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[发明专利]一种抛光液回收装置及其控制方法-CN201910831069.1在审
发明人：祝斌;武卫;孙晨光;刘建伟;由佰玲;刘园;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;裴坤羽;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光液回收装置，包括粗抛单元和回收单元，粗抛单元包括粗抛液混合桶和粗抛液缓冲桶，粗抛液缓冲桶输入端与粗抛液混合桶连通，输出端与抛光机连通；回收单元包括粗抛液回收桶、PH检测仪、粗抛液中转桶和KOH原液桶，粗抛液回收桶与抛光机输出端连通，PH检测仪输入端与粗抛液回收桶输出端连通，PH检测仪输出端分别与粗抛液混合桶和粗抛液中转桶的输入端连通；KOH原液桶输出端分别与粗抛液中转桶和粗抛混合桶输入端连通本发明设计的粗抛液回收装置，结构设计合理且可控性高，粗抛液PH稳定且回收利用率高，硅片表面平整度一致性好，自动化程度高，生产效率高。
粗抛液连通输出端混合桶输入端回收桶中转桶粗抛抛光液回收装置回收单元缓冲桶抛光机原液桶硅片表面回收装置生产效率一致性好可控性平整度自动化回收

[实用新型]一种抛光液回收装置-CN201921459652.6有效
发明人：祝斌;武卫;孙晨光;刘建伟;由佰玲;刘园;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;裴坤羽;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种抛光液回收装置，包括粗抛单元和回收单元，粗抛单元包括粗抛液混合桶和粗抛液缓冲桶，粗抛液缓冲桶输入端与粗抛液混合桶连通，输出端与抛光机连通；回收单元包括粗抛液回收桶、PH检测仪、粗抛液中转桶和KOH原液桶，粗抛液回收桶与抛光机输出端连通，PH检测仪输入端与粗抛液回收桶输出端连通，PH检测仪输出端分别与粗抛液混合桶和粗抛液中转桶的输入端连通；KOH原液桶输出端分别与粗抛液中转桶和粗抛液混合桶输入端连通本实用新型设计的粗抛液回收装置，结构设计合理且可控性高，粗抛液PH稳定且回收利用率高，硅片表面平整度一致性好，自动化程度高，生产效率高。
一种抛光回收装置

[实用新型]一种液压油缸活塞杆的高效组合抛光机-CN201820735433.5有效
发明人：傅辉明 -专利权人：泉州市金霞机械配件有限公司
申请日： 2018-05-17 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： B24B21/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种液压油缸活塞杆的高效组合抛光机，主要包括有底座、滑轨、滑动座、第一粗抛机、第二粗抛机以及精抛机，第一粗抛机、第二粗抛机和精抛机均配设抛光机构，所述滑轨设在底座上，所述滑动座上装载待抛活塞杆并且滑动座滑动设置在滑轨上，所述第一粗抛机、第二粗抛机和精抛机设在滑轨上，并且精抛机的抛光机构设置在第一粗抛机的抛光机构和第二粗抛机的抛光机构之间。与现有技术相比，本实用新型在底座上设置了若干个粗抛机和精抛机且精抛机设置在粗抛机之间，从而使滑动座在滑轨内往返的过程中都能对待抛活塞杆进行抛光，解决了传统抛光机利用率低的问题，达到了提高抛光机抛光效率的目的
粗抛机精抛机滑轨抛光机构滑动座底座液压油缸活塞杆本实用新型高效组合活塞杆抛光机传统抛光机抛光机抛光滑动设置抛光装载往返

[发明专利]一种抛光液配置装置及其控制方法-CN201910831071.9在审
发明人：祝斌;武卫;孙晨光;刘建伟;由佰玲;刘园;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;裴坤羽;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： B01F13/10 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光液配置装置及其控制方法，粗抛单元包括粗抛原液组和粗抛混合桶，粗抛原液组与粗抛混合桶连通，粗抛混合桶与抛光机连通；精抛单元包括精抛原液组和精抛混合桶，精抛原液组与精抛混合桶连通，精抛混合桶与抛光机连通；表面活性单元包括表面活性原液组和表面活性混合桶，表面活性原液组与表面活性混合桶连通，表面活性混合桶与抛光机连通；纯水单元与粗抛混合桶、精抛混合桶和表面活性混合桶连通；在粗抛混合桶、精抛混合桶和表面活性混合桶内均设有循环泵
混合桶表面活性粗抛精抛原液连通抛光机抛光液循环泵纯水单元纯水溶剂硅片表面配置装置生产效率滴定配置溶质自动化

[实用新型]一种抛光液配置装置-CN201921459628.2有效
发明人：祝斌;武卫;孙晨光;刘建伟;由佰玲;刘园;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;裴坤羽;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B01F13/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种抛光液配置装置，粗抛单元包括粗抛原液组和粗抛混合桶，粗抛原液组与粗抛混合桶连通，粗抛混合桶与抛光机连通；精抛单元包括精抛原液组和精抛混合桶，精抛原液组与精抛混合桶连通，精抛混合桶与抛光机连通；表面活性单元包括表面活性原液组和表面活性混合桶，表面活性原液组与表面活性混合桶连通，表面活性混合桶与抛光机连通；纯水单元与粗抛混合桶、精抛混合桶和表面活性混合桶连通；在粗抛混合桶、精抛混合桶和表面活性混合桶内均设有循环泵
一种抛光配置装置

