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[发明专利]一种具有粗精抛光一体设计的抛光机构-CN202111398351.9在审
发明人：吕志华;黄冠然 -专利权人：广东日钢机械有限公司
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有粗精抛光一体设计的抛光机构，包括安装板，安装板顶部安装有导轨，导轨滑动连接有活动座，活动座的一侧设有螺纹孔，螺纹孔内安装有固定螺丝，安装板在导轨的一侧安装有固定座，活动座与固定座均安装有夹持装置，固定座上侧的夹持装置安装有第一电机，安装板在夹持装置的两侧设有调节槽，调节槽内安装有粗抛装置，另一侧调节槽内安装有精抛装置，安装板在粗抛装置的下侧安装有第一调节装置，第一调节装置与粗抛装置相连接，安装板在精抛装置的下侧安装有第二调节装置，第二调节装置与精抛装置相连接。
一种具有抛光一体设计机构

[发明专利]一种医药胶囊打磨抛光机-CN201711439787.1有效
发明人：徐自强 -专利权人：新昌县南明街道晨升信息咨询服务部
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明涉及医药生产设备技术领域，具体涉及一种医药胶囊打磨抛光机，包括机体、位于机体的下方的收料机构和位于机体的下方的集废机构；机体内部设置有打磨抛光装置，打磨抛光装置包括转轴、与转轴固定连接的粗抛斗、位于粗抛斗下方的精抛斗，粗抛斗内设置有螺旋退料桨片，粗抛斗的外表面设有螺旋状的第一刷毛，精抛斗的内表面设有与第一刷毛呈相反螺旋状的第二刷毛，机体的上方设有驱动转轴转动的第一驱动电机。
粗抛转轴刷毛打磨抛光装置打磨抛光机抛光效果医药胶囊螺旋状风选精抛胶囊医药生产设备分级抛光机体内部空壳胶囊驱动电机驱动转轴收料机构中空结构内表面桨片退料转动

[实用新型]一种镍合金不锈钢圆钢抛光机-CN201620244618.7有效
发明人：项炳和 -专利权人：福建青拓镍业有限公司
申请日： 2016-03-28 - 公布日： 2016-12-28 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镍合金不锈钢圆钢抛光机，包括抛光台，所述抛光台的下方设置有抛光机底架，所述抛光台的上表面设置有精抛凹槽，所述精抛凹槽的右侧设置有精抛装置，所述精抛凹槽的左下方设置有第三驱动电机，所述抛光台的上表面的右端设置有粗抛凹槽，所述粗抛凹槽的右侧设置有粗抛装置，所述抛光台和圆钢盛放装置的上端通过螺栓固定安装输送导轨，所述粗抛凹槽的左下方设置有第二驱动电机，所述圆钢盛放装置安装在抛光台的右侧。
一种镍合金不锈钢圆钢抛光机

[发明专利]一种去除硅片表面颗粒的抛光工艺-CN202211245952.0在审
发明人：袁祥龙;刘园;武卫;刘建伟;祝斌;刘姣龙;裴坤羽;孙晨光;王彦君;张宏杰;由佰玲;常雪岩;杨春雪;谢艳;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2022-10-12 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种去除硅片表面颗粒的抛光工艺，至少对抛光后的硅片进行一次粗抛和一次精抛；在粗抛所用的粗抛液中加入活性剂，且加入活性剂的时间小于粗抛的时间。
一种去除硅片表面颗粒抛光工艺

[实用新型]瓷质薄板砖定厚粗抛机-CN200820203101.9无效
发明人：孙志伟;丘兆才;隋旭东 -专利权人：广东科达机电股份有限公司
申请日： 2008-11-10 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种瓷质薄板砖定厚粗抛机。其包括机架、输送皮带、横梁、横梁支座及粗抛磨头，所述粗抛磨头设有磨头转动驱动机构、磨头进给驱动机构及磨头箱体；所述粗抛磨头设有内置于磨头箱体的磨头滑移机构，磨头进给驱动机构与磨头箱体固定连接且与磨头滑移机构传动连接本实用新型的粗抛磨头具有定深或限深、恒压磨削功能，对提高抛光效率和抛光质量、降低加工过程中瓷质薄板砖的碎裂损耗极为有利，同时可在原有定厚粗抛机基础上加装瓷质薄板砖的矫平装置，能有效消除瓷质薄板砖的宏观变形
薄板砖定厚粗抛机

