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[发明专利]对准方法和相关联的对准和光刻设备-CN202280018266.1在审
发明人： N·F·W·蒂森;L·J·卡尔塞迈耶尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：披露了一种用于确定一组校正权重以校正量测数据的方法。所述方法包括：获得与用于执行测量的测量辐射的多个照射设置相关的第一量测数据，其中每个照射设置包括不同的波长、偏振或其组合；将量测数据拟合到用于表示所述量测数据的模型，并且确定拟合残差；以及确定所述校正权重为最小化所述拟合残差的校正权重。
对准方法相关光刻设备

[发明专利]一种多层高密度封装中曝光对位的工艺方法-CN202311009444.7有效
发明人：赵玥;张国栋;张中;王晓平;谢雨龙 -专利权人：江苏芯德半导体科技有限公司
申请日： 2023-08-11 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层高密度封装中曝光对位的工艺方法，包括步骤：制图软件中在每层掩膜版文件上绘制对准标记图形，获取对准标记图形的坐标值；制作出具有对准标记图案的每层掩膜版；用第一层掩膜版在晶圆产品上形成具有对准标记图形的第一层光刻图形；后续从第二层光刻图形开始，光刻机根据在光刻机中输入设计时获得的上一层的对准标记图形的坐标值，与光刻机识别的上一层形成的对准标记图形进行对位，完成这一层与上一层的准确对位，然后曝光完成新一层光刻图形，直至多层封装完成。本曝光对位工艺方法，在每一个PI层或PR层上做出已设计好的各种对准标记图形，能解决测量误差和图形识别不清造成的曝光偏移误差问题，提高曝光对位精度。
一种多层高密度封装曝光对位工艺方法

[实用新型]一种可用于多种光刻机对位用光罩-CN202321161441.0有效
发明人：高雅楠;程鑫怡 -专利权人：成都海威华芯科技有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可用于多种光刻机对位用光罩，属于光刻机的对位系统及对位标记技术领域，所述光罩上设有对准标记组，对准标记组包括至少两种型号光刻机所需的对准标记，各对准标记相互独立。本实用新型在光罩上集成各型号光刻机所需的对准标记，即提供了一种可兼容不同型号曝光机对位用的对准标记组，为后续不同曝光机的对位提供基准，进而保证后续有序曝光，提高了产品制程效率；各对准标记相互独立，彼此间不会相互影响，避免了各类对位标记相互遮挡的问题。
一种用于多种光刻对位用光

[发明专利]光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质-CN202310961545.8在审
发明人：张光彩 -专利权人：上海图双精密装备有限公司
申请日： 2023-08-02 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及光刻设备领域，公开了一种光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：晶圆设置标记点，视场中心对准标记点；晶圆移动时，获取晶圆的移动量△Z；标记点在视场中的位置发生了偏移，计算得到标记点在视场的位移量s；计算运动台偏角α，完成对准运动台Z轴平行度调校。本发明采用被校模块本身作为测校模块，通过控制对准运动台模块和对准相机模块作为测校模块，通过机器视觉算法对标记位移和方向判别可计算出运动台Z轴和对准相机光轴的偏转角度和方向，对于运动台Z轴的校准精度可达1.15μrad，对准相机光轴校准精度可达约575μrad。
光刻设备对准运动光轴垂直校准方法装置存储介质

[发明专利]一种基于多点检测的焦面调平方法及系统-CN202210314922.4在审
发明人：董贤子;王天伟;郑美玲;金峰;刘洁 -专利权人：中国科学院理化技术研究所
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基于多点检测的焦面调平方法，该方法包括：利用计算机对样品待曝光区域进行网格划分；记录每一格点的x，y轴坐标；针对每一格点，采集检测光束聚焦在该格点的聚焦图像，利用计算机控制移动台的z轴高度，将该格点的聚焦图像与标准图像数据的差值在精度控制范围内时的z轴高度记录为该格点的z轴坐标，建立格点坐标(x，y，z)数据库；根据每相邻四个格点的坐标，计算四个格点围成的区域内任一点(x，y)的z轴坐标；利用计算机控制移动台将曝光光束移动到曝光区域，对曝光区域进行焦面z轴位移补偿后曝光。本发明提供的焦面调平方法可实现在光刻曝光过程中实时补偿焦面高度的变化，实现成像或曝光焦面高度的一致性控制。
一种基于多点检测焦面调平方系统