[发明专利]平面抛光设备-CN201610842612.4在审
发明人：罗迎红 -专利权人：罗迎红
申请日： 2016-09-21 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面抛光设备，其特征在于，它包括机架及其上设置的粗抛装置、精抛装置和输送装置，粗抛装置、精抛装置分别设置在输送装置的上方，粗抛装置包括设置在机架上的粗抛升降导向机构，升降架包括活动设置在粗抛升降导向机构上的升降架、驱动升降架上下移动的粗抛升降动力装置和设置在升降架上的粗抛机构。
平面抛光设备

[发明专利]一种锑化镓晶片的双面抛光方法及锑化镓双抛片-CN202111277261.4有效
发明人：唐林锋;宋向荣;周铁军;马金峰;刘火阳;廖和杰 -专利权人：广东先导微电子科技有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明涉及半导体材料的加工技术领域，尤其涉及一种锑化镓晶片的双面抛光方法及锑化镓双抛片。所述锑化镓晶片的双面抛光方法包括以下步骤：A)采用粗抛试剂对锑化镓晶片进行双面粗抛；所述粗抛试剂包括硅溶胶抛光液、氧化剂、缓冲剂、抛光离子增强剂和水；B)将所述粗抛后的锑化镓晶片采用精抛试剂进行双面精抛，得到锑化镓双抛片；所述精抛试剂包括硅溶胶抛光液、氧化剂、缓冲剂和水。本发明提供的锑化镓晶片的双面抛光方法包括两步抛光：双面粗抛和双面精抛。通过采用特定的粗抛试剂和精抛试剂进行双面粗抛和双面精抛，最终制备的锑化镓双抛片平整度较高，粗糙度较低。
一种锑化镓晶片双面抛光方法锑化镓双抛片

[实用新型]一种用于硬脆性材料抛光机的粗抛抛光头装置-CN201920132914.1有效
发明人：傅林坚;曹建伟;朱亮;周锋;卢嘉彬;吴世平;刘小琴;郑猛;马旭 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：本实用新型属于硬脆性材料加工设备领域，具体的涉及一种用于硬脆性材料抛光机的粗抛抛光头装置。包括粗抛抛头组件；粗抛抛头组件包括内部中空的粗抛旋转轴；粗抛旋转轴内部设有中心轴，中心轴底端伸出粗抛旋转轴并连接楔形支撑块，楔形支撑块外连接粗抛抛头；中心轴顶端连接中心轴连接块，中心轴连接块顶端通过中心轴法兰与连接轴相连；中心轴内底端设有气动旋转接头，连接轴、中心轴连接块中心均设有竖向通孔，通孔间通过气管与接头连通，气管与气动旋转接头相连；中心调压缸筒顶端连接粗抛抛头，底端开口，内部设有调压滑动块，调压滑动块底部连接抛头压板
粗抛中心轴抛头硬脆性材料旋转轴气动旋转接头本实用新型抛光头装置楔形支撑块滑动块连接轴抛光机抛光底端调压气管硬脆性材料加工表面平整度底部连接底端开口顶端连接内部中空设备领域竖向通孔组件包括调压缸筒顶端外连接法兰通孔压板连通伸出保证

[发明专利]一种锑化镓晶片的单面抛光方法及锑化镓抛光片-CN202111277255.9有效
发明人：唐林锋;宋向荣;马金峰;周铁军;刘火阳;廖和杰 -专利权人：广东先导微电子科技有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：所述锑化镓晶片的单面抛光方法包括以下步骤：A)采用粗抛试剂对锑化镓晶片进行单面粗抛；所述粗抛试剂包括硅溶胶抛光液、双氧水、柠檬酸钠、焦磷酸钠和水；B)将所述粗抛后的锑化镓晶片采用精抛试剂进行单面精抛，得到锑化镓抛光片；所述精抛试剂包括硅溶胶抛光液、氧化剂和水。本发明提供的锑化镓晶片的单面抛光方法包括两步抛光：单面粗抛和单面精抛。通过采用特定的粗抛试剂和精抛试剂进行单面粗抛和单面精抛，最终制备的锑化镓抛光片的抛光面平整度较高，粗糙度较低。
一种锑化镓晶片单面抛光方法

