专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种集成电路芯片及线路板-CN202020017255.X有效
  • 吕青柏;姜飞;陈万兴;沈振天 - 昆山龙腾光电股份有限公司
  • 2020-01-06 - 2020-07-07 - H01L23/58
  • 本实用新型实施例涉及半导体封装技术领域,公开了一种集成电路芯片和线路板。集成电路芯片包括基板、集成电路、多条引线和多个安装引脚;集成电路设置在基板上;集成电路包括多个电极,电极通过引线与安装引脚一一对应电连接,还包括:多个导电结构和多个测试衬垫,测试衬垫通过导电结构与电极一一对应电连接;封装层,覆盖引线、集成电路以及至少部分导电结构,裸露出测试衬垫和安装引脚;测试衬垫和安装引脚分别位于封装层的相对两侧;保护层,覆盖测试衬垫。本实用新型实施例提供的技术方案可以准确测得集成电路芯片的安装引脚上的信号。
  • 一种集成电路芯片线路板
  • [发明专利]包括受保护的后表面的电子芯片-CN201610249242.3有效
  • 让·沙博尼耶;斯特凡·博雷尔 - 原子能和替代能源委员会
  • 2016-04-20 - 2020-06-30 - H01L23/58
  • 一种电子芯片(100),至少包括:被布置于基底(102)的前表面(104)处的电子电路(106);被布置于基底的后表面(117)上的第一保护层(120);被布置于所述第一保护层上并且朝向电子电路的至少一个部件(110)上的电阻元件(122),该电阻元件(122)由第一保护层进行机械支撑并且被电连接和/或感应连接至电子电路;至少覆盖所述电阻元件的第二保护层(126);并且其中,第一保护层至少包括一种介电材料,该介电材料对于至少一种化学蚀刻剂的耐化学蚀刻性小于或等于所述第二保护层的介电材料对于所述至少一种化学蚀刻剂的耐化学蚀刻性。
  • 包括保护表面电子芯片
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201710438327.0有效
  • 蒋昊;金秋敏 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2017-06-12 - 2020-05-08 - H01L23/58
  • 本发明提供一种半导体结构及其形成方法,其中,方法包括:衬底;位于所述衬底中的第一阱区、第二阱区、第三阱区和位于所述第三阱区和第一阱区之间的第四阱区,所述第三阱区与第二阱区的掺杂离子的导电类型相同,所述第四阱区与所述第三阱区的掺杂离子导电类型相反;位于第三阱区上的器件结构;位于第一阱区中的第一掺杂区和第二掺杂区,第一掺杂区和第二掺杂区分立,第一掺杂区和第二掺杂区中的掺杂离子与所述第一阱区掺杂离子导电类型相反,第一掺杂区与所述器件结构电连接;位于第二阱区中的第三掺杂区,所述第三掺杂区与所述第二掺杂区电连接。所述第一掺杂区、第一阱区和第二掺杂区形成三极管,能够改善半导体结构的性能。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [实用新型]基于硅技术的宽带宽毫米波带通滤波器-CN201920766427.0有效
  • 孙锋;原杰;唐国峰;杨欣然 - 吉林大学
  • 2019-05-24 - 2020-04-28 - H01L23/58
  • 本实用新型公开了一种基于硅技术的宽带宽毫米波带通滤波器。本实用新型以第三电感为对称轴完全对称;一个第三电容一端与该输入端相连,该第三电容另一端与其中一个第一电感、一个第二电感、第三电感并联;第一电感另一端与其中一个第一电容相连;该第二电感另一端与其中一个第二电容相连;第一电容的另一端接地;第二电容的另一端接地;第三电感与另一个第一电感、另一个第二电感、另一个第三电容并联;第一电感的另一端与另一个第一电容相连;第二电感的另一端与另一个第二电容相连;第一电容另一端接地;该第一电容另一端接地;该第三电容另一端与该输出端相连。滤波器实现了提供超过70%的分数带宽,且具有良好的阻带抑制和毫米波区域的通带平坦度。
  • 基于技术宽带毫米波带通滤波器
  • [发明专利]图案式防护结构-CN201610474288.5有效
  • 颜孝璁;罗正玮;简育生;叶达勋 - 瑞昱半导体股份有限公司
  • 2016-06-24 - 2020-04-03 - H01L23/58
  • 本发明公开了一种图案式防护结构,其应用于集成电路中。图案式防护结构位于集成电路的电感与基板之间。图案式防护结构包含中央结构单元、第一图案化结构单元及第二图案化结构单元。中央结构单元包含第一次中央结构单元及第二次中央结构单元。第二次中央结构单元以中央结构单元的中央为基准而与第一次中央结构单元对称配置。第一图案化结构单元配置于中央结构单元的一侧。第二图案化结构单元配置于中央结构单元的另一侧,且第二图案化结构单元以中央结构单元为基准而与第一图案化结构单元对称配置。
  • 图案防护结构
  • [发明专利]多重密封环结构-CN201610069848.9有效
  • 杨敦年;刘人诚;林政贤;王文德;蔡纾婷 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2011-08-10 - 2020-01-10 - H01L23/58
  • 本发明提供了一种制造半导体器件的方法,所述方法包括提供具有密封环区域和电路区域的基板,形成在密封环区域上方的第一密封环结构,所述第一密封环结构围绕所述电路区域呈封闭环,且具有包含金属层的外部部分(210a)和包含金属层的内部部分(210b),形成在密封环区域上方并且邻近第一密封环结构的第二密封环结构,所述第二密封环结构围绕所述电路区域呈封闭环,且具有包含金属层的外部部分(220a)和包含金属层的内部部分(220b),和形成在第一密封环结构和第二密封环结构上的第一钝化层。也提供了一种通过这种方法制造的多重密封环结构的半导体器件。
  • 多重密封结构
  • [发明专利]反熔丝、反熔丝阵列及其操作方法-CN201510472425.7有效
  • 郑龙善 - 爱思开海力士有限公司
  • 2015-08-04 - 2019-12-24 - H01L23/58
  • 公开了一种反熔丝、反熔丝阵列及其操作方法。反熔丝阵列包括:有源区,形成在半导体衬底中;狭缝区,形成在有源区的在第一方向上的两个边缘部分;多个选择栅极,在与有源区的第一方向垂直的第二方向上延伸,并耦接到选择字线;多个第一编程栅极,与选择栅极间隔开,形成在由狭缝区隔离的有源区之上,并耦接到第一编程字线;多个第二编程栅极,与选择栅极间隔开,形成在由狭缝区隔离的有源区之上,并耦接到第二编程字线;以及位线,垂直于选择字线。
  • 反熔丝阵列及其操作方法

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