[实用新型]一种印花网版感光胶剥离设备有效
申请号: | 201821517272.9 | 申请日: | 2018-09-17 |
公开(公告)号: | CN208654542U | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 姚国江;陈国建 | 申请(专利权)人: | 浙江红绿蓝纺织印染有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人: | 陈彩霞 |
地址: | 312030 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 网版 感光胶 脱膜液 剥离池 剥离设备 印花网版 操作台 清水箱 支撑柱 底座 本实用新型 冲洗机构 顶部安装 清洗喷头 印花设备 残余的 放置板 收集箱 阀门 废液 喷出 箱中 软化 水泵 清水 清洗 剥离 | ||
1.一种印花网版感光胶剥离设备,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的顶部固定安装有支撑柱(4),所述支撑柱(4)的顶部固定安装有操作台(5),所述操作台(5)的顶部安装有剥离池(8),所述剥离池(8)的右侧设置有清水箱(13),所述清水箱(13)的与剥离池(8)之间安装有冲洗机构,所述清水箱(13)的一侧安装有驱动箱(11),所述剥离池(8)的左侧设置有网版脱膜液箱(6),所述网版脱膜液箱(6)的顶部安装有加液管(7),所述网版脱膜液箱(6)的底部设置有托板(14),所述托板(14)的底部与操作台(5)之间安装有支架(16),所述网版脱膜液箱(6)的底部与剥离池(8)之间安装有连接管(17),所述连接管(17)上安装有第一阀门(15),所述底座(1)顶部的左侧安装有网版脱膜液收集箱(3),所述底座(1)顶部的右侧安装有污水箱(2),所述网版脱膜液收集箱(3)、污水箱(2)和剥离池(8)之间安装有三通水管(18),所述三通水管(18)上安装有第二阀门(36)。
2.根据权利要求1所述的一种印花网版感光胶剥离设备,其特征在于:冲洗机构包括冲洗架(19),所述剥离池(8)的顶部固定安装有横向方向设置的滑轨(21),所述冲洗架(19)底部的两侧均固定连接有与滑轨(21)滑动连接的滑块(20),所述冲洗架(19)的底部固定安装有冲洗管(26),所述冲洗管(26)的底部安装有均匀分布的若干个冲洗喷头(27)。
3.根据权利要求2所述的一种印花网版感光胶剥离设备,其特征在于:所述清水箱(13)的顶部分别固定安装有加水管(12)和水泵(10),所述水泵(10)的出水口出固定安装有螺旋软管(9),所述螺旋软管(9)远离水泵(10)的一端与冲洗管(26)相连通。
4.根据权利要求2所述的一种印花网版感光胶剥离设备,其特征在于:所述驱动箱(11)的内部安装有伺服电机(32),所述伺服电机(32)通过其一侧的转轴传动连接有第一锥齿轮(33),所述第一锥齿轮(33)的一侧啮合有第二锥齿轮(34),所述第二锥齿轮(34)的一侧传动连接有螺杆轴(35),所述螺杆轴(35)远离第二锥齿轮(34)的一端贯穿驱动箱(11)且传动连接有螺杆(22),所述螺杆(22)远离螺杆轴(35)的一端安装有固定座(23),所述固定座(23)的一侧与剥离池(8)固定连接。
5.根据权利要求4所述的一种印花网版感光胶剥离设备,其特征在于:所述冲洗架(19)的一侧焊接有L型连接块(24),所述L型连接块(24)远离冲洗架(19)的一端焊接有铜套(25),所述铜套(25)的内部开设有与螺杆(22)相适配的螺孔(31),所述螺杆(22)通过螺孔(31)与铜套(25)螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的一种印花网版感光胶剥离设备,其特征在于:所述剥离池(8)的内部设置有网版放置板(28),所述网版放置板(28)的底部固定安装有支撑架(29),所述剥离池(8)的底部且位于网版放置板(28)的下侧开设有排水孔(30)。
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- 2017-07-25 - 2019-07-09 - G03F7/42
- 本发明的课题在于提供一种抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法,所述抗蚀剂剥离液为用于将抗蚀剂从具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材剥离的抗蚀剂剥离液,该抗蚀剂剥离液的剥离性优异,所剥离的抗蚀剂的再附着量少,消泡性也优异。一种抗蚀剂剥离液,其特征在于,其含有(A)胺、(B)有机溶剂和(C)重均分子量为5000~1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐,(C)成分的含量为5.0重量%以下,不含有(D)水,或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量%以下。
- 适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物-201410384014.8
- 大卫·W·明赛克;王威华;大卫·D·伯恩哈德;托马斯·H·鲍姆;梅利莎·K·拉斯 - 恩特格里斯公司
- 2006-01-09 - 2019-07-09 - G03F7/42
- 公开了一种适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物。该水基组合物包含至少一种离液序列高的溶质、至少一种碱性碱和去离子水。采用该组合物在集成电路的制造中实现了硬化的光致抗蚀剂和/或BARC材料的高效去除,而不会不利地影响基片上的金属物质、例如铜,也不会破坏在微电子装置结构中使用的低k介电材料。
- 一种扰流式晶圆去膜装置-201822046309.0
- 洪俊雄 - 台湾先进系统股份有限公司
- 2018-12-07 - 2019-07-09 - G03F7/42
- 本实用新型提供一种扰流式晶圆去膜装置,包含,一晶圆对位承载模块、一机械运送手臂、一去膜槽以及一扰流夹持模块;欲进行去膜时,所述机械运送手臂将整个晶圆对位承载模块运送进入所述去膜槽,并将被晶圆对位承载模块夹持的晶圆置放至所述扰流夹持模块,改由所述扰流夹持模块的多个扰流夹持板分别夹持各晶圆;完成去膜后,所述机械运送手臂将整个晶圆对位承载模块运送进入所述去膜槽内,将已完成去膜的晶圆重新夹持,再将整个晶圆对位承载模块移出去膜槽。
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