[发明专利]不锈钢件表面自动抛光装置系统-CN201310223617.5在审
发明人：孙争鸣;孙争荣 -专利权人：孙争鸣
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：一种不锈钢件表面自动抛光装置系统，包括机箱、引风机(引风排尘装置)、循环传送带(循环式传送装置)、不锈钢件、模具、粗抛机磨头、细抛机磨头、精抛机磨头、精抛机(布带式精抛光机)、细抛机(细沙布带式抛光机)、粗抛机(粗沙布带式抛光机)，其特征是：粗抛机、细抛机、精抛机同向等距安装在机箱外，粗抛机磨头、细抛机磨头、精抛机磨头从机箱壁开口伸入机箱内并处于同一条直线上，循环传送带从机箱两侧壁的开口延伸到机箱外，粗抛机磨头、细抛机磨头、精抛机磨头底面稍低于循环传送带上的不锈钢件的上表面，循环传送带上的模具之间的距离与粗抛机磨头、细抛机磨头、精抛机磨头之间的距离相等，机箱后壁开口接引风机。
不锈钢表面自动抛光装置系统

[发明专利]粗抛添加剂、粗抛组合物及抛光方法-CN202010390617.4在审
发明人：刘平;唐斌;王天宇;杜秋文;曾书和;苏禹宾 -专利权人：广东长盈精密技术有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种粗抛添加剂、粗抛组合物及抛光方法。以体积份数计，该粗抛添加剂包括7份～15份的植物油、50份～73份的粗抛液和15份～38份的溶剂，粗抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水，氧化铝颗粒的粒径为1μm～10μm。
添加剂组合抛光方法

[发明专利]一种锗晶片的双抛工艺、装置及锗晶片-CN202210244203.X在审
发明人：杨红英 -专利权人：北京爱瑞思光学仪器有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种锗晶片的双抛工艺、装置及锗晶片，用于同时对锗晶片进行双面抛光，其中，包括：第一粗抛工序采用第一粗抛光液和第一抛光布；第二粗抛工序采用第二粗抛光液和第一抛光布；第一精抛工序采用第一细抛光液和第二抛光布；第二精抛工序采用第二细抛光液和第二抛光布；各工序中转速的关系为：第一粗抛工序＜第二粗抛工序＜第一精抛工序＜第二精抛工序；第一抛光布的硬度大于第二抛光布的硬度；各工序中抛光温度为35℃～40℃。本申请实施例提供的锗晶片的双抛工艺，采用两次粗抛和两次精抛的组合方式，通过匹配不同的参数，实现化学抛光和机械抛光之间的匹配，实现锗晶片的快速抛光，并取得较好的精抛表面质量。
一种晶片工艺装置

[实用新型]多功能大米抛光辊筒-CN95236602.9无效
发明人：谭华建 -专利权人：谭华建
申请日： 1995-04-12 - 公布日： 1996-04-17 - 主分类号： B02B3/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种多功能大米抛光辊筒，它由粗抛辊和精抛辊组成，在粗抛辊表面上有凸筋，在精抛辊上开有槽。它具有粗抛、精抛和擦米多种功能，其结构使得在大米在粗抛光过程中受到的挤压力是逐渐增加的，进入精抛后的大米其米粒与米粒之间、米粒与米腔内壁之间的相互作用较在粗抛时的作用要小些，而精抛辊与米粒表面的摩擦和压力起主要作用
多功能大米抛光

[实用新型]一种保温杯自动抛光机的磨抛装置-CN201820571066.X有效
发明人：余鹏;叶大楠;彭兴元;包春晶 -专利权人：广东诺巴特智能设备有限公司
申请日： 2018-04-20 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种保温杯自动抛光机的磨抛装置，包括底板，所述底板上设有支撑架，支撑架上设有杯身粗抛机构、杯身精抛机构和杯口精抛机构，杯身粗抛机构、杯身精抛机构和杯口精抛机构上均设有滑动块，滑动块上设有导孔，导孔内设有竖直导杆，竖直导杆固定于支撑架上，杯身粗抛机构、杯身精抛机构和杯口精抛机构均连接有升降驱动机构。本实用新型设置有杯身粗抛机构、杯身精抛机构和杯口精抛机构，可分别对保温杯进行杯身粗抛、杯身精抛和杯口精抛作业，各机构连接的升降驱动机构可根据工序需要依次将各机构升起启动，从而实现保温杯的工序化抛光，抛光可靠
杯身精抛保温杯杯口粗抛支撑架底板升降驱动机构本实用新型自动抛光机磨抛装置竖直导杆滑动块抛光导孔机构连接

[发明专利]一种大尺寸硅片双面抛光方法-CN202110286017.8在审
发明人：祝斌;武卫;刘建伟;刘园;刘姣龙;裴坤羽;杨春雪;由佰玲;孙晨光;王彦君;常雪岩;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种大尺寸硅片双面抛光方法，步骤包括：控制置于硅片上方的压盘压力，并选择相应粒径的粗抛液对所述硅片双面进行粗抛；再调整所述压盘压力，并选择相应粒径的精抛液对所述硅片双面进行精抛；所述粗抛液或所述精抛液经同一主管道通过所述压盘流至设于所述硅片双侧的上抛垫和下抛垫；所述精抛液至少包括多元醇类化合物；且所述粗抛液和所述精抛液均包括SiO2和NH4OH的混合液。本发明依次对硅片经过粗抛、精抛之后，再在硅片双面进行水膜处理，即可以完全清除硅片表面的黏着剂，清洗效果好；亦可获得0.5μm以内的平坦度。
一种尺寸硅片双面抛光方法

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