“辛成健”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果19个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]稀释剂组合物及其用途-CN201480007310.4有效
发明人：权五焕;尹锡壹;郑宗铉;金炳郁;赵泰杓;辛成健 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2014-01-24 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。
稀释剂组合及其用途

[发明专利]稀释剂组合物-CN201380024161.8有效
发明人： 辛成健;金炳郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;郑世桓;张斗瑛;权五焕;朴善周 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种稀释剂组合物，更具体地说，涉及一种使用于半导体制造用晶片的边缘和后面部位而可在短时间内有效去除多余粘附的光致抗蚀剂，而且提高光致抗蚀剂RRC的性能而能够减少光致抗蚀剂的使用，并对人体的稳定性高、降低界面的段差而可用于多种工序、使半导体制造工序简单化而能够以低成本提高生产收率的稀释剂组合物。
稀释剂组合

[发明专利]RRC 过程和EBR 过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备-CN201210357232.3在审
发明人：尹孝镇;辛成健;李孝善;金柄郁;金贤友;尹锡壹;权五焕 -专利权人：三星电子株式会社;株式会社东进世美肯
申请日： 2012-09-24 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1-C5非基于醚的烷基。
rrc 过程 ebr 稀释剂组合供应前者设备

[发明专利]沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法-CN201110041801.9有效
发明人：金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;辛成健;郑世桓;张斗瑛;朴善周;权五焕 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2011-02-18 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： C11D7/32 文献下载
摘要：本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
沉积材料洗涤液组合利用洗涤方法

[发明专利]光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法-CN200910253786.7有效
发明人：郑钟铉;金俸均;朴弘植;洪瑄英;崔永柱;李炳珍;徐南锡;金炳郁;尹锡壹;郑宗铉;辛成健;许舜范;郑世桓;张斗瑛;朴善周;权五焕 -专利权人：三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2009-12-17 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：根据一个或多个实施方法提供光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法。在一个或多个实施方式中，所述组合物包括约5-30重量％的链状胺化合物、约0.5-10重量％的环状胺化合物、约10-80重量％的二醇醚化合物、约5-30重量％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。
光刻剥离组合薄膜晶体管阵列制造方法

[发明专利]光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法-CN200810185042.1无效
发明人：洪瑄英;朴弘植;郑锺铉;金俸均;李炳珍;金柄郁;郑宗铉;尹锡壹;辛成健;许舜范;郑世桓;张斗瑛 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2010-04-07 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法，所述光致抗蚀剂去除用组合物包含：a)包含环胺和/或二元胺的胺化合物，b)乙二醇醚类化合物，c)缓蚀剂和d)极性溶剂。所述组合物还包含剥离助剂。
光致抗蚀剂去除组合制造阵列方法

[发明专利]薄膜晶体管液晶显示器用热固性树脂的剥离剂组合物-CN200910166147.7无效
发明人：金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;辛成健;郑世桓;张斗瑛;朴善周;权五焕 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2009-08-14 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种剥离剂组合物，其在薄膜晶体管液晶显示器的制备工艺中，用于再利用薄膜晶体管液晶显示器的热固性树脂形成过程中产生的不良基板，包括：(a)0.5-15重量份的氢氧化铵或具有碳原子数为1-4个的烷基的烷基氢氧化铵化合物；(b)9-89重量份的具有碳原子数为1-4个的烷基的烷撑二醇醚；(c)10-40重量份的甘醇化合物；(d)0.01-5重量份的防腐剂；以及(e)0.1-5重量份的水。本发明的剥离剂组合物可以在短时间内去除彩色光阻、正性或负性有机绝缘层，并不会使作为下部膜质的无机绝缘层和各种金属布线受损，从而可以再利用滤色器基板和薄膜晶体管基板。
薄膜晶体管液晶显示器用热固性树脂剥离组合

[发明专利]等离子体显示器面板的介电层及障肋去除剂组合物-CN200910160899.2无效
发明人：郑世桓;金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;辛成健;张斗瑛;朴善周;权五焕 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2009-07-31 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： H01J9/00 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体显示器面板用的介电层及障肋去除剂组合物，特别涉及包含以下物质的去除剂组合物：(a)0.05～10重量％的无机盐化合物；(b)3～30重量％的烷基二元醇或其衍生物；(c)3～30重量％的乙二醇单烷基醚类或其衍生物；(d)0.5～10重量％的沸点等于或者高于160℃的有机胺；及(e)余量的水。该组合物不损坏介电层下部的电极层，且其渗透性及去除性能非常优秀，可以同时去除介电层及障肋。
等离子体显示器面板介电层去除组合

