本发明的工艺合理,先通过小磨头数控抛光,快速去除非球面表面的损伤层;再通过数轮的磁流变面型精抛,提高面型精度;最后通过磁流变面型精抛与气缸应力抛光组成迭代加工,通过多轮迭代,最终实现高精度超光滑大偏离度非球面的抛光,解决了由于应力盘与非球面接触时存在一定的斜率,导致应力盘加工非球面往往无法较好的避免光洁度和表面粗糙度的技术缺陷。
  • 球面光学零件气缸应力抛光装置方法
  • [实用新型]一种方形凹槽抛光装置-CN202223168627.7有效
  • 刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-06-06 - B24B19/02
  • 本实用新型涉及光学零件加工领域。一种方形凹槽抛光装置,包括研磨机构,研磨机构包括电机以及抛光盘组件,其特征在于,电机通过万向联轴器与抛光盘组件联动;抛光盘组件包括从上至下顺序连接的旋转轴、勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘;三爪抛光盘的外边缘的截面为三角形或者与勒洛三角形导向块的角部截面相匹配;还包括支撑架,支撑架上安装有电机支撑横梁,电机支撑框架用于安装电机;支撑架上还安装有限位架;限位架上开设有限位槽,限位槽包括用于旋转轴活动的圆孔以及用于勒洛三角形导向块活动的方孔,圆孔与方孔上下对接导通。本实用新型解决传统抛光方法无法对凹槽底部均匀抛光的问题。
  • 一种方形凹槽抛光装置
  • [发明专利]反射镜表面结合不同合金改善表面粗糙度的方法-CN202211639123.0在审
  • 蒋泉权;莫海亮 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2022-12-20 - 2023-05-12 - C23C14/30
  • 本发明涉及反射镜加工领域。反射镜表面结合不同合金改善表面粗糙度的方法,包括如下步骤:步骤一,粗加工;步骤二,清洁反光镜的表面并保存;步骤三,清洁真空镀膜机;步骤四,将纯度大于99.99%镍和纯度大于99.99%磷分别放入两个不同的坩埚;步骤五,把反射镜悬挂在真空镀膜机内,坩埚摆放在电子束蒸发器上;抽真空并用电子束蒸发器对坩埚进行加热,摆放有镍的坩埚下方的电子束蒸发器的电流为400毫安,摆放有磷的坩埚下方的电子束蒸发器的电流为200毫安;且摆放有镍的坩埚下方的电子束蒸发器与摆放有磷的坩埚下方的电子束蒸发器的工作时长比为9:1;步骤六,磁流变抛光。最终粗糙度Ra小于等于2nm。
  • 反射表面结合不同合金改善粗糙方法
  • [发明专利]一种微纳光栅结构的抛光装置及抛光方法-CN202310025247.8在审
  • 叶青;郑美玲 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2023-01-09 - 2023-05-05 - B24B29/02
  • 本发明提供了一种微纳光栅结构的抛光装置及抛光方法,工作方法包括以下操作步骤:S1.微纳结构设计;S2.被抛光件标记定位;S3.装夹与位置调整;S4.微纳结构代码输入;S5.抛光。本发明利用磁性柔性流变体与各种微纳光学被抛光件表面高度贴合,实现被抛光件表面微纳结构抛光;同时借助磁流变抛光的去除效率与驻留时间的控制得到更深层的微纳结构;借助磁流变抛光的特殊优势,抛光过程中不会对被抛光件表面产生任何划痕缺陷;完全抛弃传统机械刻划方式,提供一种高效率和高精度的抛光装置工作方法,实现了对任意形貌被抛光件、任意材质被抛光件、任意被抛光件区域进行微纳光学结构抛光。
  • 一种光栅结构抛光装置方法
  • [发明专利]一种方形凹槽抛光方法-CN202211506373.7在审
  • 刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-03-14 - B24B1/00
  • 本发明涉及光学零件加工领域。一种方形凹槽抛光方法,包括如下步骤,步骤一,将工件固定在二维平移机构上;步骤二,移动二维平移机构,将弹性抛光盘组件置入工件的方形凹槽内,将方形凹槽与弹性抛光盘组件进行位置对准;弹性抛光盘组件包括从上至下顺序连接的勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘;弹性抛光盘组件通过万向联轴器与电机联动;步骤三,调节勒洛三角形导向块的上下高度,调节抛光压力;勒洛三角形导向块活动安装在一限位架上,限位架可上下位置调节,限位架上开设有用于勒洛三角形导向块活动的方形导向槽;步骤四,电机启动带动弹性抛光盘组件旋转,三爪抛光盘的端部的运动轨迹为方形。本发明实现了方形凹槽的研磨。
  • 一种方形凹槽抛光方法
  • [发明专利]一种用于高次非球面检测的补偿器-CN202111020463.0在审
  • 孟梦;蒋泉权;刘国淦 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2021-09-01 - 2022-01-07 - G02B3/06
  • 本发明涉及一种用于高次非球面检测的补偿器,所述补偿器的主体为单个的透镜,所述透镜的侧面为圆柱面,所述透镜一侧的入光面为内凹的抛光高次非球面,该入光面采用标准非球面方程表述的c值略小于待测非球面表述的c值且入光面的非球面度小于待测非球面;所述抛光高次非球面的光轴呈旋转对称结构,所述透镜另一侧的出光面为与侧面垂直的抛光平面。本发明的有益效果是易于加工,与传统球面透镜组形式的补偿器相比,减少了补偿器所需透镜的数量,节约了成本,避免了透镜组复杂的机械装配过程,能够缩短加工工期。
  • 一种用于高次非球面检测补偿

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