[发明专利]硅晶圆抛光制程方法-CN201210266115.6在审
发明人：李彬;贺贤汉;金文明;余图斌 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： B24B37/02 文献下载
摘要：本发明硅晶圆抛光制程方法，包括如下步骤：S1，前洗净；S2，贴付；S3，粗抛；S4，中抛；S5，精抛；S6，剥离；S7，去蜡洗净；其中所述粗抛、所述中抛及所述精抛分别包括，S1.1，前减压水抛；S1.2，加压研磨液抛光；S1.3，后减压水抛；在所述粗抛及所述精抛中的所述后减压水抛之后加有减压表面活性剂抛光步骤。
硅晶圆抛光方法

[发明专利]一种四英寸80微米砷化镓双抛片的制作方法-CN202011426084.7有效
发明人：李穆朗;李宁;张晓光 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十六研究所
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种四英寸80微米砷化镓双抛片的制作方法。按如下步骤进行：厚度分选：砷化镓减薄片分选厚度120±5µm，每10片一组，厚度差小于等于3µm；配制粗抛液，将游星轮均匀放置在抛光盘面上，然后将选好的砷化镓减薄片背面向上放置在游星轮孔洞中，自查游星轮和砷化镓晶片自旋状况；双面粗抛程序；双面粗抛加工砷化镓晶片厚度至90µm；清洗甩干；贴膜；对背面贴膜的砷化镓晶片进行二次单面无蜡粗抛，加工至砷化镓晶片厚度80µm，清洗甩干；脱膜。本发明的实施，可以将120微米左右的砷化镓减薄片通过双面粗抛得到四英寸80微米双抛片，在保证表面质量的前提下整体平整度低于3µm，满足了市场需求，填补了技术空白。
一种英寸 80 微米砷化镓双抛片制作方法

[发明专利]矩形光学元件侧面加工的柔性装置和加工方法-CN202210627907.5在审
发明人：顿爱欢;侯瑞;嵇文超;曹俊;杨扬;刘斌;徐学科;吴福林 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：加工方法包括待加工矩形光学元件的装夹、粗抛、精抛及相应的测量。本发明适用于矩形片状光学元件的加工。实现元件粗抛和精抛的一次性装夹，有效保证加工的效率和精度；双工位同时加工，极大缩短了加工周期；柔性夹具可根据待加工元件的楔角角度实现快速换型；采用精密大理石和陪抛片，陪抛片与所述的待加工矩形光学元件的材质相同本发明适用于矩形片状光学元件高效、稳定、高精度、低成本的光学研抛，尤其适用于带有一定楔角的光学元件侧面或小平面的粗抛和精抛加工。
矩形光学元件侧面加工柔性装置方法

[实用新型]一种用于汽车饰条类磨抛装置-CN202121606785.9有效
发明人：冉立庆 -专利权人：湖北敏实汽车零部件有限公司
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型属于汽车装饰条生产工装技术领域，提供了一种用于汽车饰条类磨抛装置，包括磨抛更换区、分级磨抛区、产品放置区、产品抓取机构以及磨抛定位机构，磨抛更换区设置有磨抛盘更换机构，分级磨抛区设置有多个工作位，每个工作位下具有磨抛驱动机构，产品抓取机构位于产品放置区的上端，磨抛定位机构位于工作位上方，待磨抛的产品由产品抓取机构抓取后放置到工作位，并由磨抛定位机构定位后在磨抛驱动机构带动后进行磨抛。本实用新型的优点在于利用磨抛装置能够自动完成磨抛盘更换，实现半粗抛、粗抛、半精抛以及精抛等方式，整体结构简单，自动化程度高，安装方便，提高磨抛效率。
一种用于汽车饰条类磨抛装置