[发明专利]液晶显示器的滤色器阵列制造中的光刻胶剥离剂组合物-CN200910150246.6无效
发明人：金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;辛成健;郑世桓;张斗瑛;朴善周;权五焕 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及可适于在液晶显示器的滤色器阵列(color filter on array，COA)制造工艺中使用的光刻胶剥离剂组合物，特别涉及包含1-40重量％的水溶性有机胺化合物、3-40重量％的水、余量的水溶性有机溶剂，从而在制造液晶显示器的滤色器阵列结构时，无滤色器膨胀现象，金属防腐效果及感光膜去除效果均很优秀的光刻胶剥离剂组合物。该组合物可适于在液晶显示器的滤色器阵列制造工艺中使用。
液晶显示器滤色器阵列制造中的光刻剥离组合

[发明专利]光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法-CN200810174803.3有效
发明人：洪瑄英;朴弘植;郑锺铉;金俸均;李智鲜;李炳珍;金柄郁;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2008-10-31 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。
光致抗蚀剂剥离组合方法以及显示装置制法

[发明专利]用于剥离的组合物以及剥离方法-CN200810211419.6无效
发明人：李智鲜;朴弘植;郑钟铉;洪瑄英;金俸均;李炳珍;金柄郁;郑宗铉;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范;郑世桓;张斗瑛 -专利权人：三星电子株式会社;东进世美肯株式会社
申请日： 2008-09-22 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够容易地剥离在基板上形成的颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜以当在基板上形成滤色片或有机绝缘薄膜过程中发现缺陷时重新使用该基板。在一种具体实施方式中，剥离组合物包括约0.5至约45wt％的氢氧化合物、约10至约89wt％的烷撑二醇烷基醚化合物、约5至约45wt％的链烷醇胺化合物、以及约0.01至约5wt％的无机盐化合物。有利地，剥离过程可以在不损坏下基板的薄膜晶体管同时除去颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜的情况下实施。
用于剥离组合以及方法

[发明专利]用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物-CN200810210852.8有效
发明人：金柄郁;尹锡壹;金圣培;郑宗铉;许舜范;辛成健;郑世桓;张斗瑛 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2008-08-20 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
用于薄膜晶体管液晶显示器彩色光阻剂剥离溶液组合

[发明专利]用于去除光刻胶的稀释剂组合物-CN200680041062.0无效
发明人：朴熙珍;辛成健;尹锡壹;金柄郁 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2006-11-07 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于去除用在半导体器件、液晶显示器或有机发光器件的制备中的光刻胶的稀释剂组合物，并且更具体地，涉及一种包含二元醇醚化合物，特别地作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物的用于去除光刻胶的稀释剂组合物。本发明的用于去除光刻胶的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除用于有机EL的玻璃基板和用于制备液晶显示器的那些基板的边沿和背面的多余的光刻胶，而无论所使用的特定的光刻胶。
用于去除光刻稀释剂组合

[发明专利]光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法-CN200810092008.X有效
发明人：洪瑄英;朴弘植;郑钟铉;金俸均;申原硕;李智鲜;李炳珍;金炳郁;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范 -专利权人：三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2008-02-20 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物，其包括约80重量％－约98.5重量％的γ－丁内酯、约1重量％－约10重量％的氨基甲酸烷基酯、约0.1重量％－约5重量％的烷基磺酸和约0.1重量％－约5重量％的非离子型表面活性剂。可将该光刻胶剥离组合物再度用于从基板上剥离光刻胶膜而不降低剥离能力和损坏金属图案，使得可以降低光刻工艺的成本。
光刻剥离组合使用胶膜方法

[发明专利]光刻胶剥离剂组合物-CN200710145306.6无效
发明人：金圣培;尹锡壹;许舜范;辛成健;金柄郁 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2007-09-07 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。
光刻剥离组合

1
2
下一页»
尾页
共 19 条