[实用新型]一种内层曝光机的菲林对位装置-CN202320587249.1有效
发明人：谢斯文;刘艺琼;翁武晨;曾兵 -专利权人：福建福强精密印制线路板有限公司
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及PCB制造技术领域，提供一种内层曝光机的菲林对位装置，包括：相机移动组件，包括机架、导轨、对位相机、第一滑座与第二滑座，导轨与机架固定连接，第一滑座与导轨左右滑动连接，第二滑座与第一滑座前后滑动连接，对位相机与第二滑座固定连接，对位相机的检测口朝下设置；上菲林承载组件，包括第一承载板与上菲林片，上菲林片设置有圆点对位标记，上菲林片在对位相机的下方；下菲林承载组件，包括第二承载板与下菲林片，下菲林片设置有圆环对位标记，下菲林片在上菲林片的下方。本实用新型的优点在于：通过相机移动组件，能在左右前后调节对位相机的位置，检测不同位置的菲林片对位标记，曝光不同尺寸的PCB拼板。
一种内层曝光对位装置

[发明专利]一种基于莫尔条纹放大的高精度对准装置-CN202310876480.7在审
发明人：贺军崴;解金彪;吴家润;徐贵力;程月华 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种基于莫尔条纹放大的高精度对准装置，涉及光刻对准技术领域，该装置中光源发出的平行光照射固定光栅衍射出第一条纹对、照射掩膜光栅衍射出第二条纹对与固定光栅相互交叉并形成预定交叉角度，两组条纹对交织形成菱形块结构，利用该装置，在通过待对准设备带动掩膜光栅沿着预定方向移动的过程中，通过相机获取待处理图像并识别得到衍射出的菱形块结构的实时质心坐标，直至实时质心坐标达到目标质心坐标时确定完成对待对准设备的对准。利用莫尔条纹放大现象在高倍镜头配合下产生高精度的位移对准效果，该放大效果不受外界设备水平程度影响、不受光栅真实尺寸影响，可以实现高精度对准。
一种基于莫尔条纹放大高精度对准装置

[发明专利]用于定位荫罩的装置和方法-CN202310319456.3在审
发明人：约翰内斯·菲利克斯·霍尔格·施米特;扬·索姆布翁;斯特凡·布莱尔;多米尼克·霍格诺尔 -专利权人： ABB瑞士股份有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于定位荫罩的装置，该装置包括罩施加工具，该罩施加工具包括内部主体，该内部主体在内部主体的端表面上包括一个或多个磁体。罩施加工具还包括用于接纳内部主体的中空外部主体，该外部主体包括在外部主体的端表面处的罩插口和用于将罩施加工具定位在基板托盘上的一个或多个导向元件。
用于定位装置方法

[发明专利]半导体结构及其制备方法-CN202111661669.1有效
发明人：艾仙雄;轩攀登;方超;魏禹农;吁卫东;袁元;陈安 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种半导体结构及其制备方法。本公开提供的半导体结构包括：衬底；多个存储堆叠结构，位于衬底上，相邻的存储堆叠结构之间通过切割道彼此分隔；对准标记，位于衬底的暴露于切割道内的区域中，用于实现光学对准；以及虚设辅形结构，位于衬底上，并位于包含对准标记的切割道中。
半导体结构及其制备方法

[发明专利]对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端-CN202310679479.5在审
发明人：李新宇;丁帼君;赵亚楠;姜清华 -专利权人：常州承芯半导体有限公司
申请日： 2023-06-07 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端，其中对位标识的对位坐标获取方法包括：提供顶层版图；从所述顶层版图中确定对位标识图形，并通过选取边框将所述对位标识图形进行框选；获取所述选取边框的若干边框节点坐标；定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量；根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的对位坐标。通过自动化的获取所述顶层版图中所述对位标识图形的所述对位坐标，能够解决手动提取所述对位坐标所带来的偏差和繁琐性问题，能够有效提高获取所述对位坐标的准确性和效率。
对位标识坐标获取方法存储介质终端

