专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多元共蒸发制备铟镓类多晶薄膜的方法-CN200810052489.1有效
  • 孙云;乔在祥;李胜林;何青;张德贤;周志强 - 南开大学
  • 2008-03-21 - 2008-08-20 - C23C14/26
  • 一种多元共蒸发制备铟镓类多晶薄膜的方法。该方法包括:将衬底与铟、镓蒸发源置入真空镀膜系统的钟罩内抽真空;将衬底均匀加热至200-600℃之间,并保持这一衬底温度;同时打开、铟、镓蒸发源的加热电源,分别控制其蒸发温度,加热至300-500℃之间,铟加热至400-1200℃之间,镓加热至500-1300℃之间,使其各自蒸发,可分别制备出化镓(GaSb)、化铟(InSb)或铟镓(InGaSb)等多晶化合物半导体薄膜。通过调节、镓和铟等蒸发源温度,控制各元素的蒸发速率,可得到不同比例的铟镓(InGaSb)类薄膜材料,从而调节材料的禁带宽度。
  • 多元蒸发制备铟镓锑类多晶薄膜方法
  • [发明专利]掺杂的硅和硅锗膜的原位制备的方法-CN201910614722.9有效
  • S.B.赫纳;E.哈拉里 - 日升存储公司
  • 2019-07-09 - 2023-10-17 - H01L21/205
  • 一种用于形成掺杂的含硅层的工艺,包含:(a)使用气体和硅气体或硅气体和锗气体的组合,通过化学气相沉积在半导体结构上方沉积掺杂的含硅层;以及(b)在不大于800℃的温度下退火掺杂的含硅层。气体可以包含以下中的一种或多种:三甲基(TMSb)和三乙基(TESb)。硅气体包括以下中的一种或多种:硅烷、二硅烷、三氯硅烷(TCS)、二氯硅烷(DCS)、一氯硅烷(MCS)、甲基硅烷,以及四氯化硅。锗气体包括锗烷。
  • 掺杂硅锗膜原位制备方法
  • [发明专利]一种用于离子电池负极的碳包覆多孔材料的制备方法-CN201710541003.X在审
  • 鞠治成;王宏;赵伟;戚秀君;崔永丽;史月丽 - 中国矿业大学
  • 2017-07-05 - 2017-10-20 - H01M4/36
  • 一种用于离子电池负极的碳包覆多孔材料的制备方法,属于碳包覆多孔材料的制备方法。碳包覆多孔材料的制备方法采用溶液和碳源搅拌吸收、均匀分散混合、碳化步骤,调控反应过程中技术参数,制备得到多孔碳包覆的结构,获得碳包覆多孔材料;将碳包覆多孔材料作为离子电池负极材料,制作成电极片;具体的将融入溶剂缓慢加到碳源中通过搅拌并不断加入分散剂使充分扩散混合,和碳源比约为110到11,并在惰性气氛中碳化1‑10小时,清洗后干燥得到所需材料。优点方法简单,原料廉价易得,操作步骤可控性高,通过调控反应过程中的参数,实现对碳包覆材料的廉价、规模化生产,并将其应用做离子电池的负极材料。
  • 一种用于离子电池负极碳包覆锑多孔材料制备方法
  • [发明专利]一种高温液相可控合成纳米片的方法-CN202010534643.X有效
  • 何学侠;左甜甜;韩玉 - 陕西师范大学
  • 2020-06-12 - 2022-09-30 - B22F9/24
  • 本发明公开了一种高温液相可控合成纳米片的方法,该方法以三氯化、油酸‑油胺‑十八稀为混合溶剂,其中油酸作配体,油胺作还原剂,在惰性气体的气氛中,加热至260~320℃,油胺将三价离子还原为金属,油酸吸附其表面抑制了纵向生长,从而大量制备出纳米片。通过调节反应时间、反应温度、的浓度及冷却速度,能够实现对纳米片尺寸和厚度的调节。本发明反应过程简单,耗时短、方法成本低,可以实现高产量、高纯度、高质量、尺寸厚度可调控的纳米片的制备。
  • 一种高温可控合成纳米方法
  • [发明专利]取向诱导生长的硒化薄膜及其制备方法与薄膜太阳电池-CN202110332393.6在审
  • 梁广兴;陈国杰;林锦鸿;陈烁;郑壮豪 - 深圳大学
  • 2021-03-29 - 2021-07-09 - C23C14/06
  • 本发明公开了一种取向诱导生长的硒化薄膜及其制备方法与薄膜太阳电池,包括:将硒化和衬底放置于空间升华炉内,通过近空间升华法在所述衬底上沉积硒化,得到硒化前驱膜;将硒和所述硒化前驱膜放置于双温区管式炉中,通过硒对所述硒化前驱膜进行硒化退火,得到沉积于所述衬底上的硒化薄膜。本发明通过具有择优取向的硒化前驱膜取向诱导生长制备硒化薄膜,制备出的硒化薄膜为具有择优取向大晶粒生长的薄膜,将该硒化薄膜应用于硒化薄膜太阳电池,可以克服现有强各异性硒化薄膜导致的载流子产生及传输受限问题,减少硒化薄膜太阳电池开路电压亏损,提高硒化薄膜太阳电池效率。
  • 取向诱导生长硒化锑薄膜及其制备方法太阳电池

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