[发明专利]一种稳定型砂带机-CN201910264104.6在审
发明人：徐锦标;廖福;郭庆涛;朱顾新;张志伟 -专利权人：江苏准信自动化科技股份有限公司
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种稳定型砂带机，包括机架，机架上从上往下分别安装精抛带组、中抛带组合粗抛带组，机架一侧安装有主管路，主管路一端连通切削液储存箱，主管路上连接支管，支管端部分别安装第一喷头、第二喷头和第三喷头，第一喷头设置在精抛带组上方，第二喷头设置在中抛带组上方，第三喷头设置在粗抛带组上方，本发明结构设计新颖，能够实现对工件的快速打磨，实现对工件的粗磨、中磨和精磨，打磨均匀性好，提高了工件质量。
喷头喷头设置粗抛带机精抛打磨均匀性好连接支管支管端部储存箱切削液主管路粗磨精磨连通主管

[实用新型]一种多机连抛装置-CN202023307377.1有效
发明人：任明元;梁春;张景斌;刘文平;张稳焕 -专利权人：苏州博宏源机械制造有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多机连抛装置，包括移动料车、机械手和陶瓷盘，所述移料车的中部设置有上料机构，所述上料机构的一侧设置有陶瓷盘，所述移动料车上表面一侧固定连接入口接盘盒一端，所述入口接盘盒的另一端固定连接粗抛机，所述粗抛机的设置在驱动箱的上表面，所述粗抛机与驱动箱之间设置有机械手，所述粗抛机的一侧通过中部接盘盒固定连接细抛机，所述细抛机的一侧通过中部接盘盒固定连接精抛机。
一种多机连抛装置

[发明专利]碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用-CN201510990523.X在审
发明人：刘玉岭;王月霞;牛新环 -专利权人：天津晶岭微电子材料有限公司
申请日： 2015-12-25 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用，主要由SiO₂水溶胶磨料、FA/OⅠ型非离子表面活性剂、FA/OⅡ型螯合剂和双氧水组成碱性铜粗抛液，其特征是：所述碱性铜粗抛液的FA/OⅠ型表面活性剂在GLSI多层铜布线CMP铜膜的高速率下提高粗抛高一致性的应用。
碱性铜粗抛液提高 glsi 多层布线铜膜粗抛一致性应用

[发明专利]一种太阳能单晶制绒工艺-CN202011164592.2在审
发明人：刘杰;张泽泽;申争浩;刘栩瑞;刘照敏 -专利权人：山西潞安太阳能科技有限责任公司
申请日： 2020-10-27 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明所采用的技术方案是：一种太阳能单晶制绒工艺，切割好的硅片，不采用粗抛工艺，进行清洗后，直接进行制绒，然后安前清洗、纯水漂洗、制绒、纯水漂洗、后清洗、纯水漂洗、混酸洗、纯水漂洗、慢提拉、烘干。本发明的有益效果是：不使用粗抛槽不仅能节省粗抛槽氢氧化钠带来的成本，还可以形成小绒面，因为粗抛后绒面会初步有一个大的塔基，直接决定制绒后绒面的大小，所以不使用粗抛，绒面会减小1‑2微米，小绒面具有更低的反射率
一种太阳能单晶制绒工艺

[实用新型]一种粗抛用磨具-CN202122942485.4有效
发明人：苏芳平;秦有明 -专利权人：佛山市博扬超硬材料有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： B24D5/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。本实用新型提供的粗抛用磨具，所述磨具通过设置大小不一的磨齿，使磨块既具有较大的磨抛速度，又能在粗抛的同时对砖面凹陷位进抛光，提高磨抛的效率和精度，为后续的中抛和精抛提供更为平整的砖面。
一种粗抛用磨具

[发明专利]一种抛光设备-CN201911418971.7在审
发明人：杨兆明;颜凯;中原司 -专利权人：浙江芯晖装备技术有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明提供的抛光设备，包括工作台、抛光盘模组和抛光头模组，抛光头模组包括抛光头和抛光头驱动装置，在工作台上依次设置上下料工位、粗抛工位、中抛工位和精抛工位，并在粗抛工位、中抛工位和精抛工位三个工位上设置抛光盘装置，由抛光头驱动装置驱动抛光头携带硅片与相应工位上的抛光盘装置相配合，该抛光设备中的各个工序的作业机构布局合理，能够同时进行粗抛光、中抛光和精抛光，抛光效率高。此外，该抛光设备，在整个抛光作业流程中，均由一个抛光头携带硅片依次进行粗抛光、中抛光以及精抛光，减少硅片转移过程中造成的损坏，提高硅片良品率。
一种抛光设备