[发明专利]一种掩模板、曝光设备及掩模板对准方法-CN202311111046.6在审
发明人：秦宏鹏;牛志元;丛敏;姜言明;傅俊隆 -专利权人：光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及芯片制备技术及光刻技术领域，具体涉及一种掩模板、曝光设备及掩模板对准方法。掩模板包括：基底，作为掩模板的支撑基板；对准标记结构，设置在基底表面，对准标记结构包括位于对准标记结构中心的具有正透镜相位的相位调制器和位于相位调制器外围的透光区域；其中，当输入光束入射至对准标记结构上时形成干涉图案，干涉图案为对称图案时，输入光束和掩模板垂直，实现掩模板相对输入光束的对准。通过在掩模板上设置对准标记结构，通过输入光束入射至对准标记结构上时形成的干涉图案是否对称即可实现对准检测。该对准标记结构简单、加工成本低，避免了采用光栅型对准标记需要楔块列阵成像时存在的难度大成本高的问题。
一种模板曝光设备对准方法

[发明专利]用于确定光刻曝光设备的一个或更多个致动器的聚焦致动轮廓的方法-CN202180092375.3在审
发明人： S·H·C·范格尔佩;S·范瑞内 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：披露了一种用于在对包括至少两个形貌级的曝光区域进行曝光的光刻曝光过程的控制中确定光刻曝光设备的一个或更多个致动器的聚焦致动轮廓的方法。所述方法包括：根据目标函数来确定所述至少两个形貌级的连续单聚焦致动轮廓，所述目标函数包括基于级的分量，所述基于级的分量能够操作以针对于所述至少两个形貌级中的每个来优化每形貌级的聚焦指标。
用于确定光刻曝光设备一个更多个致动器聚焦轮廓方法

[发明专利]光罩及光刻方法-CN202310681157.4在审
发明人：陆路;赵常宝;叶国梁;胡胜;谭学聘 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2023-06-08 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种光罩及光刻方法，所述光罩包括：基板以及位于所述基板上的多个对位标记图案，其中，至少两个所述对位标记图案不同，并且部分所述对位标记图案能够被遮挡。由此，针对不同的产品时，可以使用同一光罩上的不同的对位标记图案，同时遮挡其余的对位标记图案，从而使得多个产品能够共用包括多个对位标记图案的一个光罩，降低了制造成本。
光刻方法

[发明专利]一种利用测试掩模版检测光刻机掩模版承载台扭曲的方法-CN202311079011.9在审
发明人：王俊峰 -专利权人：吉姆西半导体科技(无锡)有限公司
申请日： 2023-08-25 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用测试掩模版检测光刻机掩模版承载台扭曲的方法，涉及光刻机校准和检修技术领域。本发明采用的测试掩模共设置有8个对准标记，可以实现测试掩模版90°、180°的旋转对准，通过0°和180°两次测量，并对测量后标记点坐标进行加和处理，可以过滤掉测试掩模版自身扭曲变形产生的影响，从而精准的对掩模版承载台进行校准和检修。
一种利用测试模版检测光刻承载扭曲方法

[发明专利]用于在小量测目标上对准的拍频图案-CN201880057808.X有效
发明人： B·O·夫艾格金格奥尔;P·C·赫因恩;H·A·J·克瑞姆;A·齐亚托马斯;M·V·梅德韦久瓦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：此处公开了一种形成在衬底上的目标，所述目标包括：对准结构；和量测结构；其中所述对准结构包括被布置成当用源辐射照射所述对准结构时产生拍频图案的结构。有利地，当照射所述目标时，在所述目标的图像中出现的拍频图案允许使用图案识别技术容易地识别出所述目标。
用于小量目标对准拍频图案

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